Wynik wyszukiwania
Zapytanie: ALD
Liczba odnalezionych rekordów: 33



Przejście do opcji zmiany formatu | Wyświetlenie wyników w wersji do druku | Pobranie pliku do edytora | Przesłanie wyników do modułu analizy | excel | Nowe wyszukiwanie
1/33
Nr opisu: 0000138125   
Nanokrystaliczne wielowarstwowe powłoki osadzane metodą ALD na soczewki okularowe.
[Aut.]: Adam Gorol, Adam Grala, Jakub Krężel, Patryk Mielniczek, Paweł Podsiedlik, Łukasz Zyg, Aleksandra Drygała, Magdalena Szindler.
W: Poszerzamy horyzonty. Monografia. T. 21, cz. 3. Red. Małgorzata Bogusz, Agnieszka Piotrowska-Puchała, Monika Wojcieszek. Słupsk : Mateusz Weiland Network Solutions, 2020, s. 127-136, bibliogr. 22 poz.

soczewka okularowa ; ALD ; powłoka wielowarstwowa

spectacle lens ; ALD ; multi-layer coating

2/33
Nr opisu: 0000138132   
Nanokrystaliczne wielowarstwowe powłoki osadzane metodą ALD na soczewki okularowe.
[Aut.]: Adam Gorol, Adam Grala, Jakub Krężel, Patryk Mielniczek, Paweł Podsiedlik, Łukasz Zyg, Aleksandra Drygała, Magdalena Szindler.
W: Ogólnopolska Konferencja Interdyscyplinarna pn: "OMNIBUS Cz. V", Kraków, 10-11 września 2020 r.. Ksiązka abstraktów,. Nauki Interdyscyplinarne. Słupsk : Mateusz Weiland Network Solutions, 2020, s. 64-65

soczewka okularowa ; ALD ; powłoka wielowarstwowa

spectacle lens ; ALD ; multi-layer coating

3/33
Nr opisu: 0000137131   
Structure and properties of ZnO coatings obtained by atomic layer deposition (ALD) method on a Cr-Ni-Mo steel substrate type.
[Aut.]: Marcin Staszuk, Daniel Pakuła, Łukasz Reimann, Mariusz Król, Marcin Basiaga, D. Mysłek, A. Kriz.
-Materials 2020 vol. 13 iss. 19, s. 1-18, bibliogr. 37 poz.. Impact Factor 3.057. Punktacja MNiSW 140.000

nanostruktura ; właściwości mechaniczne ; osadzanie warstw atomowych ; ALD ; tlenek cynku ; ZnO ; stal nierdzewna 316L ; odporność na korozję

nanostructure ; mechanical properties ; atomic layer deposition ; ALD ; zinc oxide ; ZnO ; 316L stainless steel ; corrosion resistance

4/33
Nr opisu: 0000130584
Application of PVD and ALD methods for surface treatment of Al-Si-Cu alloys.
[Aut.]: Marcin Staszuk.
W: Functional thin films and special coatings. Eds.: Tomasz Tański, Przemysław Snopiński. Stafa-Zurich : Trans Tech Publications, 2019, s. 97-109 (Solid State Phenomena ; vol. 293 1662-9779). Punktacja MNiSW 5.000

ALD ; odporność na korozję ; powłoka hybrydowa ; PVD ; TEM

ALD ; corrosion resistance ; hybrid coating ; PVD ; TEM

5/33
Nr opisu: 0000133567
Computer analysis and optimization of materials with complex properties and microstructures. Ed. Piotr Fedeliński.
[Aut.]: Grzegorz Dziatkiewicz, Piotr Fedeliński, Arkadiusz Poteralski, Jacek Ptaszny.
Gliwice : Wydaw. Politechniki Śląskiej, 2019, 133 s., bibliogr. 98 poz.
(Monografia ; [Politechnika Śląska] nr 811). Punktacja MNiSW 80.000

szybka wielobiegunowa metoda elementów brzegowych ; SWMEB ; algebra liczb dualnych ; ALD ; sztuczny system immunologiczny ; SSI

fast multipole boundary element method ; FMBEM ; dual number algebra ; DNA ; artificial immune system ; AIS

6/33
Nr opisu: 0000132461
Metody badawcze cienkich warstw wytworzonych metodą osadzania warstw atomowych.
[Aut.]: Paulina Boryło, Marek Szindler, Magdalena Szindler, Krzysztof Lukaszkowicz.
-LAB Laboratoria Apar. Bad. 2019 nr 5, s. 16-18, bibliogr. 4 poz.. Punktacja MNiSW 5.000

warstwa cienka ; osadzanie warstw atomowych ; ALD

thin layer ; atomic layer deposition ; ALD

7/33
Nr opisu: 0000130050
Nanometryczne warstwy tlenku cynku wytwarzane metodami próżniowymi.
[Aut.]: Paulina Boryło, Krzysztof Lukaszkowicz.
W: XVIII Krajowa Konferencja Elektroniki, Darłówko Wschodnie, 02-06.06.2019. Program konferencji. [Dokument elektroniczny]. [B.m.] : [b.w.], 2019, pamięć USB (PenDrive) s. 188-193, bibliogr. 9 poz.

transparentne tlenki przewodzące ; tlenek cynku ; osadzanie warstw atomowych ; ALD ; rozpylanie magnetronowe ; PVD

transparent conductive oxide ; zinc oxide ; atomic layer deposition ; ALD ; magnetron sputtering

8/33
Nr opisu: 0000131786   
Nanometryczne warstwy tlenku cynku wytwarzane metodami próżniowymi.
[Aut.]: Paulina Boryło, Krzysztof Lukaszkowicz.
-Elektronika 2019 R. 60 nr 9, s. 6-10, bibliogr. 8 poz.. Punktacja MNiSW 5.000

transparentne tlenki przewodzące ; tlenek cynku ; osadzanie warstw atomowych ; ALD ; rozpylanie magnetronowe ; PVD

transparent conductive oxide ; zinc oxide ; atomic layer deposition ; ALD ; magnetron sputtering ; PVD

9/33
Nr opisu: 0000122443   
The influence of atomic layer deposition process temperature on ZnO thin film structure.
[Aut.]: Paulina Boryło, Krzysztof Matus, Krzysztof Lukaszkowicz, J. Kubacki, K. Balin, Marcin Basiaga, Marek Szindler, Jarosław Mikuła.
-Appl. Surf. Sci. 2019 vol. 474, s. 177-186, bibliogr. 28 poz.. Impact Factor 6.182. Punktacja MNiSW 140.000

ZnO ; ALD ; TEM ; UV-Vis ; XPS ; ToF-SIMS

ZnO ; ALD ; TEM ; UV-Vis ; XPS ; ToF-SIMS

10/33
Nr opisu: 0000130585
Various applications of multifunctional thin films with specific properties deposited by the ALD method.
[Aut.]: Paulina Boryło, Marek Szindler, Krzysztof Lukaszkowicz.
W: Functional thin films and special coatings. Eds.: Tomasz Tański, Przemysław Snopiński. Stafa-Zurich : Trans Tech Publications, 2019, s. 111-123 (Solid State Phenomena ; vol. 293 1662-9779). Punktacja MNiSW 5.000

Al2O3 ; ALD ; ogniwo słoneczne ; TCL ; ZnO

Al2O3 ; ALD ; solar cell ; TCL ; ZnO

11/33
Nr opisu: 0000132598
Wpływ temperatury osadzania powłoki ALD typu ZnO na stali 316L na strukturę i własności fizykochemiczne.
[Aut.]: Marcin Staszuk, K. Bartczuk, Łukasz Reimann, Paweł Nuckowski, R. Szklarek.
W: Zeszyt abstraktów międzynarodowej konferencji Material Technologies in Silesia'2019, 13-16 października 2019, Zawiercie. Red. Mirosław Bonek. Gliwice : Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych. Wydział Mechaniczny Technologiczny. Politechnika Śląska, 2019, s. 157-158, bibliogr. 3 poz. (Prace Instytutu Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych ; Wydział Mechaniczny Technologiczny. Politechnika Śląska z. 6)

ZnO ; ALD ; EIS ; XRD ; SEM ; AFM

ZnO ; ALD ; EIS ; XRD ; SEM ; AFM

12/33
Nr opisu: 0000132617
Zastosowanie mikroskopii sił atomowych AFM w badaniach powierzchni materiałów stosowanych w protetyce stomatologicznej.
[Aut.]: Bogusław Ziębowicz, Anna Ziębowicz.
W: Zeszyt abstraktów międzynarodowej konferencji Material Technologies in Silesia'2019, 13-16 października 2019, Zawiercie. Red. Mirosław Bonek. Gliwice : Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych. Wydział Mechaniczny Technologiczny. Politechnika Śląska, 2019, s. 187-188, bibliogr. 10 poz. (Prace Instytutu Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych ; Wydział Mechaniczny Technologiczny. Politechnika Śląska z. 6)

AFM ; ALD ; tytan ; stopy tytanu ; warstwa ZrO2 ; topografia powierzchni ; inżynieria stomatologiczna

AFM ; ALD ; titanium ; titanium alloys ; ZrO2 layer ; surface topography ; dental engineering

13/33
Nr opisu: 0000132902   
Zastosowanie nanowarstw ZnO osadzanych metodą ALD w mikroelektronice i fotowoltaice.
[Aut.]: J. Szczypara, Daria Paczuła, Paulina Boryło, Weronika Izydorczyk.
-Pr. Inst. Mater. Inż. Biomed. 2019 nr 1, s. 243-249, bibliogr. 10 poz.. Punktacja MNiSW 5.000

warstwa cienka ; ALD ; mikroelektronika ; fotowoltaika ; ZnO ; nanotechnologia

thin film ; ALD ; microelectronics ; photovoltaic ; ZnO ; nanotechnology

14/33
Nr opisu: 0000123626   
Investigation of the structure and properties of PVD coatings and ALD + PVD hybrid coatings deposited on sialon tool ceramics.
[Aut.]: Marcin Staszuk, Daniel Pakuła, Grzegorz Chladek, Mirosława Pawlyta, M. Pancielejko, P. Czaja.
-Vacuum 2018 vol. 154, s. 272-284, bibliogr. 24 poz.. Impact Factor 2.515. Punktacja MNiSW 25.000

ALD ; powłoka hybrydowa ; PVD ; TEM ; tribologia

ALD ; hybrid coating ; PVD ; TEM ; tribology

15/33
Nr opisu: 0000124104
Nanolayers in fiber-optic biosensing.
[Aut.]: M. Jędrzejewska-Szczerska, D. Majchrowicz, M. Hirsch, Przemysław Struk, R. Bogdanowicz, M. Bechelany, V. Tuchin.
W: Nanotechnology and biosensors. Ed. by Dimitrios P. Nikolelis, Georgia-Paraskevi Nikoleli. Amsterdam : Elsevier, 2018, s. 395-426. Punktacja MNiSW 20.000

czujnik światłowodowy ; biosensor ; cienka powłoka ; osadzanie warstw atomowych ; ALD ; nanodiament ; NCD ; nanodiament domieszkowany borem ; B-NCD ; tlenek cynku ; ZnO ; dwutlenek tytanu ; TiO2 ; tlenek glinu ; Al2O3

fiber-optic sensor ; biosensor ; thin film ; atomic layer deposition ; ALD ; nanodiamond ; NCD ; boron-doped nanodiamond ; B-NCD ; zinc oxide ; ZnO ; titanium dioxide ; TiO2 ; aluminium oxide ; Al2O3

16/33
Nr opisu: 0000124369
Structure and properties of biomorphous Al/C/TiO/TiC composite materials reinforced with charcoals coated in ALD and the sol-gel process.
[Aut.]: Tomasz Tański, Łukasz Krzemiński.
W: Heat treatment and plastic deformation of non-ferrous alloys. Eds.:Tomasz Tański, Przemysław Snopiński. Stafa-Zurich : Trans Tech Publications, 2018, s. 66-77, bibliogr. 29 poz. (Solid State Phenomena ; vol. 275 1662-9779). Punktacja MNiSW 5.000

ALD ; AlSi12 ; węgiel biomorficzny ; kompozyt ; zol-żel

ALD ; AlSi12 ; biomorphous carbon ; composite ; sol-gel

17/33
Nr opisu: 0000120179   
The funcionalization of Grade 4 surface used for blood contacting implants.
[Aut.]: Marcin Basiaga, Magdalena Antonowicz, Witold Walke, Zbigniew Paszenda, Bogusław Ziębowicz.
W: Innovations in biomedical engineering. IBE 2017. Eds. Marek Gzik, Ewaryst Tkacz, Zbigniew Paszenda, Ewa Piętka. Cham : Springer International Publishing, 2018, s. 329-338, bibliogr. 24 poz. (Advances in Intelligent Systems and Computing ; vol. 623 2194-5357). Punktacja MNiSW 15.000

cpTi ; TiO2 ; ALD ; właściwości elektrochemiczne

cpTi ; TiO2 ; ALD ; electrochemical properties

18/33
Nr opisu: 0000122143   
The morphology and structure of ZnO thin films deposited by ald method.
[Aut.]: Paulina Boryło, Krzysztof Matus, Krzysztof Lukaszkowicz, Klaudiusz Gołombek.
-Arch. Metall. Mater. 2018 vol. 63 iss. 1, s. 129-133, bibliogr. 13 poz.. Impact Factor 0.697. Punktacja MNiSW 30.000

ALD ; ZnO ; SEM ; TEM ; UV-Vis

ALD ; ZnO ; SEM ; TEM ; UV-Vis

19/33
Nr opisu: 0000121428   
Adhezja warstw SiO2 naniesionych metodą ALD i zol-żel na stal 316LVM.
[Aut.]: Marcin Basiaga, Witold Walke, Anita Kajzer, Wojciech Kajzer, Marcin Staszuk, Przemysław Kurtyka.
-Eng. Biomater. 2017 vol. 20 nr 141, s. 13-19, bibliogr. 14 poz.
Tekst równoległy w jęz. pol. i ang.. Punktacja MNiSW 7.000

SiO2 ; ALD ; zol-żel ; 316LVM ; własności mechaniczne ; własności elektrochemiczne

SiO2 ; ALD ; sol-gel ; 316LVM ; mechanical properties ; electrochemical properties

20/33
Nr opisu: 0000108662   
Influence of ALD process parameters on the physical and chemical properties of the surface of vascular stents.
[Aut.]: Marcin Basiaga, Witold Walke, Marcin Staszuk, Wojciech Kajzer, Anita Kajzer, Katarzyna Nowińska.
-Arch. Civ. Mech. Eng. 2017 vol. 17 iss. 1, s. 32-42, bibliogr. 32 poz.. Impact Factor 2.763. Punktacja MNiSW 30.000

stal 316LVM ; TiO2 ; ALD ; właściwości elektrochemiczne ; właściwości mechaniczne

316LVM steel ; TiO2 ; ALD ; electrochemical properties ; mechanical properties

21/33
Nr opisu: 0000116389
Influence of oxygen-plasma treatment on AlGaN/GaN metal-oxide-semiconductor heterostructure field-effect transistors with HfO2 by atomic layer deposition: leakage current and density of states reduction.
[Aut.]: R. Stoklas, D. Gregusova, M. Blaho, K. Frohlich, J. Novak, Maciej* Matys, Z. Yatabe, P. Kordos, T. Hashizume.
-Semicond. Sci. Technol. 2017 vol. 32 iss. 4, art. no. 045018, bibliogr. 29 poz.. Impact Factor 2.280. Punktacja MNiSW 30.000

AlGaN/GaN ; stany międzypowierzchni ; dielektryk HfO2 ; XPS ; ALD

AlGaN/GaN ; interface states ; HfO2 dielectric ; XPS ; ALD ; oxygen-plasma treatment

22/33
Nr opisu: 0000119921   
Obróbka powierzchni materiałów mikroporowatych wytworzonych metodą selektywnego spiekania laserowego w celu uefektywnienia proliferacji żywych komórek.
[Aut.]: Anna* Dobrzańska-Danikiewicz, L. A. Dobrzański, Marek Szindler, A. Achtelik-Franczak, J. Dobrzański.
W: Metalowe materiały mikroporowate i lite do zastosowań medycznych i stomatologicznych. Red. Leszek A. Dobrzański, Anna D. Dobrzańska-Danikiewicz. Gliwice : International OCSCO World Press, 2017, s. 289-231, bibliogr. 231 poz. (Open Access Library ; Ann. 7 (1) 2083-5191). Punktacja MNiSW 5.000

materiał porowaty ; selektywne spiekanie laserowe ; ALD

porous material ; selective laser sintering ; ALD

23/33
Nr opisu: 0000114642   
Porous selective laser melted Ti and Ti6Al4V materials for medical applications.
[Aut.]: Leszek** Dobrzański, Anna* Dobrzańska-Danikiewicz, Anna* Achtelik-Franczak, L. B. Dobrzański, Marek Szindler, Tomasz Gaweł.
W: Powder metallurgy - fundamentals and case studies. Red. Leszek Adam Dobrzański. Rijeka : InTech, 2017, s. 162-181, bibliogr. 44 poz.. Punktacja MNiSW 5.000

materiał porowaty ; rusztowanie tkankowe ; CAMD ; SLM ; ALD ; własności mechaniczne

porous material ; scaffolds ; CAMD ; SLM ; ALD ; mechanical properties

24/33
Nr opisu: 0000107818
Study of the electrochemical properties 2 of 316LVM steel with TiO2 layer 3 deposited by means of the ALD method.
[Aut.]: Marcin Basiaga, Witold Walke, Marcin Staszuk, Wojciech Kajzer.
W: Properties and characterization of modern materials. Eds.: Andreas Ochsner, Holm Altenbach. Singapore : Springer, 2017, s. 297-308, bibliogr. 20 poz. (Advanced Structured Materials ; vol. 33 1869-8433). Punktacja MNiSW 20.000

AISI 316LVM ; TiO2 ; ALD ; SEM ; EIS ; test potencjodynamiczny

AISI 316LVM ; TiO2 ; ALD ; SEM ; EIS ; potentiodynamic test

25/33
Nr opisu: 0000116162
Comparative analysis of coatings' properties obtained by PVD and ALD techniques.
[Aut.]: Anna Filus, Marcin Staszuk.
W: 1st International Conference InterNanoPoland 2016. International Conference Center, Katowice, 14-15 June, 2016. Abstracts book. Ed. Agnieszka Piekara, Karol Lemański. Katowice : The Foundation of Nanoscience and Nanotechnology Support Nanonet, 2016, s. [34], bibliogr. 3 poz.

ALD ; PVD

ALD ; PVD

26/33
Nr opisu: 0000107533   
Evaluation of physicochemical properties of surface modified Ti6Al4V and Ti6Al7Nb alloys used for orthopedic implants.
[Aut.]: Marcin Basiaga, Wojciech Kajzer, Witold Walke, Anita Kajzer, Marcin Kaczmarek.
-Mater. Sci. Eng., C Mater. Biol. Appl. 2016 vol. 68, s. 851-860, bibliogr. 43 poz.. Impact Factor 4.164. Punktacja MNiSW 30.000

Ti6Al4V ; Ti6Al7Nb ; TiO2 ; ALD ; właściwości elektrochemiczne ; właściwości mechaniczne ; właściwości fizykochemiczne

Ti6Al4V ; Ti6Al7Nb ; TiO2 ; ALD ; electrochemical properties ; mechanical properties ; physico-chemical properties

27/33
Nr opisu: 0000106579
Evaluation of physicochemical properties of TiO2 layer on AISI 316 LVM steel intended for urology.
[Aut.]: Wojciech Kajzer, Anita Kajzer, Magdalena* Grygiel-Pradelok, Anna Ziębowicz, Bogusław Ziębowicz.
W: Information technologies in medicine. 5th International conference, ITIB 2016, Kamień Śląski, Poland, June 20-22, 2016. Proceedings. Vol. 2. Eds. Ewa Piętka, Pawel Badura, Jacek Kawa, Wojciech Wieclawek. Cham : Springer, 2016, s. 385-398, bibliogr. 34 poz. (Advances in Intelligent Systems and Computing ; vol. 472 2194-5357)

sztuczny mocz ; odporność na korozję ; EIS ; zwilżalność ; stal nierdzewna ; 316LVM ; warstwa TiO2 ; ALD

artificial urine ; corrosion resistance ; EIS ; wettability ; stainless steel ; 316LVM ; TiO2 layer ; ALD

28/33
Nr opisu: 0000110771   
Investigation studies involving wear-resistant ALD/PVD hybrid coatings on sintered tool substrates.
[Aut.]: Marcin Staszuk, Daniel Pakuła, Tomasz Tański.
-Mater. Tehnol. 2016 vol. 50 iss. 5, s. 755-759, bibliogr. 16 poz.. Impact Factor 0.436. Punktacja MNiSW 15.000

PVD ; ALD ; powłoka hybrydowa ; ceramika narzędziowa ; węglik spiekany

PVD ; ALD ; hybrid coating ; tool ceramics ; sintered carbide

29/33
Nr opisu: 0000107391   
Structure and properties of Al2O3 thin films deposited by ALD process.
[Aut.]: Paulina Boryło, Krzysztof Lukaszkowicz, Marek Szindler, J. Kubacki, K. Balin, Marcin Basiaga, Janusz Szewczenko.
-Vacuum 2016 vol. 131, s. 319-326, bibliogr. 26 poz.. Impact Factor 1.530. Punktacja MNiSW 25.000

powłoka cienka ; ALD ; adhezja ; korozja ; XPS ; AES ; SEM ; ToF-SIMS

thin film ; ALD ; adhesion ; corrosion ; XPS ; AES ; SEM ; ToF-SIMS

30/33
Nr opisu: 0000108101   
Wpływ parametrów nanoszenia warstw TiO2 metodą ALD na ich adhezję do metalicznego podłoża.
[Aut.]: K. Wnętrzak, Marcin Basiaga.
-Aktual. Probl. Biomech. 2016 z. 10, s. 85-90, bibliogr. 14 poz.. Punktacja MNiSW 4.000

stal 316LVM ; TiO2 ; ALD ; scratch test

316LVM steel ; TiO2 ; ALD ; scratch test

31/33
Nr opisu: 0000108093   
Wpływ procesu sterylizacji na własności elektrochemiczne stali 316 LVM z warstwą TIO2 naniesioną metodą ALD.
[Aut.]: J. Smółka, Marcin Basiaga.
-Aktual. Probl. Biomech. 2016 z. 10, s. 63-68, bibliogr. 8 poz.. Punktacja MNiSW 4.000

sterylizacja ; ALD ; własności elektrochemiczne ; TiO2 ; 316 LVM

sterilization ; ALD ; electrochemical properties ; TiO2 ; 316 LVM

32/33
Nr opisu: 0000102671   
Struktura i własności cienkich warstw Al2O3 wytworzonych w procesie ALD.
[Aut.]: Paulina Boryło.
W: II Interdyscyplinarna Sesja Wyjazdowa Doktorantów Politechniki Śląskiej, Gliwice - Szczyrk, 2015. Red.: Mirosław Bonek, Tomasz Gaweł, Dawid Cichocki. Gliwice : Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych Politechniki Śląskiej, 2015, s. 261-267, bibliogr. 21 poz. (Prace Instytutu Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych Politechniki Śląskiej w Gliwicach ; )

ALD ; Al2O3 ; twardość ; scratch test ; SEM ; AFM

ALD ; Al2O3 ; hardness ; scratch test ; SEM ; AFM

33/33
Nr opisu: 0000091570
Warstwy osadzane techniką ALD.
[Aut.]: Marcin Staszuk, Marcin Adamiak, Andrzej* Hudecki.
W: Ćwiczenia laboratoryjne z inżynierii materiałowej i nanotechnologii. Praca zbiorowa. Pod red. Leszka A. Dobrzańskiego i Tomasza Tańskiego. Gliwice : International OCSCO World Press, 2013, s. 548-551 (Open Access Library ; vol. 10 (28) 2083-5191)

warstwa cienka ; atomowe osadzanie warstw ; ALD ; korozja elektrochemiczna ; odporność na korozję ; ćwiczenia laboratoryjne

thin coating ; atomic layer deposition ; ALD ; electrochemical corrosion ; corrosion resistance ; laboratory exercises

stosując format:
Nowe wyszukiwanie