Wynik wyszukiwania
Zapytanie:
SILICON DIOXIDE
Liczba odnalezionych rekordów:
4
Przejście do opcji zmiany formatu
|
Wyświetlenie wyników w wersji do druku
|
Pobranie pliku do edytora
|
Przesłanie wyników do modułu analizy
|
excel
|
Nowe wyszukiwanie
1/4
Nr opisu:
0000130054
Warstwy dielektryczne wytwarzane metodą zol-żel i techniką dip-coating do zastosowań w optoelektronice.
[Aut.]: Paweł
Karasiński
.
W:
XVIII Krajowa Konferencja Elektroniki, Darłówko Wschodnie, 02-06.06.2019
. Program konferencji. [Dokument elektroniczny]. [B.m.] : [b.w.], 2019
, pamięć USB (PenDrive) s. 285-290, bibliogr. 13 poz.
zol-żel
;
warstwa dielektryczna
;
optyka zintegrowana
;
światłowód planarny
;
czujnik światłowodowy
;
spektroskopia pola zanikającego
;
ditlenek krzemu
;
ditlenek tytanu
;
pokrycie antyrefleksyjne
;
zwierciadło dielektryczne
sol-gel
;
dielectric layer
;
integrated optics
;
planar waveguide
;
evanescent field spectroscopy
;
silicon dioxide
;
titanium dioxide
;
antireflective coating
;
dielectric mirror
2/4
Nr opisu:
0000122972
Effect of thin SiO
2
layers deposited by means of atomic layer deposition method on the mechanical and physical properties of stainless steel.
[Aut.]: Marcin
Basiaga
, Witold
Walke
, Magdalena
Antonowicz
, Agata
Sambok-Kiełbowicz
, Damian
Nakonieczny
, M.
Gawlikowski
, B.
Zawidlak-Węgrzyńska
, C.
Krawczyk
.
-
Materialwissensch. Werkstofftech.
2018 vol. 49 iss. 5
, s. 562-567, bibliogr. 22 poz..
Impact Factor
0.556.
Punktacja MNiSW
15.000
316 LVM
;
ditlenek krzemu
;
osadzanie warstw atomowych
;
właściwości mechaniczne
;
właściwości fizyczne
316 LVM
;
silicon dioxide
;
atomic layer deposition
;
mechanical properties
;
physical properties
3/4
Nr opisu:
0000116919
Jedno- i dwuwarstwowe struktury antyrefleksyjne wytwarzane metodą zol-żel do zastosowań w fotoogniwach krzemowych.
[Aut.]: Marcin
Skolik
, Paweł
Karasiński
.
W:
Szesnasta Krajowa Konferencja Elektroniki, Darłowo, 05-09.06.2017
. Materiały konferencji. [Dokument elektroniczny]. [B.m.] : [b.w.], 2017
, pamięć USB (PenDrive) s. 158-163, bibliogr. 13 poz.
struktura antyrefleksyjna
;
fotoogniwo krzemowe
;
zol-żel
;
ditlenek krzemu
;
ditlenek tytanu
;
dip-coating
;
formalizm macierzy 2x2
antireflective structure
;
silicon photovoltaic cell
;
sol-gel
;
silicon dioxide
;
titanium dioxide
;
dip coating
4/4
Nr opisu:
0000023334
Powierzchniowe kompozytowe warstwy żeliwo - cząstki ceramiczne.
[Aut.]: A.
Pyka
, Piotr*
Wróbel
.
W:
Dzień Odlewnictwa
. Prace Kongresu Studenckich Kół Naukowych "CO-KÓŁ'06", Gliwice-Myślenice-Wisła, 2-5 czerwca 2006 r.. Red.: Jan Szajnar, Jacek Suchoń. Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych. Politechnika Śląska. Gliwice : [Komitet Organizacyjny Międzynarodowych Konferencji Naukowych Instytutu Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych Politechniki Śląskiej], 2006
, s. 87-94, bibliogr. 5 poz. (
Prace Studenckich Kół Naukowych
;
Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych. Politechnika Śląska
nr 5)
warstwa kompozytowa
;
cząstka ceramiczna
;
węglik krzemu
;
tlenek glinu
;
dwutlenek krzemu
;
udar cieplny
composite layer
;
ceramic particle
;
silicon carbide
;
aluminium oxide
;
silicon dioxide
;
thermal shock
stosując format:
standardowy
pełny z etykietami pól
roboczy
redakcja skr.
redakcja peł.
kontrolny
Nowe wyszukiwanie