Nr opisu: | 0000047757 |
Tytuł oryginału: | Analysis of the mechanism of cleaning process of GaAs(100) surface by atomic hydrogen. |
Autorzy: | Paweł* Tomkiewicz, Maciej Krzywiecki, A. Winkler, T. Chasse, Jacek** Szuber. |
¬ródło: | W: V International Workshop on Semiconductor Surface Passivation. SSP' 2007, Zakopane, Poland, September 16-19, 2007. Programme, abstracts. [B.m.] : [b.w.], 2007, s. 63, bibliogr. 7 poz. |
Organizator: | ECoE CESIS. NANOMET. Department of Electron Technology. Silesian University of Technology. Gliwice |
Typ publikacji: | K |
Język publikacji: | ENG |
Zasieg terytorialny: | K |
Afiliacja: | praca afiliowana w P¦l. |
Lokalizacja ¬ródła: | P¦l. sygn. Cz.01 122839 |