Wyniki wyszukiwania

Wynik wyszukiwania

1/7
Nr opisu: 0000129702
Hydroxyapatite and brushite coatings on plasma electrolytic oxidized Ti6Al4V alloys obtained by the thermal substrate deposition method.
[Aut.]: L. F. Sukhodub, L. B. Sukhodub, Wojciech Simka, M. Kumeda.
-Mater. Lett. 2019 vol. 250, s. 163-166, bibliogr. 18 poz.. Impact Factor 3.204. Punktacja MNiSW 70.000

biomateriały ; osadzanie ; utlenianie ; metale ; stopy metali ; struktura krystaliczna

biomaterials ; deposition ; oxidation ; metals ; alloys ; crystal structure

2/7
Nr opisu: 0000118876
Wpływ parametrów osadzania cienkich warstw ZnO metodą ALD.
[Aut.]: Paulina Boryło, Krzysztof Lukaszkowicz.
W: Innowacyjne badania dla nauki i przemysłu. Red. Mirosław Bonek, Anna Filipowska, Łukasz Kohlbrenner, Tomasz Gaweł. Gliwice : Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych Politechniki Śląskiej, 2017, s. 2-9, bibliogr. 12 poz. (Prace Instytutu Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych Politechniki Śląskiej w Gliwicach ; ). Punktacja MNiSW 20.000

cienka warstwa ZnO ; osadzanie ; metoda ALD ; transparentność

ZnO thin film ; deposition ; ALD method ; transparency

3/7
Nr opisu: 0000089010
TEM investigations of (Ti, Si)N layer coated on magnesium alloy using PVD technique.
[Aut.]: Tomasz Tański, Krzysztof Labisz, Janusz Szewczenko.
W: Applied crystallography XXII. Selected, peer reviewed papers from the XXII Conference on Applied Crystallography, Targanice, Poland, September 2-6, 2012. Ed. by D. Stróż, G. Dercz. Stafa-Zurich : Trans Tech Publications, 2013, s. 198-203 (Solid State Phenomena ; vol. 203/204 1012-0394). Punktacja MNiSW 10.000

stop aluminium ; osadzanie ; metoda PVD ; warstwa powierzchniowa ; TEM

aluminium alloy ; deposition ; PVD method ; surface layer ; TEM

4/7
Nr opisu: 0000036413
Studies of surface properties of L-CVD SnO₂ thin films. Rozprawa doktorska.
[Aut.]: Monika Kwoka.
Gliwice, 2007, 128 k., bibliogr. 84 poz. + zał.: 46 k.
Politechnika Śląska. Wydział Matematyczno-Fizyczny. Promotor: prof. dr hab. inż. Jacek** Szuber

cienka warstwa SnO2 ; cienka powłoka L-CVD ; dwutlenek cyny ; spektroskopia fotoelektronowa ; mikroskopia sił atomowych ; chemia powierzchni ; własności elektronowe ; morfologia powierzchni ; osadzanie

SnO2 thin film ; L-CVD thin film ; tin dioxide ; photoelectron spectroscopy ; atomic force microscopy ; surface chemistry ; electronic properties ; surface morphology ; deposition

5/7
Nr opisu: 0000124453
Tworzywa katodowe do procesów redukcji elektrochemicznej.
[Aut.]: Ginter** Nawrat, Maciej Gonet, K. Gatnar.
-Przem. Chem. 2006 t. 85 nr 8/9, s. 854-857, bibliogr. 16 poz.
Referat wygłoszony na: V Kongres Technologii Chemicznej, Poznań, 11-15 września 2006. Impact Factor 0.429

powłoka stopowa nikiel-ren ; powłoka stopowa kobalt-ren ; powłoka kompozytowa ; osadzanie ; właściwości fizykochemiczne ; redukcja elektrochemiczna ; tworzywo katodowe

nickel-rhenium alloy coating ; cobalt-rhenium alloy coating ; composite coating ; deposition ; physico-chemical properties ; electrochemical reduction ; cathode material

6/7
Nr opisu: 0000021700
On the correlation between morphology and gas sensing properties of RGTO SnO₂ thin films.
[Aut.]: Jacek** Szuber, Jerzy Uljanow, Teresa** Buczek-Karczewska, Wiesław Jakubik, Krzysztof** Waczyński, Monika Kwoka, Sławomir** Kończak.
-Thin Solid Films 2005 vol. 490 iss. 1, s. 54-58, bibliogr. 18 poz.. Impact Factor 1.569

dwutlenek cyny ; powłoka cienka ; osadzanie ; utlenianie

tin dioxide ; thin film ; deposition ; oxidation

7/7
Nr opisu: 0000021704
XPS study of the surface chemistry of L-CVD SnO₂ thin films after oxidation.
[Aut.]: Monika Kwoka, L. Ottaviano, M. Passacantando, S. Santucci, Grzegorz* Czempik, Jacek** Szuber.
-Thin Solid Films 2005 vol. 490 iss. 1, s. 36-42, bibliogr. 18 poz.. Impact Factor 1.569

dwutlenek cyny ; powłoka cienka ; osadzanie ; utlenianie

tin dioxide ; thin film ; deposition ; oxidation

stosując format: