Wynik wyszukiwania
Zapytanie:
OSADZANIE WARSTW ATOMOWYCH
Liczba odnalezionych rekordów:
23
Przejście do opcji zmiany formatu
|
Wyświetlenie wyników w wersji do druku
|
Pobranie pliku do edytora
|
Przesłanie wyników do modułu analizy
|
excel
|
Nowe wyszukiwanie
1/23
Nr opisu:
0000135445
Atomic layer deposition of TiO2 blocking layers for dye-sensitized solar cells.
[Aut.]: Aleksandra
Drygała
, Marek
Szindler
, Magdalena
Szindler
, Ewa
Jonda
.
-
Microelectron. Int.
2020 vol. 37 iss. 2
, s. 87-93, bibliogr. 42 poz..
Impact Factor
0.796.
Punktacja MNiSW
40.000
dwutlenek tytanu
;
barwnikowe ogniwo słoneczne
;
osadzanie warstw atomowych
;
warstwa zaporowa
;
cienka powłoka
titanium dioxide
;
dye-sensitized solar cell
;
atomic layer deposition
;
blocking layer
;
thin film
2/23
Nr opisu:
0000135435
Evaluation of electrochemical properties of antibacterial ZnO layers deposited to 316LVM steel using atomic layer deposition.
[Aut.]: Marcin
Basiaga
, Witold
Walke
, Magdalena
Antonowicz
, Marek
Szindler
, Damian
Nakonieczny
, Anita
Kajzer
, Agnieszka
Dubiel
, Krzysztof
Matus
.
-
Materialwissensch. Werkstofftech.
2020 vol. 51 iss. 5
, s. 569-578, bibliogr. 28 poz..
Impact Factor
0.744.
Punktacja MNiSW
40.000
stal 316LVM
;
powłoka cynkowa
;
osadzanie warstw atomowych
;
elektrochemiczna spektroskopia impedancyjna
;
skaningowa mikroskopia elektronowa
;
test potencjodynamiczny
316LVM steel
;
ZnO layers
;
atomic layer deposition
;
electrochemical impedance spectroscopy
;
scanning electron microscopy
;
potentiodynamic test
3/23
Nr opisu:
0000138029
Influence of TiO
2
blocking layer on the photovoltaic properties of dye-sensitized solar cells.
[Aut.]: Aleksandra
Drygała
, Marek
Szindler
.
W:
Proceedings of the 6th International Conference Contemporary Problems of Thermal Engineering
. CPOTE 2020, Poland, 21-24 September 2020. [Dokument elektroniczny]. Ed. by Wojciech Stanek, Paweł Gładysz, Sebastian Werle, Lucyna Czarnowska. Gliwice : Departement of Thermal Technology. Silesian University of Technology, 2020
, s. 1339-1348, bibliogr. 35 poz.
fotowoltaika
;
barwnikowe ogniwo słoneczne
;
warstwa zaporowa
;
tlenek metalu
;
osadzanie warstw atomowych
photovoltaics
;
dye-sensitized solar cell
;
blocking layer
;
metal oxide
;
atomic layer deposition
4/23
Nr opisu:
0000137131
Structure and properties of ZnO coatings obtained by atomic layer deposition (ALD) method on a Cr-Ni-Mo steel substrate type.
[Aut.]: Marcin
Staszuk
, Daniel
Pakuła
, Łukasz
Reimann
, Mariusz
Król
, Marcin
Basiaga
, D.
Mysłek
, A.
Kriz
.
-
Materials
2020 vol. 13 iss. 19
, s. 1-18, bibliogr. 37 poz..
Impact Factor
3.057.
Punktacja MNiSW
140.000
nanostruktura
;
właściwości mechaniczne
;
osadzanie warstw atomowych
;
ALD
;
tlenek cynku
;
ZnO
;
stal nierdzewna 316L
;
odporność na korozję
nanostructure
;
mechanical properties
;
atomic layer deposition
;
ALD
;
zinc oxide
;
ZnO
;
316L stainless steel
;
corrosion resistance
5/23
Nr opisu:
0000135434
The influence of the parameters of the zinc oxide layer deposition process using the atomic layer deposition method on the physical and mechanical properties of 316LVM steel.
[Aut.]: Marcin
Basiaga
, Witold
Walke
, Agata
Sambok-Kiełbowicz
, Zbigniew
Paszenda
, Marcin
Kaczmarek
, Anna
Taratuta
, Marek
Szindler
, Bogusław
Ziębowicz
.
-
Materialwissensch. Werkstofftech.
2020 vol. 51 iss. 5
, s. 624-630, bibliogr. 26 poz..
Impact Factor
0.744.
Punktacja MNiSW
40.000
316 LVM
;
warstwa cynku
;
osadzanie warstw atomowych
;
biofilm bakteryjny
;
właściwości mechaniczne
316LVM
;
zinc oxide layer
;
atomic layer deposition
;
bacterial biofilm
;
mechanical properties
6/23
Nr opisu:
0000138879
The optical parameters of TiO
2
antireflection coating prepared by atomic layer deposition method for photovoltaic application.
[Aut.]: Marek
Szindler
, Magdalena
Szindler
.
-
Opt. Appl.
2020 vol. 50 no. 4
, s. 663-670, bibliogr. 16 poz..
Impact Factor
0.673.
Punktacja MNiSW
40.000
cienka powłoka
;
osadzanie warstw atomowych
;
dwutlenek tytanu
thin film
;
atomic layer deposition
;
titanium dioxide
7/23
Nr opisu:
0000131365
Atomic layer deposition of TiO2 blocking layers for dye-sensitized solar cells.
[Aut.]: Aleksandra
Drygała
, Marek
Szindler
, Magdalena
Szindler
, Ewa
Jonda
.
W:
13
th
Conference "Electron Technology" ELTE
. 43
rd
International Microelectronics and Packaging IMAPS Poland Conference, 4-6 September 2019, Wrocław, Poland. Technical digest. [Dokument elektroniczny]. Eds. Rafał Walczak, Karol Malecha. Kraków : International Microelectronics and Packaging Society Poland Chapter, 2019
, pamięć USB (PenDrive) s. 164-165
barwnikowe ogniwo słoneczne
;
osadzanie warstw atomowych
;
dwutlenek tytanu
;
warstwa zaporowa
dye sensitized solar cell
;
atomic layer deposition
;
titanium dioxide
;
blocking layer
8/23
Nr opisu:
0000132461
Metody badawcze cienkich warstw wytworzonych metodą osadzania warstw atomowych.
[Aut.]: Paulina
Boryło
, Marek
Szindler
, Magdalena
Szindler
, Krzysztof
Lukaszkowicz
.
-
LAB Laboratoria Apar. Bad.
2019 nr 5
, s. 16-18, bibliogr. 4 poz..
Punktacja MNiSW
5.000
warstwa cienka
;
osadzanie warstw atomowych
;
ALD
thin layer
;
atomic layer deposition
;
ALD
9/23
Nr opisu:
0000130050
Nanometryczne warstwy tlenku cynku wytwarzane metodami próżniowymi.
[Aut.]: Paulina
Boryło
, Krzysztof
Lukaszkowicz
.
W:
XVIII Krajowa Konferencja Elektroniki, Darłówko Wschodnie, 02-06.06.2019
. Program konferencji. [Dokument elektroniczny]. [B.m.] : [b.w.], 2019
, pamięć USB (PenDrive) s. 188-193, bibliogr. 9 poz.
transparentne tlenki przewodzące
;
tlenek cynku
;
osadzanie warstw atomowych
;
ALD
;
rozpylanie magnetronowe
;
PVD
transparent conductive oxide
;
zinc oxide
;
atomic layer deposition
;
ALD
;
magnetron sputtering
10/23
Nr opisu:
0000131786
Nanometryczne warstwy tlenku cynku wytwarzane metodami próżniowymi.
[Aut.]: Paulina
Boryło
, Krzysztof
Lukaszkowicz
.
-
Elektronika
2019 R. 60 nr 9
, s. 6-10, bibliogr. 8 poz..
Punktacja MNiSW
5.000
transparentne tlenki przewodzące
;
tlenek cynku
;
osadzanie warstw atomowych
;
ALD
;
rozpylanie magnetronowe
;
PVD
transparent conductive oxide
;
zinc oxide
;
atomic layer deposition
;
ALD
;
magnetron sputtering
;
PVD
11/23
Nr opisu:
0000131377
Optical Al
2
O
3
thin film for applications in silicon solar cells.
[Aut.]: Marek
Szindler
, Magdalena
Szindler
, Aleksandra
Drygała
, Paulina
Boryło
.
W:
13
th
Conference "Electron Technology" ELTE
. 43
rd
International Microelectronics and Packaging IMAPS Poland Conference, 4-6 September 2019, Wrocław, Poland. Technical digest. [Dokument elektroniczny]. Eds. Rafał Walczak, Karol Malecha. Kraków : International Microelectronics and Packaging Society Poland Chapter, 2019
, pamięć USB (PenDrive) s. 194-195, bibliogr. 2 poz.
krzemowe ogniwa słoneczne
;
osadzanie warstw atomowych
;
tritlenek aluminium
silicon solar cell
;
atomic layer deposition
;
aluminium trioxide
12/23
Nr opisu:
0000128364
Preparation and characterization of microsphere ZnO ALD coating dedicated for the fiber-optic refractive index sensor.
[Aut.]: P.
Listewnik
, M.
Hirsch
, Przemysław
Struk
, M.
Weber
, M.
Bechelany
, M.
Jędrzejewska-Szczerska
.
-
Nanomaterials
2019 vol. 9 iss. 2
, art. no. 306 s. 1-11, bibliogr. 48 poz..
Impact Factor
4.324.
Punktacja MNiSW
70.000
ZnO
;
osadzanie warstw atomowych
;
powłoka
;
mikrosfera
;
czujnik światłowodowy
;
współczynnik załamania
ZnO
;
atomic layer deposition
;
coating
;
microsphere
;
fiber-optic sensor
;
refractive index
13/23
Nr opisu:
0000132604
The optical parameters of TiO
2
antireflection coating prepared by ALD method for photovoltaic application.
[Aut.]: Marek
Szindler
, Magdalena
Szindler
, Paulina
Boryło
.
W:
Zeszyt abstraktów międzynarodowej konferencji Material Technologies in Silesia'2019, 13-16 października 2019, Zawiercie
. Red. Mirosław Bonek. Gliwice : Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych. Wydział Mechaniczny Technologiczny. Politechnika Śląska, 2019
, s. 165-166, bibliogr. 2 poz. (
Prace Instytutu Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych
;
Wydział Mechaniczny Technologiczny. Politechnika Śląska
z. 6)
dwutlenek tytanu
;
osadzanie warstw atomowych
;
powłoka antyrefleksyjna
titanium dioxide
;
atomic layer deposition
;
antireflection coating
14/23
Nr opisu:
0000131507
ZnO coated fiber optic microsphere sensor for the enhanced refractive index sensing.
[Aut.]: M.
Hirsch
, P.
Listewnik
, Przemysław
Struk
, M.
Weber
, M.
Bechelany
, M.
Szczerska
.
-
Sens. Actuators, A Phys.
2019 vol. 298
, art. no. 111594 s. 1-8, bibliogr. 58 poz..
Impact Factor
2.904.
Punktacja MNiSW
100.000
ZnO
;
osadzanie warstw atomowych
;
powłoka
;
mikrosfera
;
sensor
;
współczynnik załamania
;
światłowód
ZnO
;
atomic layer deposition
;
coating
;
microsphere
;
sensor
;
refractive index
;
fiber-optic
15/23
Nr opisu:
0000122968
Analysis of the corrosion protective ability of atomic layer deposition silica-based coatings deposited on 316LVM steel.
[Aut.]: Marcin
Basiaga
, Witold
Walke
, Wojciech
Kajzer
, Agnieszka*
Hyla
, Alina
Domanowska
, Anna
Michalewicz
, C.
Krawczyk
.
-
Materialwissensch. Werkstofftech.
2018 vol. 49 iss. 5
, s. 551-561, bibliogr. 53 poz..
Impact Factor
0.556.
Punktacja MNiSW
15.000
316 LVM
;
SiO2
;
osadzanie warstw atomowych
;
spektroskopia elektronów Augera
;
skaningowy mikroskop elektronowy
;
test potencjodynamiczny
;
wykres impedancji elektrochemicznej
316 LVM
;
SiO2
;
atomic layer deposition
;
Auger electron spectroscopy
;
scanning electron microscopy
;
potentiodynamic test
;
electrochemical impedance plot
16/23
Nr opisu:
0000122972
Effect of thin SiO
2
layers deposited by means of atomic layer deposition method on the mechanical and physical properties of stainless steel.
[Aut.]: Marcin
Basiaga
, Witold
Walke
, Magdalena
Antonowicz
, Agata
Sambok-Kiełbowicz
, Damian
Nakonieczny
, M.
Gawlikowski
, B.
Zawidlak-Węgrzyńska
, C.
Krawczyk
.
-
Materialwissensch. Werkstofftech.
2018 vol. 49 iss. 5
, s. 562-567, bibliogr. 22 poz..
Impact Factor
0.556.
Punktacja MNiSW
15.000
316 LVM
;
ditlenek krzemu
;
osadzanie warstw atomowych
;
właściwości mechaniczne
;
właściwości fizyczne
316 LVM
;
silicon dioxide
;
atomic layer deposition
;
mechanical properties
;
physical properties
17/23
Nr opisu:
0000126830
Metallic skeletons as reinforcement of new composite materials applied in orthopaedics and dentistry.
[Aut.]: L. A.
Dobrzański
, A.
Dobrzańska-Danikiewicz
, Z.
Czuba
, L. B.
Dobrzański
, A.
Achtelik-Franczak
, P.
Malara
, Marek
Szindler
, L.
Kroll
.
-
Arch. Mater. Sci. Eng.
2018 vol. 92 nr 2
, s. 53-85, bibliogr. 90 poz..
Punktacja MNiSW
13.000
biologiczny materiał kompozytowy
;
implanto-skafold
;
rusztowanie
;
stop tytanu
;
selektywne spiekanie laserowe
;
osadzanie warstw atomowych
;
medycyna regeneracyjna
;
stomatologia regeneracyjna
;
hodowla żywych komórek
biological-engineering composite material
;
implant-scaffold
;
scaffold
;
titanium alloy
;
selective laser sintering
;
atomic layer deposition
;
regenerative medicine
;
regenerative dentistry
;
living cells culture
18/23
Nr opisu:
0000124104
Nanolayers in fiber-optic biosensing.
[Aut.]: M.
Jędrzejewska-Szczerska
, D.
Majchrowicz
, M.
Hirsch
, Przemysław
Struk
, R.
Bogdanowicz
, M.
Bechelany
, V.
Tuchin
.
W:
Nanotechnology and biosensors
. Ed. by Dimitrios P. Nikolelis, Georgia-Paraskevi Nikoleli. Amsterdam : Elsevier, 2018
, s. 395-426.
Punktacja MNiSW
20.000
czujnik światłowodowy
;
biosensor
;
cienka powłoka
;
osadzanie warstw atomowych
;
ALD
;
nanodiament
;
NCD
;
nanodiament domieszkowany borem
;
B-NCD
;
tlenek cynku
;
ZnO
;
dwutlenek tytanu
;
TiO2
;
tlenek glinu
;
Al2O3
fiber-optic sensor
;
biosensor
;
thin film
;
atomic layer deposition
;
ALD
;
nanodiamond
;
NCD
;
boron-doped nanodiamond
;
B-NCD
;
zinc oxide
;
ZnO
;
titanium dioxide
;
TiO2
;
aluminium oxide
;
Al2O3
19/23
Nr opisu:
0000125590
The new generation of the biological-engineering materials for applications in medical and dental implant-scaffolds.
[Aut.]: L. A.
Dobrzański
, A.
Dobrzańska-Danikiewicz
, Z.
Czuba
, L. B.
Dobrzański
, A.
Achtelik-Franczak
, P.
Malara
, Marek
Szindler
, L.
Kroll
.
-
Arch. Mater. Sci. Eng.
2018 vol. 91 nr 2
, s. 56-85, bibliogr. 207 poz..
Punktacja MNiSW
13.000
medycyna regeneracyjna
;
inżynieria tkankowa
;
inżynieria materiałowa
;
inżynieria powierzchni
;
implanto-skafold
;
selektywne spiekanie laserowe
;
stop tytanu
;
osadzanie warstw atomowych
;
materiał biologiczno-inżynierski
;
warstwy płaskie żywych komórek
regenerative medicine
;
tissue engineering
;
materials engineering
;
surface engineering
;
implant-scaffold
;
selective laser sintering
;
titanium alloy
;
atomic layer deposition
;
biological-engineering material
;
flat layers of living cells
20/23
Nr opisu:
0000116920
Cienkie warstwy ALD stosowane w fotowoltaice i optoelektronice.
[Aut.]: Paulina
Boryło
, Marek
Szindler
, Krzysztof
Lukaszkowicz
, Magdalena
Szindler
.
W:
Szesnasta Krajowa Konferencja Elektroniki, Darłowo, 05-09.06.2017
. Materiały konferencji. [Dokument elektroniczny]. [B.m.] : [b.w.], 2017
, pamięć USB (PenDrive) s. 364-365, bibliogr. 16 poz.
fotowoltaika
;
optoelektronika
;
warstwa antyrefleksyjna
;
transparentna warstwa przewodząca
;
osadzanie warstw atomowych
photovoltaics
;
optoelectronics
;
antireflection layer
;
transparent conducting film
;
atomic layer deposition
21/23
Nr opisu:
0000118917
Comparison of surface morphology and structure of Al2O3 thin films deposited by sol-gel and ALD methods.
[Aut.]: Marek
Szindler
, L. A.
Dobrzański
, Magdalena
Szindler
, Mirosława
Pawlyta
, Tymoteusz*
Jung
.
-
J. Achiev. Mater. Manuf. Eng.
2017 vol. 82 iss. 2
, s. 49-57, bibliogr. 31 poz..
Punktacja MNiSW
12.000
zol-żel
;
osadzanie warstw atomowych
;
tlenek glinu
;
powłoka cienka
;
powłoka antyrefleksyjna
sol-gel
;
atomic layer deposition
;
aluminium oxide
;
thin film
;
antireflection coating
22/23
Nr opisu:
0000122732
Structure and optical properties of TiO2 thin films deposited by ALD method.
[Aut.]: Marek
Szindler
, Magdalena
Szindler
, Paulina
Boryło
, Tymoteusz*
Jung
.
-
Open Phys.
2017 vol 15 iss. 1
, s. 1067-1071, bibliogr. 15 poz..
Impact Factor
0.755.
Punktacja MNiSW
15.000
fotowoltaika
;
krzemowe ogniwo słoneczne
;
osadzanie warstw atomowych
;
powłoka antyrefleksyjna
photovoltaic
;
silicon solar cell
;
atomic layer deposition
;
antireflection coating
23/23
Nr opisu:
0000106201
Mechanical properties of atomic layer deposition (ALD) TiO2 layers on stainless steel substrates.
[Aut.]: Marcin
Basiaga
, Marcin
Staszuk
, Witold
Walke
, Zbigniew
Opilski
.
-
Materialwissensch. Werkstofftech.
2016 vol. 47 iss. 5/6
, s. 512-520, bibliogr. 29 poz..
Impact Factor
0.524.
Punktacja MNiSW
15.000
316 LVM
;
TiO2
;
osadzanie warstw atomowych
;
próba zarysowania
;
nanotwardość
;
elipsometria
;
mikroskopia sił atomowych
;
AFM
316 LVM
;
TiO2
;
atomic layer deposition
;
scratch test
;
nanohardness
;
ellipsometry
;
atomic force microscopy
;
AFM
stosując format:
standardowy
pełny z etykietami pól
roboczy
redakcja skr.
redakcja peł.
kontrolny
Nowe wyszukiwanie