Wynik wyszukiwania
Zapytanie: ELIPSOMETRIA
Liczba odnalezionych rekordów: 3



Przejście do opcji zmiany formatu | Wyświetlenie wyników w wersji do druku | Pobranie pliku do edytora | Przesłanie wyników do modułu analizy | excel | Nowe wyszukiwanie
1/3
Nr opisu: 0000106201
Tytuł oryginału: Mechanical properties of atomic layer deposition (ALD) TiO2 layers on stainless steel substrates
Autorzy: Marcin Basiaga, Marcin Staszuk, Witold Walke, Zbigniew Opilski.
Źródło: -Materialwissensch. Werkstofftech. 2016 vol. 47 iss. 5/6, s. 512-520, bibliogr. 29 poz.
Impact Factor: 0.524
Punktacja MNiSW: 15.000
p-ISSN: 0933-5137
e-ISSN: 1521-4052
DOI:
Słowa kluczowe polskie: 316 LVM ; TiO2 ; osadzanie warstw atomowych ; próba zarysowania ; nanotwardość ; elipsometria ; mikroskopia sił atomowych ; AFM
Słowa kluczowe angielskie: 316 LVM ; TiO2 ; atomic layer deposition ; scratch test ; nanohardness ; ellipsometry ; atomic force microscopy ; AFM
Typ publikacji: A
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: Z
Afiliacja: praca afiliowana w PŚl.
Dostęp on-line:


2/3
Nr opisu: 0000093679
Tytuł oryginału: Metoda atomowego osadzania cienkich warstw optycznych.
Autorzy: Paulina Boryło, Marek Szindler, Magdalena Szindler.
Źródło: W: Sesja Okolicznościowa Studenckich Kół Naukowych "SO-KÓŁ'14". Red. Mirosław Bonek. Gliwice : Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych Politechniki Śląskiej, 2014, s. 3-8, bibliogr. 12 poz.
ISBN: 978-83-63553-30-2
Seria: (Prace Studenckich Kół Naukowych ; Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych. Politechnika Śląska nr 30)
Liczba arkuszy wydawniczych: 0,30
Słowa kluczowe polskie: atomowe osadzanie warstw ; mikroskopia sił atomowych ; elipsometria
Słowa kluczowe angielskie: atomic layer deposition ; atomic force microscopy ; ellipsometry
Typ publikacji: RK
Język publikacji: POL
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w PŚl.
Informacje o dostępie open-access: open-access-licence: OTHER
Dostęp on-line:


3/3
Nr opisu: 0000067731
Tytuł oryginału: Optical properties of silica antireflective films formed in sol-gel processes
Autorzy: J. Jaglarz, Paweł Karasiński, E. Skoczek.
Źródło: -Phys. Status Solidi, C Curr. Top. Solid State Phys. 2011 vol. 8 iss. 9, s. 2645-2648, bibliogr. 9 poz.
p-ISSN: 1610-1634
e-ISSN: 1610-1642
DOI:
Słowa kluczowe polskie: antyrefleksyjna powłoka ; krzemionka porowata ; elipsometria ; zol-żel
Słowa kluczowe angielskie: antireflective coating ; porous silica ; ellipsometry ; sol-gel
Typ publikacji: A
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: Z
Afiliacja: praca afiliowana w PŚl.
Dostęp on-line:


stosując format:
Nowe wyszukiwanie