Wynik wyszukiwania
Zapytanie: SILICON DIOXIDE
Liczba odnalezionych rekordów: 4



Przejście do opcji zmiany formatu | Wyświetlenie wyników w wersji do druku | Pobranie pliku do edytora | Przesłanie wyników do modułu analizy | excel | Nowe wyszukiwanie
1/4
Nr opisu: 0000130054
Warstwy dielektryczne wytwarzane metodą zol-żel i techniką dip-coating do zastosowań w optoelektronice.
[Aut.]: Paweł Karasiński.
W: XVIII Krajowa Konferencja Elektroniki, Darłówko Wschodnie, 02-06.06.2019. Program konferencji. [Dokument elektroniczny]. [B.m.] : [b.w.], 2019, pamięć USB (PenDrive) s. 285-290, bibliogr. 13 poz.

zol-żel ; warstwa dielektryczna ; optyka zintegrowana ; światłowód planarny ; czujnik światłowodowy ; spektroskopia pola zanikającego ; ditlenek krzemu ; ditlenek tytanu ; pokrycie antyrefleksyjne ; zwierciadło dielektryczne

sol-gel ; dielectric layer ; integrated optics ; planar waveguide ; evanescent field spectroscopy ; silicon dioxide ; titanium dioxide ; antireflective coating ; dielectric mirror

2/4
Nr opisu: 0000122972
Effect of thin SiO2 layers deposited by means of atomic layer deposition method on the mechanical and physical properties of stainless steel.
[Aut.]: Marcin Basiaga, Witold Walke, Magdalena Antonowicz, Agata Sambok-Kiełbowicz, Damian Nakonieczny, M. Gawlikowski, B. Zawidlak-Węgrzyńska, C. Krawczyk.
-Materialwissensch. Werkstofftech. 2018 vol. 49 iss. 5, s. 562-567, bibliogr. 22 poz.. Impact Factor 0.556. Punktacja MNiSW 15.000

316 LVM ; ditlenek krzemu ; osadzanie warstw atomowych ; właściwości mechaniczne ; właściwości fizyczne

316 LVM ; silicon dioxide ; atomic layer deposition ; mechanical properties ; physical properties

3/4
Nr opisu: 0000116919
Jedno- i dwuwarstwowe struktury antyrefleksyjne wytwarzane metodą zol-żel do zastosowań w fotoogniwach krzemowych.
[Aut.]: Marcin Skolik, Paweł Karasiński.
W: Szesnasta Krajowa Konferencja Elektroniki, Darłowo, 05-09.06.2017. Materiały konferencji. [Dokument elektroniczny]. [B.m.] : [b.w.], 2017, pamięć USB (PenDrive) s. 158-163, bibliogr. 13 poz.

struktura antyrefleksyjna ; fotoogniwo krzemowe ; zol-żel ; ditlenek krzemu ; ditlenek tytanu ; dip-coating ; formalizm macierzy 2x2

antireflective structure ; silicon photovoltaic cell ; sol-gel ; silicon dioxide ; titanium dioxide ; dip coating

4/4
Nr opisu: 0000023334
Powierzchniowe kompozytowe warstwy żeliwo - cząstki ceramiczne.
[Aut.]: A. Pyka, Piotr* Wróbel.
W: Dzień Odlewnictwa. Prace Kongresu Studenckich Kół Naukowych "CO-KÓŁ'06", Gliwice-Myślenice-Wisła, 2-5 czerwca 2006 r.. Red.: Jan Szajnar, Jacek Suchoń. Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych. Politechnika Śląska. Gliwice : [Komitet Organizacyjny Międzynarodowych Konferencji Naukowych Instytutu Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych Politechniki Śląskiej], 2006, s. 87-94, bibliogr. 5 poz. (Prace Studenckich Kół Naukowych ; Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych. Politechnika Śląska nr 5)

warstwa kompozytowa ; cząstka ceramiczna ; węglik krzemu ; tlenek glinu ; dwutlenek krzemu ; udar cieplny

composite layer ; ceramic particle ; silicon carbide ; aluminium oxide ; silicon dioxide ; thermal shock

stosując format:
Nowe wyszukiwanie