Wynik wyszukiwania
Zapytanie:
DEPOSITION
Liczba odnalezionych rekordów:
7
Przejście do opcji zmiany formatu
|
Wyświetlenie wyników w wersji do druku
|
Pobranie pliku do edytora
|
Przesłanie wyników do modułu analizy
|
excel
|
Nowe wyszukiwanie
1/7
Nr opisu:
0000129702
Hydroxyapatite and brushite coatings on plasma electrolytic oxidized Ti6Al4V alloys obtained by the thermal substrate deposition method.
[Aut.]: L. F.
Sukhodub
, L. B.
Sukhodub
, Wojciech
Simka
, M.
Kumeda
.
-
Mater. Lett.
2019 vol. 250
, s. 163-166, bibliogr. 18 poz..
Impact Factor
3.204.
Punktacja MNiSW
70.000
biomateriały
;
osadzanie
;
utlenianie
;
metale
;
stopy metali
;
struktura krystaliczna
biomaterials
;
deposition
;
oxidation
;
metals
;
alloys
;
crystal structure
2/7
Nr opisu:
0000118876
Wpływ parametrów osadzania cienkich warstw ZnO metodą ALD.
[Aut.]: Paulina
Boryło
, Krzysztof
Lukaszkowicz
.
W:
Innowacyjne badania dla nauki i przemysłu
. Red. Mirosław Bonek, Anna Filipowska, Łukasz Kohlbrenner, Tomasz Gaweł. Gliwice : Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych Politechniki Śląskiej, 2017
, s. 2-9, bibliogr. 12 poz. (
Prace Instytutu Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych Politechniki Śląskiej w Gliwicach
; ).
Punktacja MNiSW
20.000
cienka warstwa ZnO
;
osadzanie
;
metoda ALD
;
transparentność
ZnO thin film
;
deposition
;
ALD method
;
transparency
3/7
Nr opisu:
0000089010
TEM investigations of (Ti, Si)N layer coated on magnesium alloy using PVD technique.
[Aut.]: Tomasz
Tański
, Krzysztof
Labisz
, Janusz
Szewczenko
.
W:
Applied crystallography XXII
. Selected, peer reviewed papers from the XXII Conference on Applied Crystallography, Targanice, Poland, September 2-6, 2012. Ed. by D. Stróż, G. Dercz. Stafa-Zurich : Trans Tech Publications, 2013
, s. 198-203 (
Solid State Phenomena
; vol. 203/204 1012-0394).
Punktacja MNiSW
10.000
stop aluminium
;
osadzanie
;
metoda PVD
;
warstwa powierzchniowa
;
TEM
aluminium alloy
;
deposition
;
PVD method
;
surface layer
;
TEM
4/7
Nr opisu:
0000036413
Studies of surface properties of L-CVD SnO
2
thin films. Rozprawa doktorska.
[Aut.]: Monika
Kwoka
.
Gliwice, 2007, 128 k., bibliogr. 84 poz. + zał.: 46 k.
Politechnika Śląska. Wydział Matematyczno-Fizyczny. Promotor: prof. dr hab. inż. Jacek** Szuber
cienka warstwa SnO2
;
cienka powłoka L-CVD
;
dwutlenek cyny
;
spektroskopia fotoelektronowa
;
mikroskopia sił atomowych
;
chemia powierzchni
;
własności elektronowe
;
morfologia powierzchni
;
osadzanie
SnO2 thin film
;
L-CVD thin film
;
tin dioxide
;
photoelectron spectroscopy
;
atomic force microscopy
;
surface chemistry
;
electronic properties
;
surface morphology
;
deposition
5/7
Nr opisu:
0000124453
Tworzywa katodowe do procesów redukcji elektrochemicznej.
[Aut.]: Ginter**
Nawrat
, Maciej
Gonet
, K.
Gatnar
.
-
Przem. Chem.
2006 t. 85 nr 8/9
, s. 854-857, bibliogr. 16 poz.
Referat wygłoszony na: V Kongres Technologii Chemicznej, Poznań, 11-15 września 2006.
Impact Factor
0.429
powłoka stopowa nikiel-ren
;
powłoka stopowa kobalt-ren
;
powłoka kompozytowa
;
osadzanie
;
właściwości fizykochemiczne
;
redukcja elektrochemiczna
;
tworzywo katodowe
nickel-rhenium alloy coating
;
cobalt-rhenium alloy coating
;
composite coating
;
deposition
;
physico-chemical properties
;
electrochemical reduction
;
cathode material
6/7
Nr opisu:
0000021700
On the correlation between morphology and gas sensing properties of RGTO SnO
2
thin films.
[Aut.]: Jacek**
Szuber
, Jerzy
Uljanow
, Teresa**
Buczek-Karczewska
, Wiesław
Jakubik
, Krzysztof**
Waczyński
, Monika
Kwoka
, Sławomir**
Kończak
.
-
Thin Solid Films
2005 vol. 490 iss. 1
, s. 54-58, bibliogr. 18 poz..
Impact Factor
1.569
dwutlenek cyny
;
powłoka cienka
;
osadzanie
;
utlenianie
tin dioxide
;
thin film
;
deposition
;
oxidation
7/7
Nr opisu:
0000021704
XPS study of the surface chemistry of L-CVD SnO
2
thin films after oxidation.
[Aut.]: Monika
Kwoka
, L.
Ottaviano
, M.
Passacantando
, S.
Santucci
, Grzegorz*
Czempik
, Jacek**
Szuber
.
-
Thin Solid Films
2005 vol. 490 iss. 1
, s. 36-42, bibliogr. 18 poz..
Impact Factor
1.569
dwutlenek cyny
;
powłoka cienka
;
osadzanie
;
utlenianie
tin dioxide
;
thin film
;
deposition
;
oxidation
stosując format:
standardowy
pełny z etykietami pól
roboczy
redakcja skr.
redakcja peł.
kontrolny
Nowe wyszukiwanie