Wynik wyszukiwania
Zapytanie: SANTUCCI S
Liczba odnalezionych rekordów: 10



Przejście do opcji zmiany formatu | Wyświetlenie wyników w wersji do druku | Pobranie pliku do edytora | Przesłanie wyników do modułu analizy | excel | Nowe wyszukiwanie
1/10
Nr opisu: 0000063356   
Influence of Si substrate preparation on surface chemistry and morphology of L-CVD SnO2 thin films studied by XPS and AFM.
[Aut.]: Monika Kwoka, L. Ottaviano, Natalia Waczyńska, S. Santucci, Jacek** Szuber.
-Appl. Surf. Sci. 2010 vol. 256 iss. 19, s. 5771-5775, bibliogr. 25 poz.. Impact Factor 1.795

dwutlenek cyny ; cienka powłoka L-CVD ; podłoże krzemowe ; morfologia powierzchni ; mikroskopia sił atomowych ; AFM ; rentgenowska spektroskopia fotoelektronów ; XPS

tin dioxide ; L-CVD thin film ; surface morphology ; atomic force microscopy ; AFM ; X-ray photoelectron spectroscopy ; XPS

2/10
Nr opisu: 0000056850   
Influence of substrate doping on the surface chemistry and morphology of Copper Phthalocyanine ultra thin films on Si (111) substrates.
[Aut.]: Maciej Krzywiecki, L. Ottaviano, Lucyna Grządziel, P. Parisse, S. Santucci, Jacek** Szuber.
-Thin Solid Films 2009 vol. 517 iss. 5, s. 1630-1635, bibliogr. 15 poz.

półprzewodnik organiczny ; ftalocyjanina miedzi ; warstwa cienka ; właściwości powierzchniowe ; rentgenowska spektroskopia fotoelektronów ; mikroskopia sił atomowych

organic semiconductor ; copper phthalocyanine ; thin film ; surface properties ; X-ray photoelectron spectroscopy ; atomic force microscopy

3/10
Nr opisu: 0000056438   
Local surface morphology and chemistry of SnO2 thin films deposited by rheotaxial growth and thermal oxidation method for gas sensor application.
[Aut.]: L. Ottaviano, Monika Kwoka, F. Bisti, P. Parisse, V. Grossi, S. Santucci, Jacek** Szuber.
-Thin Solid Films 2009 vol. 517 iss. 22, s. 6161-6169, bibliogr. 29 poz.. Impact Factor 1.727

dwutlenek cyny ; RGTO ; podłoże krzemowe ; stechiometria ; dyfrakcja rentgenowska ; wytrzymałość na zginanie ; mikroskopia sił atomowych ; rentgenowska spektroskopia fotoelektronów

tin dioxide ; Rheological Growth and Thermal Oxidation (RGTO) ; surface morphology ; stoichiometry ; X-ray diffraction ; scanning electron microscopy ; atomic force microscopy ; X-ray photoelectron spectroscopy

4/10
Nr opisu: 0000048128   
XPS study of air exposed copper phthalocyanine ultra-thin films deposited on Si(111) native substrates.
[Aut.]: Maciej Krzywiecki, L. Grzadziel, L. Ottaviano, P. Parisse, S. Santucci, Jacek** Szuber.
-Mater. Sci. Pol. 2008 vol. 26 no. 2, s. 287-294, bibliogr. 21 poz.. Impact Factor 0.368

ftalocyjanina miedzi ; CuPc ; warstwa cienka ; chemia powierzchni

copper phthalocyanine ; CuPc ; thin film ; surface chemistry

5/10
Nr opisu: 0000047687   
XPS study of the surface chemistry of Ag-covered L-CVD SnO2 thin films.
[Aut.]: Monika Kwoka, L. Ottaviano, M. Passacantando, G. Czempik, S. Santucci, Jacek** Szuber.
-Appl. Surf. Sci. 2008 vol. 254 iss. 24, s. 8089-8092, bibliogr. 13 poz.. Impact Factor 1.576

dwutlenek cyny ; cienka powłoka L-CVD ; domieszkowanie Ag ; XPS ; chemia powierzchni ; profilowanie głębokościowe

tin dioxide ; L-CVD thin film ; Ag-doping ; XPS ; surface chemistry ; depth profiling

6/10
Nr opisu: 0000025450   
Comparative photoemission study of the electronic properties of L-CVD SnO2 thin films.
[Aut.]: Monika Kwoka, L. Ottaviano, M. Passacantando, G. Czempik, S. Santucci, Jacek** Szuber.
-Appl. Surf. Sci. 2006 vol. 252 iss. 21, s. 7734-7738, bibliogr. 23 poz.
Zawiera materiały z: Fourth International Workshop on Semiconductor Surface Passivation. SSP'05, Ustroń, Poland, 10-13 September 2005. Impact Factor 1.436

dwutlenek cyny ; powłoka cienka ; nakładanie L-CVD ; właściwości elektroniczne warstwy ładunku przestrzennego ; poziom Fermiego ; elektroniczne pasmo wzbronione

tin dioxide ; thin film ; L-CVD deposition ; electronic properties of space charge layer ; Fermi level ; electronic band gap

7/10
Nr opisu: 0000023051
Surface morphology of L-CVD SnO2 thin films for gas sensor application.
[Aut.]: Monika Kwoka, L. Ottaviano, M. Passacantando, S. Santucci, Jacek** Szuber.
W: V International Workshop on Semiconductor Gas Sensors. SGS 2006, Ustroń, Poland, September 10-13, 2006. Programme and abstracts. [B.m.] : [b.w.], 2006, s. 46

8/10
Nr opisu: 0000025442   
XPS depth profiling studies of L-CVD SnO2 thin films.
[Aut.]: Monika Kwoka, L. Ottaviano, M. Passacantando, S. Santucci, Jacek** Szuber.
-Appl. Surf. Sci. 2006 vol. 252 iss. 21, s. 7730-7733, bibliogr. 14 poz.
Zawiera materiały z: Fourth International Workshop on Semiconductor Surface Passivation. SSP'05, Ustroń, Poland, 10-13 September 2005. Impact Factor 1.436

dwutlenek cyny ; powłoka cienka ; profilowanie głębokościowe ; XPS

tin dioxide ; thin film ; depth profiling ; XPS

9/10
Nr opisu: 0000023052
XPS studies of surface chemistry and electronic properties of Ag-doped L-VCD SnO2 thin films.
[Aut.]: Monika Kwoka, L. Ottaviano, M. Passacantando, G. Czempik, S. Santucci, Jacek** Szuber.
W: V International Workshop on Semiconductor Gas Sensors. SGS 2006, Ustroń, Poland, September 10-13, 2006. Programme and abstracts. [B.m.] : [b.w.], 2006, s. 47, bibliogr. 8 poz.

10/10
Nr opisu: 0000021704   
XPS study of the surface chemistry of L-CVD SnO2 thin films after oxidation.
[Aut.]: Monika Kwoka, L. Ottaviano, M. Passacantando, S. Santucci, Grzegorz* Czempik, Jacek** Szuber.
-Thin Solid Films 2005 vol. 490 iss. 1, s. 36-42, bibliogr. 18 poz.. Impact Factor 1.569

dwutlenek cyny ; powłoka cienka ; osadzanie ; utlenianie

tin dioxide ; thin film ; deposition ; oxidation

stosując format:
Nowe wyszukiwanie