Wynik wyszukiwania
Zapytanie:
CHEMICZNE OSADZANIE Z FAZY GAZOWEJ
Liczba odnalezionych rekordów:
14
Przejście do opcji zmiany formatu
|
Wyświetlenie wyników w wersji do druku
|
Pobranie pliku do edytora
|
Przesłanie wyników do modułu analizy
|
excel
|
Nowe wyszukiwanie
1/14
Nr opisu:
0000096752
CVD synthesis of MWCNTs using Fe catalyst.
[Aut.]: Anna*
Dobrzańska-Danikiewicz
, Mirosława
Pawlyta
, Dariusz
Łukowiec
, Dawid*
Cichocki
, Weronika*
Wolany
.
-
Arch. Mater. Sci. Eng.
2014 vol. 65 nr 2
, s. 58-65, bibliogr. 17 poz..
Punktacja MNiSW
13.000
nanomateriały
;
wielościenne nanorurki węglowe
;
chemiczne osadzanie z fazy gazowej
;
CVD
;
katalizator
nanomaterials
;
multi-walled carbon nanotubes
;
chemical vapour deposition
;
CVD
;
catalyst
2/14
Nr opisu:
0000098597
Optymalizacja procesu otrzymywania grafenu na podłożu metalicznym metodą Chemical Vapour Deposition.
[Aut.]: Michał*
Włodarski
.
W:
I Konferencja naukowa w ramach projektu Inżynier bez granic
. Inżynier bez granic - nowoczesne formy kształcenia bazujące na współpracy ponadnarodowej, Gliwice, 19 grudnia 2014 r. [B.m.] : [b.w.], 2014
, s. 25-28, bibliogr. 3 poz.
grafen
;
wytwarzanie grafenu
;
chemiczne osadzanie z fazy gazowej
graphene
;
graphene manufacturing
;
chemical vapour deposition
3/14
Nr opisu:
0000096366
Synthesis conditions of carbon nanotubes with the chemical vapor deposition method.
[Aut.]: Anna*
Dobrzańska-Danikiewicz
, Dawid*
Cichocki
, Mirosława
Pawlyta
, Dariusz
Łukowiec
, Weronika*
Wolany
.
-
Phys. Status Solidi, B Basic Solid State Phys.
2014 vol. 251 iss. 12
, s. 2420-2425, bibliogr. 12 poz..
Impact Factor
1.489.
Punktacja MNiSW
20.000
nanorurki węglowe
;
chemiczne osadzanie z fazy gazowej
;
nanomateriały
;
elektronowy mikroskop transmisyjny
carbon nanotubes
;
chemical vapour deposition
;
nanomaterials
;
transmission electron microscopy
4/14
Nr opisu:
0000091745
Wybrane możliwości wytwarzania materiałów inżynierskich w Laboratorium Naukowo-Dydaktycznym Nanotechnologii i Technologii Materiałowych Instytutu Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych.
[Aut.]: Dawid*
Cichocki
, Tomasz*
Gaweł
.
W:
I Interdyscyplinarna Sesja Wyjazdowa Doktorantów Politechniki Śląskiej, Szczyrk, 22-23 listopada 2013
. Zeszyt naukowy. Praca zbiorowa. [Dokument elektroniczny]. Pod red. Doroty Mikosz. Gliwice : Wydaw. Uczelnianej Rady Samorządu Doktorantów Politechniki Śląskiej, 2014
, dysk optyczny (CD-ROM) s. 61-70, bibliogr. 22 poz.
chemiczne osadzanie z fazy gazowej
;
CVD
;
nanorurki węglowe
;
selektywne spiekanie laserowe
;
SLS
;
szybkie prototypowanie
;
technologia przyrostowa
chemical vapour deposition
;
CVD
;
carbon nanotubes
;
selective laser sintering
;
SLS
;
rapid prototyping
;
incremental technology
5/14
Nr opisu:
0000093699
Wytwarzanie nanorurek węglowych metodą chemicznego osadzania z fazy gazowej CVD.
[Aut.]: Dawid*
Cichocki
, Weronika*
Wolany
, Anna*
Dobrzańska-Danikiewicz
.
W:
Sesja Okolicznościowa Studenckich Kół Naukowych "SO-KÓŁ'14"
. Red. Mirosław Bonek. Gliwice : Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych Politechniki Śląskiej, 2014
, s. 19-26, bibliogr. 7 poz. (
Prace Studenckich Kół Naukowych
;
Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych. Politechnika Śląska
nr 30)
chemiczne osadzanie z fazy gazowej
;
nanomateriały
;
nanorurki węglowe
chemical vapour deposition
;
nanomaterials
;
carbon nanotubes
6/14
Nr opisu:
0000091595
Badanie własności cienkich warstw poliazometin.
[Aut.]: Jan**
Weszka
, B.
Hajduk
.
W:
Ćwiczenia laboratoryjne z inżynierii materiałowej i nanotechnologii
. Praca zbiorowa. Pod red. Leszka A. Dobrzańskiego i Tomasza Tańskiego. Gliwice : International OCSCO World Press, 2013
, s. 628-631 (
Open Access Library
; vol. 10 (28) 2083-5191)
organiczne ogniwo fotowoltaiczne
;
organiczna dioda elektroluminescencyjna
;
nanoszenie warstw
;
chemiczne osadzanie z fazy gazowej
;
warstwa cienka
;
własności elektryczne
;
ćwiczenia laboratoryjne
organic solar cell
;
organic light emitting diode
;
film deposition
;
chemical vapour deposition
;
thin film
;
electric properties
;
laboratory exercises
7/14
Nr opisu:
0000091585
Powłoki chemicznie osadzane z fazy gazowej na stopach magnezu.
[Aut.]: Tomasz
Tański
, Leszek**
Dobrzański
.
W:
Ćwiczenia laboratoryjne z inżynierii materiałowej i nanotechnologii
. Praca zbiorowa. Pod red. Leszka A. Dobrzańskiego i Tomasza Tańskiego. Gliwice : International OCSCO World Press, 2013
, s. 592-595 (
Open Access Library
; vol. 10 (28) 2083-5191)
stop magnezu
;
powłoka CVD
;
chemiczne osadzanie z fazy gazowej
;
analiza spektralna
;
własności mechaniczne
;
własności użytkowe
;
ćwiczenia laboratoryjne
magnesium alloy
;
CVD coating
;
chemical vapour deposition
;
spectral analysis
;
mechanical properties
;
functional properties
;
laboratory exercises
8/14
Nr opisu:
0000091562
Powłoki wytwarzane techniką fizycznego i chemicznego osadzania z fazy gazowej (PVD i CVD).
[Aut.]: Krzysztof
Lukaszkowicz
, Magdalena
Polok-Rubiniec
, Tomasz
Tański
, Waldemar
Kwaśny
.
W:
Ćwiczenia laboratoryjne z inżynierii materiałowej i nanotechnologii
. Praca zbiorowa. Pod red. Leszka A. Dobrzańskiego i Tomasza Tańskiego. Gliwice : International OCSCO World Press, 2013
, s. 524-527 (
Open Access Library
; vol. 10 (28) 2083-5191)
powłoka
;
fizyczne osadzanie z fazy gazowej
;
chemiczne osadzanie z fazy gazowej
;
PVD
;
CVD
;
własności mechaniczne
;
własności użytkowe
;
ćwiczenia laboratoryjne
coating
;
physical vapour deposition
;
chemical vapour deposition
;
PVD
;
CVD
;
mechanical properties
;
functional properties
;
laboratory exercises
9/14
Nr opisu:
0000091578
Struktura powłok PVD i CVD uzyskanych na spiekanych materiałach narzędziowych.
[Aut.]: Klaudiusz
Gołombek
, Waldemar
Kwaśny
.
W:
Ćwiczenia laboratoryjne z inżynierii materiałowej i nanotechnologii
. Praca zbiorowa. Pod red. Leszka A. Dobrzańskiego i Tomasza Tańskiego. Gliwice : International OCSCO World Press, 2013
, s. 568-571 (
Open Access Library
; vol. 10 (28) 2083-5191)
materiał narzędziowy spiekany
;
powłoka PVD
;
powłoka CVD
;
fizyczne osadzanie z fazy gazowej
;
katodowe odparowanie łukowe
;
chemiczne osadzanie z fazy gazowej
;
ćwiczenia laboratoryjne
sintered tool material
;
PVD coating
;
CVD coating
;
physical vapour deposition
;
catodic arc evaporation
;
chemical vapour deposition
;
laboratory exercises
10/14
Nr opisu:
0000091413
Wytwarzanie nanomateriałów.
[Aut.]: Anna*
Dobrzańska-Danikiewicz
, Dariusz
Łukowiec
, Bogusław
Ziębowicz
.
W:
Ćwiczenia laboratoryjne z inżynierii materiałowej i nanotechnologii
. Praca zbiorowa. Pod red. Leszka A. Dobrzańskiego i Tomasza Tańskiego. Gliwice : International OCSCO World Press, 2013
, s. 304-307 (
Open Access Library
; vol. 10 (28) 2083-5191)
nanorurki węglowe
;
chemiczne osadzanie z fazy gazowej
;
prekursor
;
ćwiczenia laboratoryjne
carbon nanotubes
;
chemical vapour deposition
;
precursor
;
laboratory exercises
11/14
Nr opisu:
0000067005
Reconstruction of thin films polyazomethine based on microscopic images.
[Aut.]: Jan**
Weszka
, Marek
Szindler
, Agata
Śliwa
, Barbara*
Hajduk
, J.
Jurusik
.
-
Arch. Mater. Sci. Eng.
2011 vol. 48 nr 1
, s. 40-48, bibliogr. 20 poz..
Punktacja MNiSW
9.000
chemiczne osadzanie z fazy gazowej
;
mikroskopowa siła atomowa
;
mikroskop elektronowy skaningowy
;
oprogramowanie WSxM
chemical vapour deposition
;
atomic force microscope
;
scanning electron microscope
;
WSxM software
12/14
Nr opisu:
0000065156
Tailoring electronic structure of polyazomethines thin films.
[Aut.]: Jan**
Weszka
, Barbara*
Hajduk
, M.
Domański
, Małgorzata*
Chwastek
, J.
Jarusik
, B.
Jarząbek
, H.
Bednarski
, Paweł
Jarka
.
-
J. Achiev. Mater. Manuf. Eng.
2010 vol. 42 iss. 1/2
, s. 180-187, bibliogr. 15 poz.
poliazometiny
;
chemiczne osadzanie z fazy gazowej
;
odparowanie próżniowe
;
struktura elektronowa
polyazomethine
;
chemical vapour deposition
;
vacuum evaporation
;
electronic structure
13/14
Nr opisu:
0000050227
Influence of LCVD technological parameters on properties of polyazomethine thin films.
[Aut.]: Barbara*
Hajduk
, Jan**
Weszka
, J.
Jurusik
.
-
J. Achiev. Mater. Manuf. Eng.
2009 vol. 36 iss. 1
, s. 41-48, bibliogr. 19 poz.
spektroskopia UV-Vis
;
mikroskopia AFM
;
chemiczne osadzanie z fazy gazowej
;
CVD
;
LCVD
;
polimer skoniugowany
UV-Vis spectroscopy
;
AFM microscopy
;
chemical vapour deposition
;
CVD
;
LCVD
;
conjugated polymer
14/14
Nr opisu:
0000039997
Technology and performances of silicon oxynitride waveguides for optomechanical sensors fabricated by plasma-enhanced chemical vapour deposition.
[Aut.]: A.
Sabac
, C.
Gorecki
, M.
Jóźwik
, L.
Nieradko
, C.
Meunier
, Kazimierz
Gut
.
-
J. Eur. Opt. Soc., Rapid Publ.
2007 vol. 2
, s. 07025/1 - 07025/8
optyka zintegrowana
;
system mikroelektromechaniczny
;
MEMS
;
falowód
;
czujnik optomechniczny
;
chemiczne osadzanie z fazy gazowej
integrated optics
;
microelectromechanical system
;
MEMS
;
waveguide
;
optomechanical sensor
;
chemical vapour deposition
stosując format:
standardowy
pełny z etykietami pól
roboczy
redakcja skr.
redakcja peł.
kontrolny
Nowe wyszukiwanie