Wyniki wyszukiwania

Wynik wyszukiwania

1/44
Nr opisu: 0000135214
Structure and corrosion behavior of TiO2 thin films deposited onto Mg-based alloy using magnetron sputtering and sol-gel.
[Aut.]: Aneta Kania, Wirginia Pilarczyk, Magdalena Szindler.
-Thin Solid Films 2020 vol. 701, art. no. 137945 s. 1-7, bibliogr. 28 poz.. Impact Factor 2.030. Punktacja MNiSW 70.000

dwutlenek tytanu ; powłoka cienka ; morfologia powierzchni ; analiza strukturalna ; chropowatość powierzchni ; zachowanie elektrochemiczne ; ochrona przed korozją ; płyn Ringera

titanium dioxide ; thin film ; surface morphology ; structural analysis ; surface roughness ; electrochemical behavior ; corrosion protection ; Ringer's solution

2/44
Nr opisu: 0000125508
Atomic and electronic structure of graphene oxide/Cu interface.
[Aut.]: D. W. Boukhvalov, E. Z. Kurmaev, Ewelina* Urbańczyk, G. Dercz, Agnieszka Stolarczyk, Wojciech Simka, A. I. Kukharenko, I. S. Zhidkov, A. I. Slesarev, A. F. Zatsepin, S. O. Cholakh.
-Thin Solid Films 2018 vol. 665, s. 91-108, bibliogr. 59 poz.. Impact Factor 1.888. Punktacja MNiSW 30.000

grafen ; tlenek grafenu ; zredukowany tlenek grafenu ; teoria funkcjonału gęstości ; rentgenowska spektroskopia fotoelektronów ; przewodność

graphene ; graphene oxide ; reduced graphene oxide ; Density Functional Theory ; X-ray photoelectron spectroscopy ; conductivity

3/44
Nr opisu: 0000112434
Preface. Special Issue IX International Workshop on Semiconductor Gas Sensors-SGS'2015.
[Aut.]: Monika Kwoka.
-Thin Solid Films 2016 vol. 618 pt. B, iss. SI, s. 231

4/44
Nr opisu: 0000107435
Silica layers as masks in Ag⁺-Na⁺ ion exchange processes.
[Aut.]: Roman Rogoziński, Cuma Tyszkiewicz, Paweł Karasiński, Michał** Żelechower, Janusz** Szala.
-Thin Solid Films 2016 vol. 615, s. 122-127, bibliogr. 25 poz.. Impact Factor 1.879. Punktacja MNiSW 30.000

warstwa krzemionkowa ; zol-żel ; wymiana jonowa ; światłowód paskowy

silica film ; sol-gel ; ion-exchange ; channel waveguide

5/44
Nr opisu: 0000110493
Study of optical and electrical properties of thin films of the conducting comb-like graft copolymer of polymethylsiloxane with poly(3-hexyltiophene) and poly(ethylene) glycol side chains for low temperature NO₂ sensing.
[Aut.]: Erwin Maciak, Marcin Procek, Kinga Kępska, Agnieszka Stolarczyk.
-Thin Solid Films 2016 vol. 618 Pt B, s. 277-285, bibliogr. 39 poz.
Referat wygłoszony na: IX International Workshop on Semiconductor Gas Sensors - SGS'2015. Impact Factor 1.879. Punktacja MNiSW 30.000

poli(3-heksylotiofen) ; polimer szczepiony ; czujnik gazu ; półprzewodnik organiczny ; powierzchniowy rezonans plazmonowy ; polimer przewodzący ; cienka powłoka ; chemirezystancyjny czujnik

poly(3-hexylthiophene) ; graft polymer ; gas sensor ; organic semiconductor ; surface plasmon resonance ; conducting polymer ; thin film ; chemoresistive sensor

6/44
Nr opisu: 0000099861
Experimental and computational evidence for hydrogen bonding interaction between 2'-deoxyadenosine conjugate adduct and amino-terminated organic film on Si(001).
[Aut.]: A. Szwajca, Maciej Krzywiecki, D. Pluskota-Karwatka.
-Thin Solid Films 2015 vol. 588, s. 78-84. Impact Factor 1.761. Punktacja MNiSW 30.000

analiza powierzchniowa ; wiązanie wodorowe ; samoorganizujące się monowarstwy ; 3-aminopropylotrietoksysilan

surface analysis ; hydrogen bond ; self-assembled monolayers ; 3-Aminopropyltrimethoxysilane

7/44
Nr opisu: 0000089658
Surface states and space charge layer electronic parameters specification for long term air-exposed copper phthalocyanine thin films.
[Aut.]: Lucyna Grządziel, Maciej Krzywiecki.
-Thin Solid Films 2014 vol. 550, s. 361-366, bibliogr. 29 poz.. Impact Factor 1.759. Punktacja MNiSW 30.000

półprzewodnik organiczny ; ftalocyjanina miedzi ; warstwa cienka ; właściwości elektronowe powierzchni ; wydajność kwantowa fotoemisji ; dipol powierzchni ; efekt dipola

organic semiconductor ; copper phthalocyanine ; thin film ; surface electronic properties ; photoemission yield spectroscopy ; surface dipole ; dipole effect

8/44
Nr opisu: 0000094441
Application of scanning microscopy to study correlation between thermal properties and morphology of BaTiO₃ thin films.
[Aut.]: Anna Kaźmierczak-Bałata, Jerzy Bodzenta, Maciej Krzywiecki, Justyna Juszczyk, J. Szmidt, P. Firlek.
-Thin Solid Films 2013 vol. 545, s. 217-221, bibliogr. 26 poz.. Impact Factor 1.867. Punktacja MNiSW 30.000

mikroskopia sił atomowych ; tytanian baru ; warstwa cienka ; skaningowa mikroskopia termiczna ; właściwości termiczne

atomic force microscopy ; barium titanate ; thin film ; scanning thermal microscopy ; thermal properties

9/44
Nr opisu: 0000088526
Preface.
[Aut.]: Jacek** Szuber.
-Thin Solid Films 2013 vol. 548, s. 664

10/44
Nr opisu: 0000077215
Comparative study of surface morphology of copper phthalocyanine ultra thin films deposited on Si (111) native and RCA-cleaned substrates.
[Aut.]: Maciej Krzywiecki, Lucyna Grządziel, Jerzy Bodzenta, Jacek** Szuber.
-Thin Solid Films 2012 vol. 520 iss. 11, s. 3965-3970, bibliogr. 35 poz.. Impact Factor 1.890. Punktacja MNiSW 30.000

półprzewodnik organiczny ; ftalocyjanina miedzi ; warstwa cienka ; mikroskopia sił atomowych ; rentgenowska spektroskopia fotoelektronów ; obróbka RCA

organic semiconductor ; copper phthalocyanine ; thin film ; atomic force microscopy ; X-ray photoelectron spectroscopy ; RCA treatment ; silicon native substrate

11/44
Nr opisu: 0000063754
Influence of ambient air exposure on surface chemistry and electronic properties of thin copper phthalocyanine sensing layers.
[Aut.]: Lucyna Grządziel, Maciej Krzywiecki, H. Peisert, T. Chasse, Jacek** Szuber.
-Thin Solid Films 2011 vol. 519 iss. 7, s. 2187-2192, bibliogr. 41 poz.. Impact Factor 1.890. Punktacja MNiSW 30.000

półprzewodnik organiczny ; ftalocyjanina miedzi ; warstwa cienka ; właściwości elektroniczne ; rentgenowska spektroskopia fotoelektronów ; spektroskopia fotoelektronów w nadfiolecie

organic semiconductor ; copper phthalocyanine ; thin film ; electronic properties ; X-ray photoelectron spectroscopy ; ultraviolet photoelectron spectroscopy

12/44
Nr opisu: 0000066301
Optical rib waveguides based on sol-gel derived silica-titania films.
[Aut.]: Paweł Karasiński, Cuma Tyszkiewicz, Roman Rogoziński, J. Jaglarz, Jacek* Mazur.
-Thin Solid Films 2011 vol. 519 iss. 16, s. 5544-5551, bibliogr. 31 poz.. Impact Factor 1.890. Punktacja MNiSW 30.000

zol-żel ; powłoka krzemionkowo-tytanowa ; światłowód planarny ; światłowód żebrowy

sol-gel ; silica-titania film ; planar waveguide ; rib waveguide

13/44
Nr opisu: 0000071142
Preface.
[Aut.]: Jacek** Szuber.
-Thin Solid Films 2011 vol. 520 iss. 3, s. 897
Zeszyt zawiera materiały z: 7th International Workshop on Semiconductor Gas Sensors

14/44
Nr opisu: 0000071525
X-ray photoelectron spectroscopy and thermal desorption spectroscopy comparative studies of L-CVD SnO₂ ultra thin films.
[Aut.]: Monika Kwoka, Natalia Waczyńska, Piotr* Kościelniak, Michał* Sitarz, Jacek** Szuber.
-Thin Solid Films 2011 vol. 520 iss. 3, s. 913-917, bibliogr. 29 poz.. Impact Factor 1.890. Punktacja MNiSW 30.000

dwutlenek cyny ; L-CVD ; powłoka cienka ; rentgenowska spektroskopia fotoelektronów ; XPS ; profilowanie głębokościowe ; spektroskopia termodesorpcyjna ; chemia powierzchni

tin dioxide ; L-CVD ; ultrathin film ; X-ray photoelectron spectroscopy ; XPS ; depth profiling ; thermal desorption spectroscopy ; surface chemistry

15/44
Nr opisu: 0000071524
XPS and AFM studies of surface chemistry and morphology of In₂O₃ ultrathin films deposited by rheotaxial growth and vacuum oxidation.
[Aut.]: Piotr* Kościelniak, Jacek* Mazur, J. Henek, Monika Kwoka, Ł. Pawela, Jacek** Szuber.
-Thin Solid Films 2011 vol. 520 iss. 3, s. 927-931, bibliogr. 36 poz.. Impact Factor 1.890. Punktacja MNiSW 30.000

In2O3 ; RGVO ; chemia powierzchni ; XPS ; morfologia powierzchni ; AFM

In2O3 ; RGVO ; surface chemistry ; XPS ; surface morphology ; AFM

16/44
Nr opisu: 0000071754
Surface acoustic wave-based gas sensors.
[Aut.]: Wiesław Jakubik.
-Thin Solid Films 2010 vol. 520 iss. 3, s. 986-993, bibliogr. 58 poz.. Impact Factor 1.935

akustyczna fala powierzchniowa ; Fala Rayleigha

surface acoustic wave ; Rayleigh wave ; gas sensor ; czujnik gazu ; folia warstwowa ; layered film

17/44
Nr opisu: 0000058364
X-ray Photoelectron Spectroscopy characterization of native and RCA-treated Si (111) substrates and their influence on surface chemistry of copper phthalocyanine thin films.
[Aut.]: Maciej Krzywiecki, Lucyna Grządziel, H. Peisert, I. Biswas, T. Chasse, Jacek** Szuber.
-Thin Solid Films 2010 vol. 518 iss. 10, s. 2688-2694, bibliogr. 37 poz.. Impact Factor 1.935

warstwa cienka ; półprzewodnik organiczny ; spektroskopia fotoemisyjna ; promieniowanie rentgenowskie

thin film ; organic semiconductor ; photoemission spectroscopy ; X-ray

18/44
Nr opisu: 0000071753
XPS and AFM studies of surface chemistry and morphology of In₂O₃ ultrathin films deposited by rheotaxial growth and vacuum oxidation.
[Aut.]: Piotr* Kościelniak, Jacek* Mazur, J. Henek, Monika Kwoka, L. Pawela, Jacek** Szuber.
-Thin Solid Films 2010 vol. 520 iss. 3, s. 927-931, bibliogr. 36 poz.. Impact Factor 1.935

In2O3 ; RGVO ; XPS ; chemia powierzchni ; morfologia powierzchni ; AFM

In2O3 ; RGVO ; XPS ; surface chemistry ; surface morphology ; AFM

19/44
Nr opisu: 0000056437
Hydrogen gas-sensing with bilayer structures of WO₃ and Pd in SAW and electric systems.
[Aut.]: Wiesław Jakubik.
-Thin Solid Films 2009 vol. 517 iss. 22, s. 6188-6191, bibliogr. 12 poz.

detektor wodorowy ; struktura dwuwarstwowa ; trójtlenek wolframu ; pallad ; akustyczna fala powierzchniowa ; metoda elektryczna

hydrogen sensor ; bilayer structure ; tungsten trioxide ; palladium ; surface acoustic wave ; electrical method

20/44
Nr opisu: 0000056850
Influence of substrate doping on the surface chemistry and morphology of Copper Phthalocyanine ultra thin films on Si (111) substrates.
[Aut.]: Maciej Krzywiecki, L. Ottaviano, Lucyna Grządziel, P. Parisse, S. Santucci, Jacek** Szuber.
-Thin Solid Films 2009 vol. 517 iss. 5, s. 1630-1635, bibliogr. 15 poz.

półprzewodnik organiczny ; ftalocyjanina miedzi ; warstwa cienka ; właściwości powierzchniowe ; rentgenowska spektroskopia fotoelektronów ; mikroskopia sił atomowych

organic semiconductor ; copper phthalocyanine ; thin film ; surface properties ; X-ray photoelectron spectroscopy ; atomic force microscopy

21/44
Nr opisu: 0000056438
Local surface morphology and chemistry of SnO₂ thin films deposited by rheotaxial growth and thermal oxidation method for gas sensor application.
[Aut.]: L. Ottaviano, Monika Kwoka, F. Bisti, P. Parisse, V. Grossi, S. Santucci, Jacek** Szuber.
-Thin Solid Films 2009 vol. 517 iss. 22, s. 6161-6169, bibliogr. 29 poz.. Impact Factor 1.727

dwutlenek cyny ; RGTO ; podłoże krzemowe ; stechiometria ; dyfrakcja rentgenowska ; wytrzymałość na zginanie ; mikroskopia sił atomowych ; rentgenowska spektroskopia fotoelektronów

tin dioxide ; Rheological Growth and Thermal Oxidation (RGTO) ; surface morphology ; stoichiometry ; X-ray diffraction ; scanning electron microscopy ; atomic force microscopy ; X-ray photoelectron spectroscopy

22/44
Nr opisu: 0000056802
Spectrogoniometric determination of refractive indices of GaSe.
[Aut.]: Mirosława Kępińska, Marian Nowak, Piotr Duka, B. Kauch.
-Thin Solid Films 2009 vol. 517 iss. 13, s. 3792-3796, bibliogr. 23 poz.

warstwa cienka ; selenek galu ; materiał anizotropowy ; współczynnik załamania ; spektrogoniometria

thin film ; selenide gallium ; anisotropic material ; refractive index ; spectrogoniometry

23/44
Nr opisu: 0000047863
Influence of Nd dopants on lattice parameters and thermal and elastic properties in YVO₄ single crystals.
[Aut.]: J. Kucytowski, K. Wokulska, Anna Kaźmierczak-Bałata, Jerzy Bodzenta, T. Łukasiewicz, B. Hofman, Monika* Pyka.
-Thin Solid Films 2008 vol. 516 iss. 22, s. 8125-8129, bibliogr. 15 poz.
Zawiera materiały z: EMRS 2007 Fall Meeting. Symposium H: Current trends in optical and x-ray metrology of advanced materials and devices II, Warsaw, Poland

parametr sieci krystalicznej ; dyfuzyjność cieplna ; monokryształ

lattice parameter ; thermal diffusivity ; single crystal

24/44
Nr opisu: 0000039992
AFM study of the surface morphology of L-CVD SnO₂ thin films.
[Aut.]: Monika Kwoka, L. Ottaviano, Jacek** Szuber.
-Thin Solid Films 2007 vol. 515 iss. 23, s. 8328-8331, bibliogr. 14 poz.. Impact Factor 1.693

dwutlenek cyny ; cienka powłoka L-CVD ; mikroskopia sił atomowych ; morfologia powierzchni

tin dioxide ; L-CVD thin film ; atomic force microscopy ; surface morphology

25/44
Nr opisu: 0000039993
Investigations of thin film structures of WO₃ and WO₃ with Pd for hydrogen detection in a surface acoustic wave sensor system.
[Aut.]: Wiesław Jakubik.
-Thin Solid Films 2007 vol. 515 iss. 23, s. 8345-8350, bibliogr. 13 poz.
Zawiera materiały z: 5th International Workshop on Semiconductor Gas Sensors - SGS'2006, Ustroń, Poland, 10-13 September 2006. Impact Factor 1.693

trójtlenek wolframu ; pallad ; struktura dwuwarstwowa ; czujnik wodoru ; akustyczna fala powierzchniowa

tungsten trioxide ; palladium ; bilayer structure ; hydrogen sensor ; surface acoustic wave

26/44
Nr opisu: 0000041334
Preface.
[Aut.]: Jacek** Szuber.
-Thin Solid Films 2007 vol. 515 iss. 23, s. 8301
Zeszyt zawiera materiały z: 5th International Workshop on Semiconductor Gas Sensors - SGS'2006, Ustroń, Poland, 10-13 September 2006

27/44
Nr opisu: 0000039994
Transition metal oxides covered Pd film for optical H₂ gas detection.
[Aut.]: Erwin Maciak, Zbigniew Opilski.
-Thin Solid Films 2007 vol. 515 iss. 23, s. 8351-8355, bibliogr. 12 poz.
Zawiera materiały z: 5th International Workshop on Semiconductor Gas Sensors - SGS'2006, Ustroń, Poland, 10-13 September 2006. Impact Factor 1.693

światłowodowy czujnik wodoru ; interferometr warstwowy ; pallad ; tlenek metalu

fiber optic hydrogen sensor ; layered inferometer ; palladium ; metal oxide ; gasochromism

28/44
Nr opisu: 0000021700
On the correlation between morphology and gas sensing properties of RGTO SnO₂ thin films.
[Aut.]: Jacek** Szuber, Jerzy Uljanow, Teresa** Buczek-Karczewska, Wiesław Jakubik, Krzysztof** Waczyński, Monika Kwoka, Sławomir** Kończak.
-Thin Solid Films 2005 vol. 490 iss. 1, s. 54-58, bibliogr. 18 poz.. Impact Factor 1.569

dwutlenek cyny ; powłoka cienka ; osadzanie ; utlenianie

tin dioxide ; thin film ; deposition ; oxidation

29/44
Nr opisu: 0000021704
XPS study of the surface chemistry of L-CVD SnO₂ thin films after oxidation.
[Aut.]: Monika Kwoka, L. Ottaviano, M. Passacantando, S. Santucci, Grzegorz* Czempik, Jacek** Szuber.
-Thin Solid Films 2005 vol. 490 iss. 1, s. 36-42, bibliogr. 18 poz.. Impact Factor 1.569

dwutlenek cyny ; powłoka cienka ; osadzanie ; utlenianie

tin dioxide ; thin film ; deposition ; oxidation

30/44
Nr opisu: 0000011168
Characterization of the interface and the bulk phenomena in metal-SiO2-(n) GaAs structure by analysis of the equivalent circuit parameters at different temperatures.
[Aut.]: Stanisław** Kochowski, K. Nitsch, B. Paszkiewicz, R. Paszkiewicz.
-Thin Solid Films 2004 vol. 467 iss. 1/2, s. 190-196, bibliogr. 42 poz.. Impact Factor 1.647

element stałofazowy ; właściwości elektryczne ; miernictwo elektryczne ; arsenek galu

constant phase element ; electrical properties ; electrical measurement ; gallium arsenide ; metal-insulator-semiconductor structure

31/44
Nr opisu: 0000123726
On the correlation between morphology and electronic properties of copper phthalocyanine (CuPc) thin films.
[Aut.]: Lucyna Grządziel, Jerzy** Żak, Jacek** Szuber.
-Thin Solid Films 2003 vol. 436 iss. 1, s. 70-75, bibliogr. 23 poz.
Referat wygłoszony na: 3rd International Seminar on Semiconductor Gas Sensors. SGS'2002, Ustroń, Poland, 19-22 September 2002. Impact Factor 1.598

ftalocyjanina miedzi ; cienka powłoka ; fotoemisja ; mikroskop sił atomowych

copper phthalocyanine ; thin film ; photoemission ; atomic force microscope

32/44
Nr opisu: 0000011696
On the correlation between the morphology and the electronic properties of copper phthalocyanine (CuPc) thin films.
[Aut.]: Lucyna Grządziel, Jerzy** Żak, Jacek** Szuber.
-Thin Solid Films 2003 vol. 436 iss. 1, s. 70-75, bibliogr. 23 poz.. Impact Factor 1.598

ftalocyjanina miedzi ; warstwa cienka ; fotoemisja ; mikroskop sił atomowych

copper phthalocyanine ; thin film ; photoemission ; atomic force microscope

33/44
Nr opisu: 0000123735
Rigorous analysis of the electronic properties of InP interfaces for gas sensing.
[Aut.]: Bogusława Adamowicz, Marcin** Miczek, C. Brun, B. Gruzza, H. Hasegawa.
-Thin Solid Films 2003 vol. 436 iss. 1, s. 101-106, bibliogr. 24 poz.
Referat wygłoszony na: 3rd International Seminar on Semiconductor Gas Sensors. SGS'2002, Ustroń, Poland, 19-22 September 2002. Impact Factor 1.598

InP ; interfejs ; właściwości elektroniczne ; stan powierzchniowy ; poziom Fermiego ; wykrywanie gazu

InP ; interface ; electronic properties ; surface states ; Fermi level ; gas sensing

34/44
Nr opisu: 0000008347
Two constant phase element behaviour of the admittance characteristics of GaAs metal-insulator-semiconductor structure with deep traps.
[Aut.]: Stanisław** Kochowski, K. Nitsch, B. Paszkiewicz, R. Paszkiewicz.
-Thin Solid Films 2003 vol. 444 iss. 1/2, s. 208-214, bibliogr. 34 poz.. Impact Factor 1.598

element stałofazowy ; struktura metal-izolator-półprzewodnik ; właściwości elektryczne ; arsenek galu

constant phase element ; metal-insulator-semiconductor structure ; electrical properties ; gallium arsenide

35/44
Nr opisu: 0000000077
Description of the frequency behaviour of metal-SiO2-GaAs structure characteristics by electrical equivalent circuit with constant phase element.
[Aut.]: Stanisław** Kochowski, K. Nitsch.
-Thin Solid Films 2002 vol. 415 iss. 1/2, s. 133-137, bibliogr. 23 poz.. Impact Factor 1.443

36/44
Nr opisu: 0000005184
Distribution of radiation intensity in a thin semiconductor film on a thick substrate.
[Aut.]: V. Augelli, Marian Nowak.
-Thin Solid Films 1999 vol. 338, s. 188-196, bibliogr. 19 poz.. Impact Factor 1.101

37/44
Nr opisu: 0000007633
Electrical properties of SiO2-(n) GaAs interface on the basis of measurements of MIS structure capacitance and conductance.
[Aut.]: Stanisław** Kochowski, K. Nitsch, R. Paszkiewicz.
-Thin Solid Films 1999 vol. 348 no. 1, s. 180-187, bibliogr. 29 poz.. Impact Factor 1.101

38/44
Nr opisu: 0000033447
Determination of optical constants and average thickness of thin films on thick substrates using angular distribution of intensity of reflected radiation.
[Aut.]: Janusz* Jaglarz, Marian Nowak.
-Thin Solid Films 1996 vol. 278, s. 124-128, bibliogr. 7 poz.

39/44
Nr opisu: 0000035139
Determination of recombination and photogeneration parameters of a-Si:H using photoconductivity measurements.
[Aut.]: Andrzej Grabowski, Marian Nowak, P. Tzanetakis.
-Thin Solid Films 1996 vol. 283 iss. 1/2, s. 75-80, bibliogr. 14 poz.

40/44
Nr opisu: 0000032868
Determination of optical constants and average thickness of inhomogeneous-rough thin films using special dependence of optical transmittance.
[Aut.]: Marian Nowak.
-Thin Solid Films 1995 vol. 254, s. 200-210, bibliogr. 13 poz.

41/44
Nr opisu: 0000033247
Determining carrier lifetime using frequency dependence in contactless photoelectromagnetic investigations of semiconductors.
[Aut.]: B. Loncierz, R. Murri, Marian Nowak.
-Thin Solid Films 1995 vol. 266 iss. 2, s. 274-277, bibliogr. 26 poz.

42/44
Nr opisu: 0000033248
Linear distribution of intensity of radiation reflected from and transmitted through a thin film on a thick substrate.
[Aut.]: Marian Nowak.
-Thin Solid Films 1995 vol. 266, s. 258-262, bibliogr. 9 poz.

43/44
Nr opisu: 0000060867
The effect of oxygen adsorption on electronic properties of the polar GaAs(111) surface after thermal cleaning in ultrahigh vacuum.
[Aut.]: Jacek** Szuber.
-Thin Solid Films 1989 vol. 170 nr 2, s. 219-226, bibliogr. 45 poz.

44/44
Nr opisu: 0000064448
Some electrical properties of the GaAs-anodic oxide interface on the basis of measurements of the capacitance-voltage and conductance-voltage characteristics of metal-oxide-semiconductor structures.
[Aut.]: Stanisław* Łoś, Stanisław** Kochowski.
-Thin Solid Films 1988 vol. 165, s. 21-28, bibliogr. 20 poz.

stosując format: