Wynik wyszukiwania
Zapytanie:
STRUKTURA ANTYREFLEKSYJNA
Liczba odnalezionych rekordów:
4
Przejście do opcji zmiany formatu
|
Wyświetlenie wyników w wersji do druku
|
Pobranie pliku do edytora
|
Przesłanie wyników do modułu analizy
|
excel
|
Nowe wyszukiwanie
1/4
Nr opisu:
0000129894
Double layer sol-gel derived antireflective coatings on silicon - design, optical and Auger Electron Spectroscopy characterization.
[Aut.]: M.
Skolik
, Alina
Domanowska
, Paweł
Karasiński
, E.
Gondek
, Anna
Michalewicz
.
-
Mater. Lett.
2019 vol. 251
, s. 210-213, bibliogr. 9 poz..
Impact Factor
3.204.
Punktacja MNiSW
70.000
struktura antyrefleksyjna
;
zol-żel
;
spektroskopia elektronów Augera
;
metoda macierzy przejścia
;
krzemionka
;
ditlenek tytanu
antireflective structure
;
sol-gel
;
Auger electron spectroscopy
;
transfer matrix method
;
silica
;
titania
2/4
Nr opisu:
0000125133
Struktury antyrefleksyjne wytwarzane metodą zol-żel na podłożach krzemowych.
[Aut.]: Marcin
Skolik
, E.
Gondek
, Paweł
Karasiński
.
W:
XXI Kryształy Molekularne 2018, Łódź-Kolumna, 03-07.09.2018
. Red. Hanna Makowska, Jarosław Jung, Wojciech Pisula. Łódź : Wydaw. Politechniki Łódzkiej, 2018
, s. 110-111, bibliogr. 4 poz.
fotoogniwo krzemowe
;
struktura antyrefleksyjna
;
zol-żel
;
ditlenek krzemu
;
ditlenek tytanu
silicon photovoltaic cell
;
antireflective structure
;
sol-gel
;
silica
;
titania
3/4
Nr opisu:
0000116919
Jedno- i dwuwarstwowe struktury antyrefleksyjne wytwarzane metodą zol-żel do zastosowań w fotoogniwach krzemowych.
[Aut.]: Marcin
Skolik
, Paweł
Karasiński
.
W:
Szesnasta Krajowa Konferencja Elektroniki, Darłowo, 05-09.06.2017
. Materiały konferencji. [Dokument elektroniczny]. [B.m.] : [b.w.], 2017
, pamięć USB (PenDrive) s. 158-163, bibliogr. 13 poz.
struktura antyrefleksyjna
;
fotoogniwo krzemowe
;
zol-żel
;
ditlenek krzemu
;
ditlenek tytanu
;
dip-coating
;
formalizm macierzy 2x2
antireflective structure
;
silicon photovoltaic cell
;
sol-gel
;
silicon dioxide
;
titanium dioxide
;
dip coating
4/4
Nr opisu:
0000117801
Jedno- i dwuwarstwowe struktury antyrefleksyjne wytwarzane metodą zol-żel do zastosowań w fotoogniwach krzemowych.
[Aut.]: Marcin
Skolik
, Paweł
Karasiński
.
-
Prz. Elektrot.
2017 R. 93 nr 8
, s. 73-76, bibliogr. 13 poz..
Punktacja MNiSW
14.000
struktura antyrefleksyjna
;
fotoogniwo krzemowe
;
zol-żel
;
ditlenek krzemu
;
ditlenek tytanu
;
dip-coating
;
formalizm macierzy 2x2
antireflective structure
;
silica photovoltaic cell
;
sol-gel
;
silica
;
titania
;
dip-coating
;
matrix formalism 2x2
stosując format:
standardowy
pełny z etykietami pól
roboczy
redakcja skr.
redakcja peł.
kontrolny
Nowe wyszukiwanie