Wynik wyszukiwania
Zapytanie: OSADZANIE WARSTW ATOMOWYCH
Liczba odnalezionych rekordów: 23



Przej¶cie do opcji zmiany formatu | Wy¶wietlenie wyników w wersji do druku | Pobranie pliku do edytora | Przesłanie wyników do modułu analizy | excel | Nowe wyszukiwanie
1/23
Nr opisu: 0000135445
Tytuł oryginału: Atomic layer deposition of TiO2 blocking layers for dye-sensitized solar cells
Autorzy: Aleksandra Drygała, Marek Szindler, Magdalena Szindler, Ewa Jonda.
¬ródło: -Microelectron. Int. 2020 vol. 37 iss. 2, s. 87-93, bibliogr. 42 poz.
Impact Factor: 0.796
Punktacja MNiSW: 40.000
p-ISSN: 1356-5362
DOI:
Słowa kluczowe polskie: dwutlenek tytanu ; barwnikowe ogniwo słoneczne ; osadzanie warstw atomowych ; warstwa zaporowa ; cienka powłoka
Słowa kluczowe angielskie: titanium dioxide ; dye-sensitized solar cell ; atomic layer deposition ; blocking layer ; thin film
Typ publikacji: A
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: Z
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.
Dostęp on-line:


2/23
Nr opisu: 0000135435
Tytuł oryginału: Evaluation of electrochemical properties of antibacterial ZnO layers deposited to 316LVM steel using atomic layer deposition
Autorzy: Marcin Basiaga, Witold Walke, Magdalena Antonowicz, Marek Szindler, Damian Nakonieczny, Anita Kajzer, Agnieszka Dubiel, Krzysztof Matus.
¬ródło: -Materialwissensch. Werkstofftech. 2020 vol. 51 iss. 5, s. 569-578, bibliogr. 28 poz.
Impact Factor: 0.744
Punktacja MNiSW: 40.000
p-ISSN: 0933-5137
e-ISSN: 1521-4052
DOI:
Słowa kluczowe polskie: stal 316LVM ; powłoka cynkowa ; osadzanie warstw atomowych ; elektrochemiczna spektroskopia impedancyjna ; skaningowa mikroskopia elektronowa ; test potencjodynamiczny
Słowa kluczowe angielskie: 316LVM steel ; ZnO layers ; atomic layer deposition ; electrochemical impedance spectroscopy ; scanning electron microscopy ; potentiodynamic test
Typ publikacji: A
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: Z
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.
Dostęp on-line:


3/23
Nr opisu: 0000138029
Tytuł oryginału: Influence of TiO2 blocking layer on the photovoltaic properties of dye-sensitized solar cells.
Autorzy: Aleksandra Drygała, Marek Szindler.
¬ródło: W: Proceedings of the 6th International Conference Contemporary Problems of Thermal Engineering. CPOTE 2020, Poland, 21-24 September 2020. [Dokument elektroniczny]. Ed. by Wojciech Stanek, Paweł Gładysz, Sebastian Werle, Lucyna Czarnowska. Gliwice : Departement of Thermal Technology. Silesian University of Technology, 2020, s. 1339-1348, bibliogr. 35 poz.
ISBN: 978-83-61506-54-6
Liczba arkuszy wydawniczych: 0,7
Słowa kluczowe polskie: fotowoltaika ; barwnikowe ogniwo słoneczne ; warstwa zaporowa ; tlenek metalu ; osadzanie warstw atomowych
Słowa kluczowe angielskie: photovoltaics ; dye-sensitized solar cell ; blocking layer ; metal oxide ; atomic layer deposition
Typ publikacji: RK
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.


4/23
Nr opisu: 0000137131
Tytuł oryginału: Structure and properties of ZnO coatings obtained by atomic layer deposition (ALD) method on a Cr-Ni-Mo steel substrate type
Autorzy: Marcin Staszuk, Daniel Pakuła, Łukasz Reimann, Mariusz Król, Marcin Basiaga, D. Mysłek, A. Kriz.
¬ródło: -Materials 2020 vol. 13 iss. 19, s. 1-18, bibliogr. 37 poz.
Impact Factor: 3.057
Punktacja MNiSW: 140.000
p-ISSN: 1996-1944
DOI:
Słowa kluczowe polskie: nanostruktura ; wła¶ciwo¶ci mechaniczne ; osadzanie warstw atomowych ; ALD ; tlenek cynku ; ZnO ; stal nierdzewna 316L ; odporno¶ć na korozję
Słowa kluczowe angielskie: nanostructure ; mechanical properties ; atomic layer deposition ; ALD ; zinc oxide ; ZnO ; 316L stainless steel ; corrosion resistance
Typ publikacji: A
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: Z
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.
Informacje o dostępie open-access: open-access-text-version: FINAL_PUBLISHED open-access-licence: CC-BY open-access-release-time: AT_PUBLICATION open-access-article-mode: OPEN_JOURNAL
Dostęp on-line:


5/23
Nr opisu: 0000135434
Tytuł oryginału: The influence of the parameters of the zinc oxide layer deposition process using the atomic layer deposition method on the physical and mechanical properties of 316LVM steel
Autorzy: Marcin Basiaga, Witold Walke, Agata Sambok-Kiełbowicz, Zbigniew Paszenda, Marcin Kaczmarek, Anna Taratuta, Marek Szindler, Bogusław Ziębowicz.
¬ródło: -Materialwissensch. Werkstofftech. 2020 vol. 51 iss. 5, s. 624-630, bibliogr. 26 poz.
Impact Factor: 0.744
Punktacja MNiSW: 40.000
p-ISSN: 0933-5137
e-ISSN: 1521-4052
DOI:
Słowa kluczowe polskie: 316 LVM ; warstwa cynku ; osadzanie warstw atomowych ; biofilm bakteryjny ; wła¶ciwo¶ci mechaniczne
Słowa kluczowe angielskie: 316LVM ; zinc oxide layer ; atomic layer deposition ; bacterial biofilm ; mechanical properties
Typ publikacji: A
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: Z
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.
Dostęp on-line:


6/23
Nr opisu: 0000138879
Tytuł oryginału: The optical parameters of TiO2 antireflection coating prepared by atomic layer deposition method for photovoltaic application
Autorzy: Marek Szindler, Magdalena Szindler.
¬ródło: -Opt. Appl. 2020 vol. 50 no. 4, s. 663-670, bibliogr. 16 poz.
Impact Factor: 0.673
Punktacja MNiSW: 40.000
p-ISSN: 0078-5466
e-ISSN: 1899-7015
DOI:
Słowa kluczowe polskie: cienka powłoka ; osadzanie warstw atomowych ; dwutlenek tytanu
Słowa kluczowe angielskie: thin film ; atomic layer deposition ; titanium dioxide
Typ publikacji: A
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.
Lokalizacja ¬ródła: P¦l. sygn. P.3422
Informacje o dostępie open-access: open-access-text-version: FINAL_PUBLISHED open-access-licence: CC-BY open-access-release-time: AT_PUBLICATION open-access-article-mode: OPEN_JOURNAL
Dostęp on-line:


7/23
Nr opisu: 0000131365
Tytuł oryginału: Atomic layer deposition of TiO2 blocking layers for dye-sensitized solar cells.
Autorzy: Aleksandra Drygała, Marek Szindler, Magdalena Szindler, Ewa Jonda.
¬ródło: W: 13th Conference "Electron Technology" ELTE. 43rd International Microelectronics and Packaging IMAPS Poland Conference, 4-6 September 2019, Wrocław, Poland. Technical digest. [Dokument elektroniczny]. Eds. Rafał Walczak, Karol Malecha. Kraków : International Microelectronics and Packaging Society Poland Chapter, 2019, pamięć USB (PenDrive) s. 164-165
ISBN: 978-83-932464-3-4
Słowa kluczowe polskie: barwnikowe ogniwo słoneczne ; osadzanie warstw atomowych ; dwutlenek tytanu ; warstwa zaporowa
Słowa kluczowe angielskie: dye sensitized solar cell ; atomic layer deposition ; titanium dioxide ; blocking layer
Typ publikacji: K
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.


8/23
Nr opisu: 0000132461
Tytuł oryginału: Metody badawcze cienkich warstw wytworzonych metod± osadzania warstw atomowych
Autorzy: Paulina Boryło, Marek Szindler, Magdalena Szindler, Krzysztof Lukaszkowicz.
¬ródło: -LAB Laboratoria Apar. Bad. 2019 nr 5, s. 16-18, bibliogr. 4 poz.
Punktacja MNiSW: 5.000
p-ISSN: 1427-5619
Słowa kluczowe polskie: warstwa cienka ; osadzanie warstw atomowych ; ALD
Słowa kluczowe angielskie: thin layer ; atomic layer deposition ; ALD
Typ publikacji: A
Język publikacji: POL
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.
Lokalizacja ¬ródła: P¦l.


9/23
Nr opisu: 0000130050
Tytuł oryginału: Nanometryczne warstwy tlenku cynku wytwarzane metodami próżniowymi.
Autorzy: Paulina Boryło, Krzysztof Lukaszkowicz.
¬ródło: W: XVIII Krajowa Konferencja Elektroniki, Darłówko Wschodnie, 02-06.06.2019. Program konferencji. [Dokument elektroniczny]. [B.m.] : [b.w.], 2019, pamięć USB (PenDrive) s. 188-193, bibliogr. 9 poz.
Organizator: Uniwersytet Morski w Gdyni
Liczba arkuszy wydawniczych: 0,5
Słowa kluczowe polskie: transparentne tlenki przewodz±ce ; tlenek cynku ; osadzanie warstw atomowych ; ALD ; rozpylanie magnetronowe ; PVD
Słowa kluczowe angielskie: transparent conductive oxide ; zinc oxide ; atomic layer deposition ; ALD ; magnetron sputtering
Typ publikacji: RK
Język publikacji: POL
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.


10/23
Nr opisu: 0000131786
Tytuł oryginału: Nanometryczne warstwy tlenku cynku wytwarzane metodami próżniowymi
Tytuł w wersji angielskiej: Nanometric zinc oxide films produced by vacuum methods
Autorzy: Paulina Boryło, Krzysztof Lukaszkowicz.
¬ródło: -Elektronika 2019 R. 60 nr 9, s. 6-10, bibliogr. 8 poz.
Punktacja MNiSW: 5.000
p-ISSN: 0033-2089
e-ISSN: 2449-9528
DOI:
Słowa kluczowe polskie: transparentne tlenki przewodz±ce ; tlenek cynku ; osadzanie warstw atomowych ; ALD ; rozpylanie magnetronowe ; PVD
Słowa kluczowe angielskie: transparent conductive oxide ; zinc oxide ; atomic layer deposition ; ALD ; magnetron sputtering ; PVD
Typ publikacji: A
Język publikacji: POL
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.
Lokalizacja ¬ródła: P¦l. sygn. P.2411
Dostęp on-line:


11/23
Nr opisu: 0000131377
Tytuł oryginału: Optical Al2O3 thin film for applications in silicon solar cells.
Autorzy: Marek Szindler, Magdalena Szindler, Aleksandra Drygała, Paulina Boryło.
¬ródło: W: 13th Conference "Electron Technology" ELTE. 43rd International Microelectronics and Packaging IMAPS Poland Conference, 4-6 September 2019, Wrocław, Poland. Technical digest. [Dokument elektroniczny]. Eds. Rafał Walczak, Karol Malecha. Kraków : International Microelectronics and Packaging Society Poland Chapter, 2019, pamięć USB (PenDrive) s. 194-195, bibliogr. 2 poz.
ISBN: 978-83-932464-3-4
Słowa kluczowe polskie: krzemowe ogniwa słoneczne ; osadzanie warstw atomowych ; tritlenek aluminium
Słowa kluczowe angielskie: silicon solar cell ; atomic layer deposition ; aluminium trioxide
Typ publikacji: K
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.


12/23
Nr opisu: 0000128364
Tytuł oryginału: Preparation and characterization of microsphere ZnO ALD coating dedicated for the fiber-optic refractive index sensor
Autorzy: P. Listewnik, M. Hirsch, Przemysław Struk, M. Weber, M. Bechelany, M. Jędrzejewska-Szczerska.
¬ródło: -Nanomaterials 2019 vol. 9 iss. 2, art. no. 306 s. 1-11, bibliogr. 48 poz.
Impact Factor: 4.324
Punktacja MNiSW: 70.000
p-ISSN: 2079-4991
DOI:
Słowa kluczowe polskie: ZnO ; osadzanie warstw atomowych ; powłoka ; mikrosfera ; czujnik ¶wiatłowodowy ; współczynnik załamania
Słowa kluczowe angielskie: ZnO ; atomic layer deposition ; coating ; microsphere ; fiber-optic sensor ; refractive index
Typ publikacji: A
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: Z
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.
Informacje o dostępie open-access: open-access-text-version: FINAL_PUBLISHED open-access-licence: CC-BY open-access-release-time: AT_PUBLICATION open-access-article-mode: OPEN_JOURNAL
Dostęp on-line:


13/23
Nr opisu: 0000132604
Tytuł oryginału: The optical parameters of TiO2 antireflection coating prepared by ALD method for photovoltaic application.
Autorzy: Marek Szindler, Magdalena Szindler, Paulina Boryło.
¬ródło: W: Zeszyt abstraktów międzynarodowej konferencji Material Technologies in Silesia'2019, 13-16 paĽdziernika 2019, Zawiercie. Red. Mirosław Bonek. Gliwice : Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych. Wydział Mechaniczny Technologiczny. Politechnika ¦l±ska, 2019, s. 165-166, bibliogr. 2 poz.
ISBN: 978-83-65138-24-8
Seria: (Prace Instytutu Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych ; Wydział Mechaniczny Technologiczny. Politechnika ¦l±ska z. 6)
Słowa kluczowe polskie: dwutlenek tytanu ; osadzanie warstw atomowych ; powłoka antyrefleksyjna
Słowa kluczowe angielskie: titanium dioxide ; atomic layer deposition ; antireflection coating
Typ publikacji: K
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.
Lokalizacja ¬ródła: P¦l.


14/23
Nr opisu: 0000131507
Tytuł oryginału: ZnO coated fiber optic microsphere sensor for the enhanced refractive index sensing
Autorzy: M. Hirsch, P. Listewnik, Przemysław Struk, M. Weber, M. Bechelany, M. Szczerska.
¬ródło: -Sens. Actuators, A Phys. 2019 vol. 298, art. no. 111594 s. 1-8, bibliogr. 58 poz.
Impact Factor: 2.904
Punktacja MNiSW: 100.000
p-ISSN: 0924-4247
e-ISSN: 1873-3069
DOI:
Słowa kluczowe polskie: ZnO ; osadzanie warstw atomowych ; powłoka ; mikrosfera ; sensor ; współczynnik załamania ; ¶wiatłowód
Słowa kluczowe angielskie: ZnO ; atomic layer deposition ; coating ; microsphere ; sensor ; refractive index ; fiber-optic
Typ publikacji: A
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: Z
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.
Dostęp on-line:


15/23
Nr opisu: 0000122968
Tytuł oryginału: Analysis of the corrosion protective ability of atomic layer deposition silica-based coatings deposited on 316LVM steel
Autorzy: Marcin Basiaga, Witold Walke, Wojciech Kajzer, Agnieszka* Hyla, Alina Domanowska, Anna Michalewicz, C. Krawczyk.
¬ródło: -Materialwissensch. Werkstofftech. 2018 vol. 49 iss. 5, s. 551-561, bibliogr. 53 poz.
Impact Factor: 0.556
Punktacja MNiSW: 15.000
p-ISSN: 0933-5137
e-ISSN: 1521-4052
DOI:
Słowa kluczowe polskie: 316 LVM ; SiO2 ; osadzanie warstw atomowych ; spektroskopia elektronów Augera ; skaningowy mikroskop elektronowy ; test potencjodynamiczny ; wykres impedancji elektrochemicznej
Słowa kluczowe angielskie: 316 LVM ; SiO2 ; atomic layer deposition ; Auger electron spectroscopy ; scanning electron microscopy ; potentiodynamic test ; electrochemical impedance plot
Typ publikacji: A
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: Z
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.


16/23
Nr opisu: 0000122972
Tytuł oryginału: Effect of thin SiO2 layers deposited by means of atomic layer deposition method on the mechanical and physical properties of stainless steel
Autorzy: Marcin Basiaga, Witold Walke, Magdalena Antonowicz, Agata Sambok-Kiełbowicz, Damian Nakonieczny, M. Gawlikowski, B. Zawidlak-Węgrzyńska, C. Krawczyk.
¬ródło: -Materialwissensch. Werkstofftech. 2018 vol. 49 iss. 5, s. 562-567, bibliogr. 22 poz.
Impact Factor: 0.556
Punktacja MNiSW: 15.000
p-ISSN: 0933-5137
e-ISSN: 1521-4052
DOI:
Słowa kluczowe polskie: 316 LVM ; ditlenek krzemu ; osadzanie warstw atomowych ; wła¶ciwo¶ci mechaniczne ; wła¶ciwo¶ci fizyczne
Słowa kluczowe angielskie: 316 LVM ; silicon dioxide ; atomic layer deposition ; mechanical properties ; physical properties
Typ publikacji: A
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: Z
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.


17/23
Nr opisu: 0000126830
Tytuł oryginału: Metallic skeletons as reinforcement of new composite materials applied in orthopaedics and dentistry
Autorzy: L. A. Dobrzański, A. Dobrzańska-Danikiewicz, Z. Czuba, L. B. Dobrzański, A. Achtelik-Franczak, P. Malara, Marek Szindler, L. Kroll.
¬ródło: -Arch. Mater. Sci. Eng. 2018 vol. 92 nr 2, s. 53-85, bibliogr. 90 poz.
Punktacja MNiSW: 13.000
p-ISSN: 1897-2764
DOI:
Słowa kluczowe polskie: biologiczny materiał kompozytowy ; implanto-skafold ; rusztowanie ; stop tytanu ; selektywne spiekanie laserowe ; osadzanie warstw atomowych ; medycyna regeneracyjna ; stomatologia regeneracyjna ; hodowla żywych komórek
Słowa kluczowe angielskie: biological-engineering composite material ; implant-scaffold ; scaffold ; titanium alloy ; selective laser sintering ; atomic layer deposition ; regenerative medicine ; regenerative dentistry ; living cells culture
Typ publikacji: A
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.
Informacje o dostępie open-access: open-access-text-version: FINAL_PUBLISHED open-access-licence: OTHER open-access-release-time: AT_PUBLICATION open-access-article-mode: OPEN_JOURNAL
Dostęp on-line:


18/23
Nr opisu: 0000124104
Tytuł oryginału: Nanolayers in fiber-optic biosensing.
Autorzy: M. Jędrzejewska-Szczerska, D. Majchrowicz, M. Hirsch, Przemysław Struk, R. Bogdanowicz, M. Bechelany, V. Tuchin.
¬ródło: W: Nanotechnology and biosensors. Ed. by Dimitrios P. Nikolelis, Georgia-Paraskevi Nikoleli. Amsterdam : Elsevier, 2018, s. 395-426
ISBN: 978-0-12-813855-7
Punktacja MNiSW: 20.000
Liczba arkuszy wydawniczych: 2
DOI:
Słowa kluczowe polskie: czujnik ¶wiatłowodowy ; biosensor ; cienka powłoka ; osadzanie warstw atomowych ; ALD ; nanodiament ; NCD ; nanodiament domieszkowany borem ; B-NCD ; tlenek cynku ; ZnO ; dwutlenek tytanu ; TiO2 ; tlenek glinu ; Al2O3
Słowa kluczowe angielskie: fiber-optic sensor ; biosensor ; thin film ; atomic layer deposition ; ALD ; nanodiamond ; NCD ; boron-doped nanodiamond ; B-NCD ; zinc oxide ; ZnO ; titanium dioxide ; TiO2 ; aluminium oxide ; Al2O3
Typ publikacji: U
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: Z
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.


19/23
Nr opisu: 0000125590
Tytuł oryginału: The new generation of the biological-engineering materials for applications in medical and dental implant-scaffolds
Autorzy: L. A. Dobrzański, A. Dobrzańska-Danikiewicz, Z. Czuba, L. B. Dobrzański, A. Achtelik-Franczak, P. Malara, Marek Szindler, L. Kroll.
¬ródło: -Arch. Mater. Sci. Eng. 2018 vol. 91 nr 2, s. 56-85, bibliogr. 207 poz.
Punktacja MNiSW: 13.000
p-ISSN: 1897-2764
DOI:
Słowa kluczowe polskie: medycyna regeneracyjna ; inżynieria tkankowa ; inżynieria materiałowa ; inżynieria powierzchni ; implanto-skafold ; selektywne spiekanie laserowe ; stop tytanu ; osadzanie warstw atomowych ; materiał biologiczno-inżynierski ; warstwy płaskie żywych komórek
Słowa kluczowe angielskie: regenerative medicine ; tissue engineering ; materials engineering ; surface engineering ; implant-scaffold ; selective laser sintering ; titanium alloy ; atomic layer deposition ; biological-engineering material ; flat layers of living cells
Typ publikacji: A
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.
Informacje o dostępie open-access: open-access-text-version: FINAL_PUBLISHED open-access-licence: OTHER open-access-release-time: AT_PUBLICATION open-access-article-mode: OPEN_JOURNAL
Dostęp on-line:


20/23
Nr opisu: 0000116920
Tytuł oryginału: Cienkie warstwy ALD stosowane w fotowoltaice i optoelektronice.
Autorzy: Paulina Boryło, Marek Szindler, Krzysztof Lukaszkowicz, Magdalena Szindler.
¬ródło: W: Szesnasta Krajowa Konferencja Elektroniki, Darłowo, 05-09.06.2017. Materiały konferencji. [Dokument elektroniczny]. [B.m.] : [b.w.], 2017, pamięć USB (PenDrive) s. 364-365, bibliogr. 16 poz.
Organizator: Polskie Towarzystwo Elektrotechniki Teoretycznej i Stosowanej - Oddział Gdańsk, Wydział Elektroniki i Informatyki Politechniki Koszalińskiej
Liczba arkuszy wydawniczych: 0,3
Słowa kluczowe polskie: fotowoltaika ; optoelektronika ; warstwa antyrefleksyjna ; transparentna warstwa przewodz±ca ; osadzanie warstw atomowych
Słowa kluczowe angielskie: photovoltaics ; optoelectronics ; antireflection layer ; transparent conducting film ; atomic layer deposition
Typ publikacji: RK
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.


21/23
Nr opisu: 0000118917
Tytuł oryginału: Comparison of surface morphology and structure of Al2O3 thin films deposited by sol-gel and ALD methods
Autorzy: Marek Szindler, L. A. Dobrzański, Magdalena Szindler, Mirosława Pawlyta, Tymoteusz* Jung.
¬ródło: -J. Achiev. Mater. Manuf. Eng. 2017 vol. 82 iss. 2, s. 49-57, bibliogr. 31 poz.
Punktacja MNiSW: 12.000
p-ISSN: 1734-8412
DOI:
Słowa kluczowe polskie: zol-żel ; osadzanie warstw atomowych ; tlenek glinu ; powłoka cienka ; powłoka antyrefleksyjna
Słowa kluczowe angielskie: sol-gel ; atomic layer deposition ; aluminium oxide ; thin film ; antireflection coating
Typ publikacji: A
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.
Informacje o dostępie open-access: open-access-text-version: FINAL_PUBLISHED open-access-licence: OTHER open-access-release-time: AT_PUBLICATION open-access-article-mode: OPEN_JOURNAL
Dostęp on-line:


22/23
Nr opisu: 0000122732
Tytuł oryginału: Structure and optical properties of TiO2 thin films deposited by ALD method
Autorzy: Marek Szindler, Magdalena Szindler, Paulina Boryło, Tymoteusz* Jung.
¬ródło: -Open Phys. 2017 vol 15 iss. 1, s. 1067-1071, bibliogr. 15 poz.
Impact Factor: 0.755
Punktacja MNiSW: 15.000
p-ISSN: 2391-5471
DOI:
Słowa kluczowe polskie: fotowoltaika ; krzemowe ogniwo słoneczne ; osadzanie warstw atomowych ; powłoka antyrefleksyjna
Słowa kluczowe angielskie: photovoltaic ; silicon solar cell ; atomic layer deposition ; antireflection coating
Typ publikacji: A
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.
Informacje o dostępie open-access: open-access-text-version: FINAL_PUBLISHED open-access-licence: CC-BY-NC-ND open-access-release-time: AT_PUBLICATION open-access-article-mode: OPEN_JOURNAL


23/23
Nr opisu: 0000106201
Tytuł oryginału: Mechanical properties of atomic layer deposition (ALD) TiO2 layers on stainless steel substrates
Autorzy: Marcin Basiaga, Marcin Staszuk, Witold Walke, Zbigniew Opilski.
¬ródło: -Materialwissensch. Werkstofftech. 2016 vol. 47 iss. 5/6, s. 512-520, bibliogr. 29 poz.
Impact Factor: 0.524
Punktacja MNiSW: 15.000
p-ISSN: 0933-5137
e-ISSN: 1521-4052
DOI:
Słowa kluczowe polskie: 316 LVM ; TiO2 ; osadzanie warstw atomowych ; próba zarysowania ; nanotwardo¶ć ; elipsometria ; mikroskopia sił atomowych ; AFM
Słowa kluczowe angielskie: 316 LVM ; TiO2 ; atomic layer deposition ; scratch test ; nanohardness ; ellipsometry ; atomic force microscopy ; AFM
Typ publikacji: A
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: Z
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.
Dostęp on-line:


stosuj±c format:
Nowe wyszukiwanie