Wynik wyszukiwania
Zapytanie:
PLASMA ELECTROCHEMICAL OXIDATION
Liczba odnalezionych rekordów:
2
Przej¶cie do opcji zmiany formatu
|
Wy¶wietlenie wyników w wersji do druku
|
Pobranie pliku do edytora
|
Przesłanie wyników do modułu analizy
|
excel
|
Nowe wyszukiwanie
1/2
Nr opisu:
0000124652
Tytuł oryginału:
Badania nad procesem modyfikacji powierzchni cyrkonu, niobu i tantalu metod± wysokonapięciowego utleniania elektrochemicznego. Rozprawa doktorska.
Autorzy:
Maciej
Sowa
.
Miejsce i rok obrony:
Gliwice, 2018
Opis fizyczny:
, 62 k., bibliogr. 138 poz.
Uczelnia i wydział:
Politechnika ¦l±ska. Wydział Chemiczny.
Promotor:
dr hab. inż. Wojciech Simka
Słowa kluczowe polskie:
utlenianie anodowe
;
plazmowe utlenianie elektrochemiczne
;
biomateriały
;
korozja
;
elektrochemiczna spektroskopia impedancyjna
;
skaningowa mikroskopia elektronowa
;
polaryzacja potencjodynamiczna
Słowa kluczowe angielskie:
anodic oxidation
;
plasma electrochemical oxidation
;
biomaterials
;
corrosion
;
electrochemical impedance spectroscopy
;
scanning electron microscopy
;
potentiodynamic polarization
Typ publikacji:
D
Język publikacji:
POL
Zasieg terytorialny:
K
Afiliacja:
praca afiliowana w P¦l.
Lokalizacja ¬ródła:
P¦l. sygn. R-5487+CD
Dostęp BCP¦:
2/2
Nr opisu:
0000120810
Tytuł oryginału:
Sposób modyfikacji warstwy wierzchniej tantalu, niobu i cyrkonu metod± plazmowego utleniania elektrochemicznego.
Twórcy:
Wojciech
Simka
, Alicja
Kazek-Kęsik
, Maciej
Sowa
.
¬ródło:
Patent. Polska, nr 225 226.
Int.Cl. C25D 11/02, C25D 9/06, C23C 22/05, A61L 27/04. Politechnika ¦l±ska, Polska
Zgłosz. nr 407 485 z 11.03.2014. Opubl. 31.03.2017, 4 s.
Słowa kluczowe polskie:
warstwa wierzchnia stopu
;
tantal
;
stop tantalu
;
stop niobu
;
stop cyrkonu
;
niob
;
cyrkon
;
plazmowe utlenianie elektrochemiczne
Słowa kluczowe angielskie:
alloy surface layer
;
tantalum
;
tantalum alloy
;
niobium alloy
;
zirconium alloy
;
niobium
;
zirconium
;
plasma electrochemical oxidation
Typ publikacji:
OP
Język publikacji:
POL
Zasieg terytorialny:
K
Afiliacja:
praca afiliowana w P¦l.
Lokalizacja ¬ródła:
P¦l. N/Pt
Dostęp on-line:
stosuj±c format:
standardowy
pełny z etykietami pól
roboczy
redakcja skr.
redakcja peł.
kontrolny
Nowe wyszukiwanie