Wynik wyszukiwania
Zapytanie: CHEMICZNE OSADZANIE Z FAZY GAZOWEJ
Liczba odnalezionych rekordów: 14



Przejście do opcji zmiany formatu | Wyświetlenie wyników w wersji do druku | Pobranie pliku do edytora | Przesłanie wyników do modułu analizy | excel | Nowe wyszukiwanie
1/14
Nr opisu: 0000096752   
CVD synthesis of MWCNTs using Fe catalyst.
[Aut.]: Anna* Dobrzańska-Danikiewicz, Mirosława Pawlyta, Dariusz Łukowiec, Dawid* Cichocki, Weronika* Wolany.
-Arch. Mater. Sci. Eng. 2014 vol. 65 nr 2, s. 58-65, bibliogr. 17 poz.. Punktacja MNiSW 13.000

nanomateriały ; wielościenne nanorurki węglowe ; chemiczne osadzanie z fazy gazowej ; CVD ; katalizator

nanomaterials ; multi-walled carbon nanotubes ; chemical vapour deposition ; CVD ; catalyst

2/14
Nr opisu: 0000098597
Optymalizacja procesu otrzymywania grafenu na podłożu metalicznym metodą Chemical Vapour Deposition.
[Aut.]: Michał* Włodarski.
W: I Konferencja naukowa w ramach projektu Inżynier bez granic. Inżynier bez granic - nowoczesne formy kształcenia bazujące na współpracy ponadnarodowej, Gliwice, 19 grudnia 2014 r. [B.m.] : [b.w.], 2014, s. 25-28, bibliogr. 3 poz.

grafen ; wytwarzanie grafenu ; chemiczne osadzanie z fazy gazowej

graphene ; graphene manufacturing ; chemical vapour deposition

3/14
Nr opisu: 0000096366   
Synthesis conditions of carbon nanotubes with the chemical vapor deposition method.
[Aut.]: Anna* Dobrzańska-Danikiewicz, Dawid* Cichocki, Mirosława Pawlyta, Dariusz Łukowiec, Weronika* Wolany.
-Phys. Status Solidi, B Basic Solid State Phys. 2014 vol. 251 iss. 12, s. 2420-2425, bibliogr. 12 poz.. Impact Factor 1.489. Punktacja MNiSW 20.000

nanorurki węglowe ; chemiczne osadzanie z fazy gazowej ; nanomateriały ; elektronowy mikroskop transmisyjny

carbon nanotubes ; chemical vapour deposition ; nanomaterials ; transmission electron microscopy

4/14
Nr opisu: 0000091745
Wybrane możliwości wytwarzania materiałów inżynierskich w Laboratorium Naukowo-Dydaktycznym Nanotechnologii i Technologii Materiałowych Instytutu Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych.
[Aut.]: Dawid* Cichocki, Tomasz* Gaweł.
W: I Interdyscyplinarna Sesja Wyjazdowa Doktorantów Politechniki Śląskiej, Szczyrk, 22-23 listopada 2013. Zeszyt naukowy. Praca zbiorowa. [Dokument elektroniczny]. Pod red. Doroty Mikosz. Gliwice : Wydaw. Uczelnianej Rady Samorządu Doktorantów Politechniki Śląskiej, 2014, dysk optyczny (CD-ROM) s. 61-70, bibliogr. 22 poz.

chemiczne osadzanie z fazy gazowej ; CVD ; nanorurki węglowe ; selektywne spiekanie laserowe ; SLS ; szybkie prototypowanie ; technologia przyrostowa

chemical vapour deposition ; CVD ; carbon nanotubes ; selective laser sintering ; SLS ; rapid prototyping ; incremental technology

5/14
Nr opisu: 0000093699   
Wytwarzanie nanorurek węglowych metodą chemicznego osadzania z fazy gazowej CVD.
[Aut.]: Dawid* Cichocki, Weronika* Wolany, Anna* Dobrzańska-Danikiewicz.
W: Sesja Okolicznościowa Studenckich Kół Naukowych "SO-KÓŁ'14". Red. Mirosław Bonek. Gliwice : Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych Politechniki Śląskiej, 2014, s. 19-26, bibliogr. 7 poz. (Prace Studenckich Kół Naukowych ; Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych. Politechnika Śląska nr 30)

chemiczne osadzanie z fazy gazowej ; nanomateriały ; nanorurki węglowe

chemical vapour deposition ; nanomaterials ; carbon nanotubes

6/14
Nr opisu: 0000091595
Badanie własności cienkich warstw poliazometin.
[Aut.]: Jan** Weszka, B. Hajduk.
W: Ćwiczenia laboratoryjne z inżynierii materiałowej i nanotechnologii. Praca zbiorowa. Pod red. Leszka A. Dobrzańskiego i Tomasza Tańskiego. Gliwice : International OCSCO World Press, 2013, s. 628-631 (Open Access Library ; vol. 10 (28) 2083-5191)

organiczne ogniwo fotowoltaiczne ; organiczna dioda elektroluminescencyjna ; nanoszenie warstw ; chemiczne osadzanie z fazy gazowej ; warstwa cienka ; własności elektryczne ; ćwiczenia laboratoryjne

organic solar cell ; organic light emitting diode ; film deposition ; chemical vapour deposition ; thin film ; electric properties ; laboratory exercises

7/14
Nr opisu: 0000091585
Powłoki chemicznie osadzane z fazy gazowej na stopach magnezu.
[Aut.]: Tomasz Tański, Leszek** Dobrzański.
W: Ćwiczenia laboratoryjne z inżynierii materiałowej i nanotechnologii. Praca zbiorowa. Pod red. Leszka A. Dobrzańskiego i Tomasza Tańskiego. Gliwice : International OCSCO World Press, 2013, s. 592-595 (Open Access Library ; vol. 10 (28) 2083-5191)

stop magnezu ; powłoka CVD ; chemiczne osadzanie z fazy gazowej ; analiza spektralna ; własności mechaniczne ; własności użytkowe ; ćwiczenia laboratoryjne

magnesium alloy ; CVD coating ; chemical vapour deposition ; spectral analysis ; mechanical properties ; functional properties ; laboratory exercises

8/14
Nr opisu: 0000091562
Powłoki wytwarzane techniką fizycznego i chemicznego osadzania z fazy gazowej (PVD i CVD).
[Aut.]: Krzysztof Lukaszkowicz, Magdalena Polok-Rubiniec, Tomasz Tański, Waldemar Kwaśny.
W: Ćwiczenia laboratoryjne z inżynierii materiałowej i nanotechnologii. Praca zbiorowa. Pod red. Leszka A. Dobrzańskiego i Tomasza Tańskiego. Gliwice : International OCSCO World Press, 2013, s. 524-527 (Open Access Library ; vol. 10 (28) 2083-5191)

powłoka ; fizyczne osadzanie z fazy gazowej ; chemiczne osadzanie z fazy gazowej ; PVD ; CVD ; własności mechaniczne ; własności użytkowe ; ćwiczenia laboratoryjne

coating ; physical vapour deposition ; chemical vapour deposition ; PVD ; CVD ; mechanical properties ; functional properties ; laboratory exercises

9/14
Nr opisu: 0000091578
Struktura powłok PVD i CVD uzyskanych na spiekanych materiałach narzędziowych.
[Aut.]: Klaudiusz Gołombek, Waldemar Kwaśny.
W: Ćwiczenia laboratoryjne z inżynierii materiałowej i nanotechnologii. Praca zbiorowa. Pod red. Leszka A. Dobrzańskiego i Tomasza Tańskiego. Gliwice : International OCSCO World Press, 2013, s. 568-571 (Open Access Library ; vol. 10 (28) 2083-5191)

materiał narzędziowy spiekany ; powłoka PVD ; powłoka CVD ; fizyczne osadzanie z fazy gazowej ; katodowe odparowanie łukowe ; chemiczne osadzanie z fazy gazowej ; ćwiczenia laboratoryjne

sintered tool material ; PVD coating ; CVD coating ; physical vapour deposition ; catodic arc evaporation ; chemical vapour deposition ; laboratory exercises

10/14
Nr opisu: 0000091413
Wytwarzanie nanomateriałów.
[Aut.]: Anna* Dobrzańska-Danikiewicz, Dariusz Łukowiec, Bogusław Ziębowicz.
W: Ćwiczenia laboratoryjne z inżynierii materiałowej i nanotechnologii. Praca zbiorowa. Pod red. Leszka A. Dobrzańskiego i Tomasza Tańskiego. Gliwice : International OCSCO World Press, 2013, s. 304-307 (Open Access Library ; vol. 10 (28) 2083-5191)

nanorurki węglowe ; chemiczne osadzanie z fazy gazowej ; prekursor ; ćwiczenia laboratoryjne

carbon nanotubes ; chemical vapour deposition ; precursor ; laboratory exercises

11/14
Nr opisu: 0000067005   
Reconstruction of thin films polyazomethine based on microscopic images.
[Aut.]: Jan** Weszka, Marek Szindler, Agata Śliwa, Barbara* Hajduk, J. Jurusik.
-Arch. Mater. Sci. Eng. 2011 vol. 48 nr 1, s. 40-48, bibliogr. 20 poz.. Punktacja MNiSW 9.000

chemiczne osadzanie z fazy gazowej ; mikroskopowa siła atomowa ; mikroskop elektronowy skaningowy ; oprogramowanie WSxM

chemical vapour deposition ; atomic force microscope ; scanning electron microscope ; WSxM software

12/14
Nr opisu: 0000065156   
Tailoring electronic structure of polyazomethines thin films.
[Aut.]: Jan** Weszka, Barbara* Hajduk, M. Domański, Małgorzata* Chwastek, J. Jarusik, B. Jarząbek, H. Bednarski, Paweł Jarka.
-J. Achiev. Mater. Manuf. Eng. 2010 vol. 42 iss. 1/2, s. 180-187, bibliogr. 15 poz.

poliazometiny ; chemiczne osadzanie z fazy gazowej ; odparowanie próżniowe ; struktura elektronowa

polyazomethine ; chemical vapour deposition ; vacuum evaporation ; electronic structure

13/14
Nr opisu: 0000050227   
Influence of LCVD technological parameters on properties of polyazomethine thin films.
[Aut.]: Barbara* Hajduk, Jan** Weszka, J. Jurusik.
-J. Achiev. Mater. Manuf. Eng. 2009 vol. 36 iss. 1, s. 41-48, bibliogr. 19 poz.

spektroskopia UV-Vis ; mikroskopia AFM ; chemiczne osadzanie z fazy gazowej ; CVD ; LCVD ; polimer skoniugowany

UV-Vis spectroscopy ; AFM microscopy ; chemical vapour deposition ; CVD ; LCVD ; conjugated polymer

14/14
Nr opisu: 0000039997   
Technology and performances of silicon oxynitride waveguides for optomechanical sensors fabricated by plasma-enhanced chemical vapour deposition.
[Aut.]: A. Sabac, C. Gorecki, M. Jóźwik, L. Nieradko, C. Meunier, Kazimierz Gut.
-J. Eur. Opt. Soc., Rapid Publ. 2007 vol. 2, s. 07025/1 - 07025/8

optyka zintegrowana ; system mikroelektromechaniczny ; MEMS ; falowód ; czujnik optomechniczny ; chemiczne osadzanie z fazy gazowej

integrated optics ; microelectromechanical system ; MEMS ; waveguide ; optomechanical sensor ; chemical vapour deposition

stosując format:
Nowe wyszukiwanie