Wyniki wyszukiwania

Wynik wyszukiwania

Zapytanie: OSADZANIE WARSTW ATOMOWYCH
Liczba odnalezionych rekordów: 23

| | | Przesłanie wyników do modułu analizy | excel |

1/23
Nr opisu: 0000135445
Atomic layer deposition of TiO2 blocking layers for dye-sensitized solar cells.
[Aut.]: Aleksandra Drygała, Marek Szindler, Magdalena Szindler, Ewa Jonda.
-Microelectron. Int. 2020 vol. 37 iss. 2, s. 87-93, bibliogr. 42 poz.. Impact Factor 0.796. Punktacja MNiSW 40.000

dwutlenek tytanu ; barwnikowe ogniwo słoneczne ; osadzanie warstw atomowych ; warstwa zaporowa ; cienka powłoka

titanium dioxide ; dye-sensitized solar cell ; atomic layer deposition ; blocking layer ; thin film

2/23
Nr opisu: 0000135435
Evaluation of electrochemical properties of antibacterial ZnO layers deposited to 316LVM steel using atomic layer deposition.
[Aut.]: Marcin Basiaga, Witold Walke, Magdalena Antonowicz, Marek Szindler, Damian Nakonieczny, Anita Kajzer, Agnieszka Dubiel, Krzysztof Matus.
-Materialwissensch. Werkstofftech. 2020 vol. 51 iss. 5, s. 569-578, bibliogr. 28 poz.. Impact Factor 0.744. Punktacja MNiSW 40.000

stal 316LVM ; powłoka cynkowa ; osadzanie warstw atomowych ; elektrochemiczna spektroskopia impedancyjna ; skaningowa mikroskopia elektronowa ; test potencjodynamiczny

316LVM steel ; ZnO layers ; atomic layer deposition ; electrochemical impedance spectroscopy ; scanning electron microscopy ; potentiodynamic test

3/23
Nr opisu: 0000138029
Influence of TiO₂ blocking layer on the photovoltaic properties of dye-sensitized solar cells.
[Aut.]: Aleksandra Drygała, Marek Szindler.
W: Proceedings of the 6th International Conference Contemporary Problems of Thermal Engineering. CPOTE 2020, Poland, 21-24 September 2020. [Dokument elektroniczny]. Ed. by Wojciech Stanek, Paweł Gładysz, Sebastian Werle, Lucyna Czarnowska. Gliwice : Departement of Thermal Technology. Silesian University of Technology, 2020, s. 1339-1348, bibliogr. 35 poz.

fotowoltaika ; barwnikowe ogniwo słoneczne ; warstwa zaporowa ; tlenek metalu ; osadzanie warstw atomowych

photovoltaics ; dye-sensitized solar cell ; blocking layer ; metal oxide ; atomic layer deposition

4/23
Nr opisu: 0000137131
Structure and properties of ZnO coatings obtained by atomic layer deposition (ALD) method on a Cr-Ni-Mo steel substrate type.
[Aut.]: Marcin Staszuk, Daniel Pakuła, Łukasz Reimann, Mariusz Król, Marcin Basiaga, D. Mysłek, A. Kriz.
-Materials 2020 vol. 13 iss. 19, s. 1-18, bibliogr. 37 poz.. Impact Factor 3.057. Punktacja MNiSW 140.000

nanostruktura ; właściwości mechaniczne ; osadzanie warstw atomowych ; ALD ; tlenek cynku ; ZnO ; stal nierdzewna 316L ; odporność na korozję

nanostructure ; mechanical properties ; atomic layer deposition ; ALD ; zinc oxide ; ZnO ; 316L stainless steel ; corrosion resistance

5/23
Nr opisu: 0000135434
The influence of the parameters of the zinc oxide layer deposition process using the atomic layer deposition method on the physical and mechanical properties of 316LVM steel.
[Aut.]: Marcin Basiaga, Witold Walke, Agata Sambok-Kiełbowicz, Zbigniew Paszenda, Marcin Kaczmarek, Anna Taratuta, Marek Szindler, Bogusław Ziębowicz.
-Materialwissensch. Werkstofftech. 2020 vol. 51 iss. 5, s. 624-630, bibliogr. 26 poz.. Impact Factor 0.744. Punktacja MNiSW 40.000

316 LVM ; warstwa cynku ; osadzanie warstw atomowych ; biofilm bakteryjny ; właściwości mechaniczne

316LVM ; zinc oxide layer ; atomic layer deposition ; bacterial biofilm ; mechanical properties

6/23
Nr opisu: 0000138879
The optical parameters of TiO₂ antireflection coating prepared by atomic layer deposition method for photovoltaic application.
[Aut.]: Marek Szindler, Magdalena Szindler.
-Opt. Appl. 2020 vol. 50 no. 4, s. 663-670, bibliogr. 16 poz.. Impact Factor 0.673. Punktacja MNiSW 40.000

cienka powłoka ; osadzanie warstw atomowych ; dwutlenek tytanu

thin film ; atomic layer deposition ; titanium dioxide

7/23
Nr opisu: 0000131365
Atomic layer deposition of TiO2 blocking layers for dye-sensitized solar cells.
[Aut.]: Aleksandra Drygała, Marek Szindler, Magdalena Szindler, Ewa Jonda.
W: 13^th Conference "Electron Technology" ELTE. 43^rd International Microelectronics and Packaging IMAPS Poland Conference, 4-6 September 2019, Wrocław, Poland. Technical digest. [Dokument elektroniczny]. Eds. Rafał Walczak, Karol Malecha. Kraków : International Microelectronics and Packaging Society Poland Chapter, 2019, pamięć USB (PenDrive) s. 164-165

barwnikowe ogniwo słoneczne ; osadzanie warstw atomowych ; dwutlenek tytanu ; warstwa zaporowa

dye sensitized solar cell ; atomic layer deposition ; titanium dioxide ; blocking layer

8/23
Nr opisu: 0000132461
Metody badawcze cienkich warstw wytworzonych metodą osadzania warstw atomowych.
[Aut.]: Paulina Boryło, Marek Szindler, Magdalena Szindler, Krzysztof Lukaszkowicz.
-LAB Laboratoria Apar. Bad. 2019 nr 5, s. 16-18, bibliogr. 4 poz.. Punktacja MNiSW 5.000

warstwa cienka ; osadzanie warstw atomowych ; ALD

thin layer ; atomic layer deposition ; ALD

9/23
Nr opisu: 0000130050
Nanometryczne warstwy tlenku cynku wytwarzane metodami próżniowymi.
[Aut.]: Paulina Boryło, Krzysztof Lukaszkowicz.
W: XVIII Krajowa Konferencja Elektroniki, Darłówko Wschodnie, 02-06.06.2019. Program konferencji. [Dokument elektroniczny]. [B.m.] : [b.w.], 2019, pamięć USB (PenDrive) s. 188-193, bibliogr. 9 poz.

transparentne tlenki przewodzące ; tlenek cynku ; osadzanie warstw atomowych ; ALD ; rozpylanie magnetronowe ; PVD

transparent conductive oxide ; zinc oxide ; atomic layer deposition ; ALD ; magnetron sputtering

10/23
Nr opisu: 0000131786
Nanometryczne warstwy tlenku cynku wytwarzane metodami próżniowymi.
[Aut.]: Paulina Boryło, Krzysztof Lukaszkowicz.
-Elektronika 2019 R. 60 nr 9, s. 6-10, bibliogr. 8 poz.. Punktacja MNiSW 5.000

transparentne tlenki przewodzące ; tlenek cynku ; osadzanie warstw atomowych ; ALD ; rozpylanie magnetronowe ; PVD

transparent conductive oxide ; zinc oxide ; atomic layer deposition ; ALD ; magnetron sputtering ; PVD

11/23
Nr opisu: 0000131377
Optical Al₂O₃ thin film for applications in silicon solar cells.
[Aut.]: Marek Szindler, Magdalena Szindler, Aleksandra Drygała, Paulina Boryło.
W: 13^th Conference "Electron Technology" ELTE. 43^rd International Microelectronics and Packaging IMAPS Poland Conference, 4-6 September 2019, Wrocław, Poland. Technical digest. [Dokument elektroniczny]. Eds. Rafał Walczak, Karol Malecha. Kraków : International Microelectronics and Packaging Society Poland Chapter, 2019, pamięć USB (PenDrive) s. 194-195, bibliogr. 2 poz.

krzemowe ogniwa słoneczne ; osadzanie warstw atomowych ; tritlenek aluminium

silicon solar cell ; atomic layer deposition ; aluminium trioxide

12/23
Nr opisu: 0000128364
Preparation and characterization of microsphere ZnO ALD coating dedicated for the fiber-optic refractive index sensor.
[Aut.]: P. Listewnik, M. Hirsch, Przemysław Struk, M. Weber, M. Bechelany, M. Jędrzejewska-Szczerska.
-Nanomaterials 2019 vol. 9 iss. 2, art. no. 306 s. 1-11, bibliogr. 48 poz.. Impact Factor 4.324. Punktacja MNiSW 70.000

ZnO ; osadzanie warstw atomowych ; powłoka ; mikrosfera ; czujnik światłowodowy ; współczynnik załamania

ZnO ; atomic layer deposition ; coating ; microsphere ; fiber-optic sensor ; refractive index

13/23
Nr opisu: 0000132604
The optical parameters of TiO₂ antireflection coating prepared by ALD method for photovoltaic application.
[Aut.]: Marek Szindler, Magdalena Szindler, Paulina Boryło.
W: Zeszyt abstraktów międzynarodowej konferencji Material Technologies in Silesia'2019, 13-16 października 2019, Zawiercie. Red. Mirosław Bonek. Gliwice : Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych. Wydział Mechaniczny Technologiczny. Politechnika Śląska, 2019, s. 165-166, bibliogr. 2 poz. (Prace Instytutu Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych ; Wydział Mechaniczny Technologiczny. Politechnika Śląska z. 6)

dwutlenek tytanu ; osadzanie warstw atomowych ; powłoka antyrefleksyjna

titanium dioxide ; atomic layer deposition ; antireflection coating

14/23
Nr opisu: 0000131507
ZnO coated fiber optic microsphere sensor for the enhanced refractive index sensing.
[Aut.]: M. Hirsch, P. Listewnik, Przemysław Struk, M. Weber, M. Bechelany, M. Szczerska.
-Sens. Actuators, A Phys. 2019 vol. 298, art. no. 111594 s. 1-8, bibliogr. 58 poz.. Impact Factor 2.904. Punktacja MNiSW 100.000

ZnO ; osadzanie warstw atomowych ; powłoka ; mikrosfera ; sensor ; współczynnik załamania ; światłowód

ZnO ; atomic layer deposition ; coating ; microsphere ; sensor ; refractive index ; fiber-optic

15/23
Nr opisu: 0000122968
Analysis of the corrosion protective ability of atomic layer deposition silica-based coatings deposited on 316LVM steel.
[Aut.]: Marcin Basiaga, Witold Walke, Wojciech Kajzer, Agnieszka* Hyla, Alina Domanowska, Anna Michalewicz, C. Krawczyk.
-Materialwissensch. Werkstofftech. 2018 vol. 49 iss. 5, s. 551-561, bibliogr. 53 poz.. Impact Factor 0.556. Punktacja MNiSW 15.000

316 LVM ; SiO2 ; osadzanie warstw atomowych ; spektroskopia elektronów Augera ; skaningowy mikroskop elektronowy ; test potencjodynamiczny ; wykres impedancji elektrochemicznej

316 LVM ; SiO2 ; atomic layer deposition ; Auger electron spectroscopy ; scanning electron microscopy ; potentiodynamic test ; electrochemical impedance plot

16/23
Nr opisu: 0000122972
Effect of thin SiO₂ layers deposited by means of atomic layer deposition method on the mechanical and physical properties of stainless steel.
[Aut.]: Marcin Basiaga, Witold Walke, Magdalena Antonowicz, Agata Sambok-Kiełbowicz, Damian Nakonieczny, M. Gawlikowski, B. Zawidlak-Węgrzyńska, C. Krawczyk.
-Materialwissensch. Werkstofftech. 2018 vol. 49 iss. 5, s. 562-567, bibliogr. 22 poz.. Impact Factor 0.556. Punktacja MNiSW 15.000

316 LVM ; ditlenek krzemu ; osadzanie warstw atomowych ; właściwości mechaniczne ; właściwości fizyczne

316 LVM ; silicon dioxide ; atomic layer deposition ; mechanical properties ; physical properties

17/23
Nr opisu: 0000126830
Metallic skeletons as reinforcement of new composite materials applied in orthopaedics and dentistry.
[Aut.]: L. A. Dobrzański, A. Dobrzańska-Danikiewicz, Z. Czuba, L. B. Dobrzański, A. Achtelik-Franczak, P. Malara, Marek Szindler, L. Kroll.
-Arch. Mater. Sci. Eng. 2018 vol. 92 nr 2, s. 53-85, bibliogr. 90 poz.. Punktacja MNiSW 13.000

biologiczny materiał kompozytowy ; implanto-skafold ; rusztowanie ; stop tytanu ; selektywne spiekanie laserowe ; osadzanie warstw atomowych ; medycyna regeneracyjna ; stomatologia regeneracyjna ; hodowla żywych komórek

biological-engineering composite material ; implant-scaffold ; scaffold ; titanium alloy ; selective laser sintering ; atomic layer deposition ; regenerative medicine ; regenerative dentistry ; living cells culture

18/23
Nr opisu: 0000124104
Nanolayers in fiber-optic biosensing.
[Aut.]: M. Jędrzejewska-Szczerska, D. Majchrowicz, M. Hirsch, Przemysław Struk, R. Bogdanowicz, M. Bechelany, V. Tuchin.
W: Nanotechnology and biosensors. Ed. by Dimitrios P. Nikolelis, Georgia-Paraskevi Nikoleli. Amsterdam : Elsevier, 2018, s. 395-426. Punktacja MNiSW 20.000

czujnik światłowodowy ; biosensor ; cienka powłoka ; osadzanie warstw atomowych ; ALD ; nanodiament ; NCD ; nanodiament domieszkowany borem ; B-NCD ; tlenek cynku ; ZnO ; dwutlenek tytanu ; TiO2 ; tlenek glinu ; Al2O3

fiber-optic sensor ; biosensor ; thin film ; atomic layer deposition ; ALD ; nanodiamond ; NCD ; boron-doped nanodiamond ; B-NCD ; zinc oxide ; ZnO ; titanium dioxide ; TiO2 ; aluminium oxide ; Al2O3

19/23
Nr opisu: 0000125590
The new generation of the biological-engineering materials for applications in medical and dental implant-scaffolds.
[Aut.]: L. A. Dobrzański, A. Dobrzańska-Danikiewicz, Z. Czuba, L. B. Dobrzański, A. Achtelik-Franczak, P. Malara, Marek Szindler, L. Kroll.
-Arch. Mater. Sci. Eng. 2018 vol. 91 nr 2, s. 56-85, bibliogr. 207 poz.. Punktacja MNiSW 13.000

medycyna regeneracyjna ; inżynieria tkankowa ; inżynieria materiałowa ; inżynieria powierzchni ; implanto-skafold ; selektywne spiekanie laserowe ; stop tytanu ; osadzanie warstw atomowych ; materiał biologiczno-inżynierski ; warstwy płaskie żywych komórek

regenerative medicine ; tissue engineering ; materials engineering ; surface engineering ; implant-scaffold ; selective laser sintering ; titanium alloy ; atomic layer deposition ; biological-engineering material ; flat layers of living cells

20/23
Nr opisu: 0000116920
Cienkie warstwy ALD stosowane w fotowoltaice i optoelektronice.
[Aut.]: Paulina Boryło, Marek Szindler, Krzysztof Lukaszkowicz, Magdalena Szindler.
W: Szesnasta Krajowa Konferencja Elektroniki, Darłowo, 05-09.06.2017. Materiały konferencji. [Dokument elektroniczny]. [B.m.] : [b.w.], 2017, pamięć USB (PenDrive) s. 364-365, bibliogr. 16 poz.

fotowoltaika ; optoelektronika ; warstwa antyrefleksyjna ; transparentna warstwa przewodząca ; osadzanie warstw atomowych

photovoltaics ; optoelectronics ; antireflection layer ; transparent conducting film ; atomic layer deposition

21/23
Nr opisu: 0000118917
Comparison of surface morphology and structure of Al2O3 thin films deposited by sol-gel and ALD methods.
[Aut.]: Marek Szindler, L. A. Dobrzański, Magdalena Szindler, Mirosława Pawlyta, Tymoteusz* Jung.
-J. Achiev. Mater. Manuf. Eng. 2017 vol. 82 iss. 2, s. 49-57, bibliogr. 31 poz.. Punktacja MNiSW 12.000

zol-żel ; osadzanie warstw atomowych ; tlenek glinu ; powłoka cienka ; powłoka antyrefleksyjna

sol-gel ; atomic layer deposition ; aluminium oxide ; thin film ; antireflection coating

22/23
Nr opisu: 0000122732
Structure and optical properties of TiO2 thin films deposited by ALD method.
[Aut.]: Marek Szindler, Magdalena Szindler, Paulina Boryło, Tymoteusz* Jung.
-Open Phys. 2017 vol 15 iss. 1, s. 1067-1071, bibliogr. 15 poz.. Impact Factor 0.755. Punktacja MNiSW 15.000

fotowoltaika ; krzemowe ogniwo słoneczne ; osadzanie warstw atomowych ; powłoka antyrefleksyjna

photovoltaic ; silicon solar cell ; atomic layer deposition ; antireflection coating

23/23
Nr opisu: 0000106201
Mechanical properties of atomic layer deposition (ALD) TiO2 layers on stainless steel substrates.
[Aut.]: Marcin Basiaga, Marcin Staszuk, Witold Walke, Zbigniew Opilski.
-Materialwissensch. Werkstofftech. 2016 vol. 47 iss. 5/6, s. 512-520, bibliogr. 29 poz.. Impact Factor 0.524. Punktacja MNiSW 15.000

316 LVM ; TiO2 ; osadzanie warstw atomowych ; próba zarysowania ; nanotwardość ; elipsometria ; mikroskopia sił atomowych ; AFM

316 LVM ; TiO2 ; atomic layer deposition ; scratch test ; nanohardness ; ellipsometry ; atomic force microscopy ; AFM

stosując format: