Wynik wyszukiwania
Zapytanie:
PASZKIEWICZ B
Liczba odnalezionych rekordów:
13
Przejście do opcji zmiany formatu
|
Wyświetlenie wyników w wersji do druku
|
Pobranie pliku do edytora
|
Przesłanie wyników do modułu analizy
|
excel
|
Nowe wyszukiwanie
1/13
Nr opisu:
0000089615
Analysis of MIS equivalent electrical circuit of Au/Pd/Ti-SiO
2
-GaAs structure based on DLTS measurements.
[Aut.]: Stanisław**
Kochowski
, Łukasz
Drewniak
, K.
Nitsch
, R.
Paszkiewicz
, B.
Paszkiewicz
.
-
Mater. Sci. Pol.
2013 vol. 31 no. 3
, s. 446-453, bibliogr. 30 poz..
Impact Factor
0.327.
Punktacja MNiSW
15.000
struktura MIS
;
głęboki poziom
;
stany międzypowierzchni
;
spektroskopia admitancyjna
;
DLTS
MIS structure
;
deep level
;
interface states
;
admittance spectroscopy
;
DLTS
2/13
Nr opisu:
0000089617
The analysis of filling pulse parameters influence on ICTS data of GaAs MIS structures.
[Aut.]: Łukasz
Drewniak
, Stanisław**
Kochowski
, K.
Nitsch
, R.
Paszkiewicz
, B.
Paszkiewicz
.
W:
Electron Technology Conference 2013, Ryn, Poland, 16-20 April 2013
. Eds: Paweł Szczepański, Ryszard Kisiel, Ryszard S. Romaniuk. Bellingham : SPIE - The International Society for Optical Engineering, 2013
, art. 890209 s. 1-8, bibliogr. 16 poz. (
Proceedings of SPIE
; vol. 8902 0277-786X)
struktura GaAs MIS
;
ICTS
;
stany międzypowierzchni
GaAs MIS structure
;
ICTS
;
interface states
3/13
Nr opisu:
0000046254
Analysis of electrical equivalent circuit of metal-insulator-semiconductor structure based on admittance measurements.
[Aut.]: Stanisław**
Kochowski
, Michał*
Szydłowski
, R.
Paszkiewicz
, B.
Paszkiewicz
.
-
Mater. Sci. Pol.
2008 vol. 26 no. 1
, s. 63-69, bibliogr. 13 poz..
Impact Factor
0.368
spektroskopia impedancyjna
;
struktura typu metal-izolator-półprzewodnik
;
element stałofazowy
;
własności elektryczne
;
krzem
impedance spectroscopy
;
metal-insulator-semiconductor structure
;
constant phase element
;
electrical properties
;
silicon
4/13
Nr opisu:
0000046252
Characterization of insulator-semiconductor interface phenomena in MIS structures by impedance spectroscopy.
[Aut.]: Stanisław**
Kochowski
, K.
Nitsch
, R.
Paszkiewicz
, B.
Paszkiewicz
, Michał*
Szydłowski
.
W:
Technologia elektronowa
. ELTE '2007. IX Konferencja, Kraków, 4-7.09.2007. Materiały konferencyjne. Red. T. Stapiński [i in.]. [Kraków] : [Wydaw. Wydziału Elektrotechniki, Automatyki, Informatyki i Elektroniki. Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica], 2008
, s. 47-50, bibliogr. 11 poz.
5/13
Nr opisu:
0000076033
Characterization of insulator-semiconductor interface phenomena in MIS structure by impedance spectroscopy.
[Aut.]: Stanisław**
Kochowski
, K.
Nitsch
, R.
Paszkiewicz
, B.
Paszkiewicz
, Michał*
Szydłowski
.
W:
IX Electron Technology Conference
. ELTE 2007, Kraków, 4-7.09.2007. Book of abstracts. Eds: K. Zakrzewska [et al.]. Kraków : Przedsiębiorstwo Wielobranżowe STABIL, 2007
, s. 76
6/13
Nr opisu:
0000046253
An analysis of GaAs MIS structure properties by use of an equivalent circuit parameters.
[Aut.]: Stanisław**
Kochowski
, K.
Nitsch
, B.
Paszkiewicz
, R.
Paszkiewicz
, Michał*
Szydłowski
.
W:
Technologia elektronowa
. ELTE '2004. VIII Konferencja naukowa, Stare Jabłonki, 19-22.04.2004. Materiały konferencyjne. Łódź : CMYK Studio Poligrafii i Reklamy, 2004
, s. 357-360, bibliogr. 5 poz.
7/13
Nr opisu:
0000011168
Characterization of the interface and the bulk phenomena in metal-SiO2-(n) GaAs structure by analysis of the equivalent circuit parameters at different temperatures.
[Aut.]: Stanisław**
Kochowski
, K.
Nitsch
, B.
Paszkiewicz
, R.
Paszkiewicz
.
-
Thin Solid Films
2004 vol. 467 iss. 1/2
, s. 190-196, bibliogr. 42 poz..
Impact Factor
1.647
element stałofazowy
;
właściwości elektryczne
;
miernictwo elektryczne
;
arsenek galu
constant phase element
;
electrical properties
;
electrical measurement
;
gallium arsenide
;
metal-insulator-semiconductor structure
8/13
Nr opisu:
0000011325
Studies of GaAs metal-insulator-semiconductor strucutres by the admittance spectroscopy method.
[Aut.]: Stanisław**
Kochowski
, K.
Nitsch
, B.
Paszkiewicz
, R.
Paszkiewicz
, M.
Szydlowski
.
-
Appl. Surf. Sci.
2004 vol. 235 iss. 3
, s. 389-394, bibliogr. 28 poz..
Impact Factor
1.497
element stałofazowy
;
struktura metal-izolator-półprzewodnik
;
właściwości elektryczne
;
pomiary elektryczne
;
arsenek galu
constant phase element
;
metal-insulator-semiconductor structure
;
electrical properties
;
electrical measurements
;
gallium arsenide
9/13
Nr opisu:
0000018841
Contribution of interface states and bulk traps to GaAs MIS admittance.
[Aut.]: Stanisław**
Kochowski
, B.
Paszkiewicz
, R.
Paszkiewicz
.
W:
Compound semiconductors 2002
. Proceedings of the Twenty-ninth International Symposium on Compound Semiconductors, Lusanne, Switzerland, 7-10 October 2002. Eds: Marc Ilegems, Gunter Weimann, Joachim Wagner. Bristol : Institute of Physics Publishing, 2003
, s. 37-40 (
Institute of Physics Conference Series
; no. 174)
10/13
Nr opisu:
0000008347
Two constant phase element behaviour of the admittance characteristics of GaAs metal-insulator-semiconductor structure with deep traps.
[Aut.]: Stanisław**
Kochowski
, K.
Nitsch
, B.
Paszkiewicz
, R.
Paszkiewicz
.
-
Thin Solid Films
2003 vol. 444 iss. 1/2
, s. 208-214, bibliogr. 34 poz..
Impact Factor
1.598
element stałofazowy
;
struktura metal-izolator-półprzewodnik
;
właściwości elektryczne
;
arsenek galu
constant phase element
;
metal-insulator-semiconductor structure
;
electrical properties
;
gallium arsenide
11/13
Nr opisu:
0000000140
Badanie własności elektrycznych struktur metal-SiO2-GaAs.
[Aut.]: Stanisław**
Kochowski
, B.
Paszkiewicz
, R.
Paszkiewicz
.
W:
Technologia elektronowa
. VII Konferencja naukowa. ELTE '2000, Polanica Zdrój, 18-22 września 2000. Materiały konferencyjne. Wrocław : Instytut Techniki Mikrosystemów Politechniki Wrocławskiej, 2000
, s. 394-397, bibliogr. 8 poz.
12/13
Nr opisu:
0000000141
Elektryczny model zastępczy struktury metal-SiO2-GaAs.
[Aut.]: Stanisław**
Kochowski
, K.
Nitsch
, B.
Paszkiewicz
.
W:
Technologia elektronowa
. VII Konferencja naukowa. ELTE '2000, Polanica Zdrój, 18-22 września 2000. Materiały konferencyjne. Wrocław : Instytut Techniki Mikrosystemów Politechniki Wrocławskiej, 2000
, s. 426-429, bibliogr. 8 poz.
13/13
Nr opisu:
0000000078
Some effects of (NH4)2Sx treatment of n-GaAs surface on electrical characteristics of metal-SiO2-GaAs structures.
[Aut.]: Stanisław**
Kochowski
, B.
Paszkiewicz
, R.
Paszkiewicz
.
-
Vacuum
2000 vol. 57 iss. 2
, s. 157-162, bibliogr. 22 poz..
Impact Factor
0.520
stosując format:
standardowy
pełny z etykietami pól
roboczy
redakcja skr.
redakcja peł.
kontrolny
Nowe wyszukiwanie