Wynik wyszukiwania
Zapytanie: ATOMOWE OSADZANIE WARSTW
Liczba odnalezionych rekordów: 12



Przej¶cie do opcji zmiany formatu | Wy¶wietlenie wyników w wersji do druku | Pobranie pliku do edytora | Przesłanie wyników do modułu analizy | excel | Nowe wyszukiwanie
1/12
Nr opisu: 0000125675
Tytuł oryginału: Struktura i własno¶ci warstw Al2O3 osadzonych metod± ALD na krzemowych ogniwach fotowoltaicznych
Tytuł w wersji angielskiej: Structure and properties of Al2O3 layers deposited by the ALD method on silicon solar cells
Autorzy: Marek Szindler, Magdalena Szindler.
¬ródło: -Elektronika 2018 R. 59 nr 9, s. 9-11, bibliogr. 11 poz.
Punktacja MNiSW: 8.000
p-ISSN: 0033-2089
e-ISSN: 2449-9528
DOI:
Słowa kluczowe polskie: atomowe osadzanie warstw ; warstwa antyrefleksyjna ; krzemowe ogniwo fotowoltaiczne ; własno¶ci optyczne ; charakterystyka pr±dowo-napięciowa
Słowa kluczowe angielskie: atomic layer deposition ; antireflection coating ; silicon solar cell ; optical properties ; current-voltage characteristic
Typ publikacji: A
Język publikacji: POL
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.
Lokalizacja ¬ródła: P¦l. sygn. P.2411
Dostęp on-line:


2/12
Nr opisu: 0000126016
Tytuł oryginału: Struktura i własno¶ci warstw Al2O3 osadzonych metod± ALD na krzemowych ogniwach fotowoltaicznych.
Autorzy: Marek Szindler, Magdalena Szindler.
¬ródło: W: XVII Krajowa Konferencja Elektroniki, Darłówko Wschodnie, 03-07.06.2018. Program konferencji. [Dokument elektroniczny]. [B.m.] : [b.w.], 2018, s. 1-6, bibliogr. 11 poz.
Organizator: Akademia Morska w Gdyni
Liczba arkuszy wydawniczych: 0,5
Słowa kluczowe polskie: atomowe osadzanie warstw ; warstwa antyrefleksyjna ; krzemowe ogniwo fotowoltaiczne ; własno¶ci optyczne ; charakterystyka pr±dowo-napięciowa
Słowa kluczowe angielskie: atomic layer deposition ; antireflection layer ; silicon solar cell ; optical properties ; current-voltage characteristic
Typ publikacji: RK
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.


3/12
Nr opisu: 0000105080
Tytuł oryginału: Influence of laser texturization surface and atomic layer deposition on optical properties of polycrystalline silicon
Autorzy: Aleksandra Drygała, Leszek** Dobrzański, Marek Szindler, Magdalena Szindler, Marzena* Prokopiuk vel Prokopowicz, Ewa Jonda.
¬ródło: -Int. J. Hydrog. Energy 2016 vol. 41 iss. 18, s. 7563-7567, bibliogr. 30 poz.
Impact Factor: 3.582
Punktacja MNiSW: 35.000
p-ISSN: 0360-3199
e-ISSN: 1879-3487
DOI:
Słowa kluczowe polskie: ogniwo słoneczne ; teksturyzacja laserowa ; atomowe osadzanie warstw
Słowa kluczowe angielskie: solar cell ; laser texturization ; atomic layer deposition
Typ publikacji: A
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: Z
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.
Dostęp on-line:


4/12
Nr opisu: 0000103491
Tytuł oryginału: Atomic layer deposition of TiO2 onto porous biomaterials
Autorzy: Leszek** Dobrzański, Anna* Dobrzańska-Danikiewicz, Marek Szindler, Anna* Achtelik-Franczak, Wojciech Pakieła.
¬ródło: -Arch. Mater. Sci. Eng. 2015 vol. 75 nr 1, s. 5-11, bibliogr. 19 poz
Punktacja MNiSW: 13.000
p-ISSN: 1897-2764
Słowa kluczowe polskie: materiał porowaty ; powłoka cienka ; tlenek tytanu ; atomowe osadzanie warstw
Słowa kluczowe angielskie: porous material ; thin film ; titanium oxide ; atomic layer deposition
Typ publikacji: A
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.
Informacje o dostępie open-access: open-access-licence: OTHER
Dostęp on-line:


5/12
Nr opisu: 0000104739
Tytuł oryginału: Characteristics of ZnO thin films deposited by atomic layer deposition
Autorzy: Paulina Boryło, Krzysztof Lukaszkowicz, Marek Szindler, Marcin Basiaga.
¬ródło: -J. Achiev. Mater. Manuf. Eng. 2015 vol. 73 iss. 2, s. 86-91, bibliogr. 16 poz.
Punktacja MNiSW: 12.000
p-ISSN: 1734-8412
Słowa kluczowe polskie: tlenek cynku ; atomowe osadzanie warstw ; skaningowa mikroskopia elektronowa ; dyfraktometr rentgenowski ; próba zarysowania
Słowa kluczowe angielskie: zinc oxide ; atomic layer deposition ; scanning electron microscopy ; X-ray diffractometer ; scratch test
Typ publikacji: A
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.
Informacje o dostępie open-access: open-access-licence: OTHER
Dostęp on-line:


6/12
Nr opisu: 0000104661
Tytuł oryginału: The impact of atomic layer deposition technological parameters on optical properties and morphology of Al2O3 thin films
Autorzy: Leszek** Dobrzański, Marek Szindler, Magdalena Szindler, B. Hajduk, S. Kotowicz.
¬ródło: -Opt. Appl. 2015 vol. 45 no. 4, s. 573-583, bibliogr. 12 poz.
Impact Factor: 0.637
Punktacja MNiSW: 15.000
p-ISSN: 0078-5466
e-ISSN: 1899-7015
DOI:
Słowa kluczowe polskie: tlenek glinu ; atomowe osadzanie warstw ; powłoka cienka
Słowa kluczowe angielskie: aluminium oxide ; atomic layer deposition ; thin film
Typ publikacji: A
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.
Lokalizacja ¬ródła: P¦l. sygn. P.3422
Dostęp on-line:


7/12
Nr opisu: 0000093679
Tytuł oryginału: Metoda atomowego osadzania cienkich warstw optycznych.
Autorzy: Paulina Boryło, Marek Szindler, Magdalena Szindler.
¬ródło: W: Sesja Okoliczno¶ciowa Studenckich Kół Naukowych "SO-KÓŁ'14". Red. Mirosław Bonek. Gliwice : Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych Politechniki ¦l±skiej, 2014, s. 3-8, bibliogr. 12 poz.
ISBN: 978-83-63553-30-2
Seria: (Prace Studenckich Kół Naukowych ; Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych. Politechnika ¦l±ska nr 30)
Liczba arkuszy wydawniczych: 0,30
Słowa kluczowe polskie: atomowe osadzanie warstw ; mikroskopia sił atomowych ; elipsometria
Słowa kluczowe angielskie: atomic layer deposition ; atomic force microscopy ; ellipsometry
Typ publikacji: RK
Język publikacji: POL
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.
Informacje o dostępie open-access: open-access-licence: OTHER
Dostęp on-line:


8/12
Nr opisu: 0000096019
Tytuł oryginału: Silicon solar cells with Al2O3 antireflection coating
Autorzy: Leszek** Dobrzański, Marek Szindler, Aleksandra Drygała, Magdalena Szindler.
¬ródło: -Central Eur. J. Phys. 2014 vol. 12 nr 9, s. 666-670, bibliogr. 18 poz.
Impact Factor: 1.085
Punktacja MNiSW: 25.000
p-ISSN: 1895-1082
e-ISSN: 1644-3608
DOI:
Słowa kluczowe polskie: fotowoltaika ; krzemowe ogniwo słoneczne ; atomowe osadzanie warstw ; powłoka antyrefleksyjna
Słowa kluczowe angielskie: photovoltaics ; silicon solar cell ; atomic layer deposition ; antireflection coating
Typ publikacji: A
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: Z
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.
Dostęp on-line:


9/12
Nr opisu: 0000092800
Tytuł oryginału: Struktura i własno¶ci nanostrukturalnych warstw antyrefleksyjnych otrzymanych metod± ALD oraz zol-żel na krzemowych ogniwach fotowoltaicznych. Rozprawa doktorska.
Autorzy: Marek Szindler.
Miejsce i rok obrony: Gliwice, 2014
Opis fizyczny: , 100 k., bibliogr. 188 poz. + zał.: 101 k.
Uczelnia i wydział: Politechnika ¦l±ska. Wydział Mechaniczny Technologiczny.
Promotor: prof. zw. dr hab. inż. Leszek** Dobrzański
Słowa kluczowe polskie: ogniwo fotowoltaiczne ; warstwa antyrefleksyjna ; atomowe osadzanie warstw ; zol-żel
Słowa kluczowe angielskie: photovoltaic cell ; antireflective coating ; atomic layer deposition ; sol-gel
Typ publikacji: D
Język publikacji: POL
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.
Lokalizacja ¬ródła: P¦l. sygn. Cz.Ab. R-5083 + CD


10/12
Nr opisu: 0000087576
Tytuł oryginału: Al2O3 antireflection coatings for silicon solar cells
Autorzy: Leszek** Dobrzański, Marek Szindler.
¬ródło: -J. Achiev. Mater. Manuf. Eng. 2013 vol. 59 iss. 1, s. 13-19, bibliogr. 18 poz.
Punktacja MNiSW: 12.000
p-ISSN: 1734-8412
Słowa kluczowe polskie: warstwa antyrefleksyjna ; krzemowe ogniwo słoneczne ; atomowe osadzanie warstw ; warstwa cienka
Słowa kluczowe angielskie: antireflective coating ; silicon solar cell ; atomic layer deposition ; thin film
Typ publikacji: A
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.
Lokalizacja ¬ródła: P¦l. sygn. P.4671
Informacje o dostępie open-access: open-access-licence: OTHER
Dostęp on-line:


11/12
Nr opisu: 0000091570
Tytuł oryginału: Warstwy osadzane technik± ALD.
Autorzy: Marcin Staszuk, Marcin Adamiak, Andrzej* Hudecki.
¬ródło: W: Ćwiczenia laboratoryjne z inżynierii materiałowej i nanotechnologii. Praca zbiorowa. Pod red. Leszka A. Dobrzańskiego i Tomasza Tańskiego. Gliwice : International OCSCO World Press, 2013, s. 548-551
ISBN: 978-83-63553-25-8
Seria: (Open Access Library ; vol. 10 (28) 2083-5191)
Liczba arkuszy wydawniczych: 0,20
Słowa kluczowe polskie: warstwa cienka ; atomowe osadzanie warstw ; ALD ; korozja elektrochemiczna ; odporno¶ć na korozję ; ćwiczenia laboratoryjne
Słowa kluczowe angielskie: thin coating ; atomic layer deposition ; ALD ; electrochemical corrosion ; corrosion resistance ; laboratory exercises
Typ publikacji: U
Język publikacji: POL
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.


12/12
Nr opisu: 0000072945
Tytuł oryginału: Sol-gel and ALD antireflaction coatings or silicon solar cells
Tytuł w wersji polskiej: Powłoki antyrefleksyjne otrzymywane metodami zol-żel oraz ALD do zastosowań w krzemowych ogniwach słonecznych
Autorzy: Leszek** Dobrzański, Marek Szindler.
¬ródło: -Elektronika 2012 R. 53 nr 8, s. 125-127, bibliogr. 10 poz.
Punktacja MNiSW: 6.000
p-ISSN: 0033-2089
Słowa kluczowe polskie: zol-żel ; warstwa antyrefleksyjna ; ogniwo słoneczne ; atomowe osadzanie warstw
Słowa kluczowe angielskie: sol-gel ; antireflective coating ; solar cell ; atomic layer deposition
Typ publikacji: A
Język publikacji: POL
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.
Lokalizacja ¬ródła: P¦l. sygn. P.2411
Dostęp on-line:


stosuj±c format:
Nowe wyszukiwanie