Wynik wyszukiwania
Zapytanie: MICROELECTRON INT
Liczba odnalezionych rekordów: 8



Przejście do opcji zmiany formatu | Wyświetlenie wyników w wersji do druku | Pobranie pliku do edytora | Przesłanie wyników do modułu analizy | excel | Nowe wyszukiwanie
1/8
Nr opisu: 0000125188   
Borosilicate spray-on glass solutions for fabrication silicon solar cell back surface field.
[Aut.]: Wojciech Filipowski, K. Drabczyk, Edyta Wróbel, P. Sobik, Krzysztof Waczyński, Natalia Waczyńska-Niemiec.
-Microelectron. Int. 2018 vol. 35 iss. 3, s. 172-176, bibliogr. 9 poz.. Impact Factor 0.608. Punktacja MNiSW 20.000

back-surface field ; diffusion process ; dopant sources ; silicon solar cells

2/8
Nr opisu: 0000118479   
Relationship between resistance, TCR and stabilization temperature of amorphous Ni-P alloy.
[Aut.]: Wojciech Filipowski, Zbigniew** Pruszowski, Krzysztof Waczyński, Piotr Kowalik, J. Kulawik.
-Microelectron. Int. 2017 vol. 34 iss. 3, s. 154-159, bibliogr. 20 poz.. Impact Factor 0.608. Punktacja MNiSW 20.000

TWR ; metalizacja chemiczna ; stop Ni-P ; warstwa rezystywna ; stabilizacja termiczna ; zależności matematyczne

TCR ; chemical metallization ; Ni-P alloy ; resistive layer ; thermal stabilization ; mathematical relationships

3/8
Nr opisu: 0000118488   
Spray-on glass solution for fabrication silicon solar cell emitter layer.
[Aut.]: Wojciech Filipowski, Edyta Wróbel, K. Drabczyk, Krzysztof Waczyński, G. Kulesza-Matlak, M. Lipiński.
-Microelectron. Int. 2017 vol. 34 iss. 3, s. 149-153, bibliogr. 9 poz.. Impact Factor 0.608. Punktacja MNiSW 20.000

warstwa emiterowa ; krzemowe ogniwo słoneczne ; roztwór domieszkowy

emitter layer ; silicon solar cell ; spray-on glass solution ; dopant solution

4/8
Nr opisu: 0000107789   
Comparison of diffused layer prepared using liquid dopant solutions and pastes for solar cell with screen printed electrodes.
[Aut.]: K. Drabczyk, Edyta Wróbel, G. Kulesza-Matlak, Wojciech Filipowski, Krzysztof Waczyński, M. Lipiński.
-Microelectron. Int. 2016 vol. 33 iss. 3, s. 167-171, bibliogr. 10 poz.. Impact Factor 0.737. Punktacja MNiSW 20.000

druk sitowy ; elektroda przednia ; proces dyfuzyjny ; krzemowe ogniwo słoneczne

screen printing ; front electrode ; diffusion process ; silicon solar cell ; Dopant source

5/8
Nr opisu: 0000103932   
Electrical parameters of solar cells with electrodes made by selective metallization.
[Aut.]: Piotr Kowalik, Edyta Wróbel, Janusz Mazurkiewicz.
-Microelectron. Int. 2016 vol. 33 iss. 1, s. 36-41, bibliogr. 11 poz.. Impact Factor 0.737. Punktacja MNiSW 20.000

technologia półprzewodników ; technologia grubych warstw ; technologia cienkich warstw

semiconductor technology ; thick-film technology ; thin-film technology

6/8
Nr opisu: 0000095777   
Selective metallization of solar cells.
[Aut.]: Edyta Wróbel, Piotr Kowalik, Janusz Mazurkiewicz.
-Microelectron. Int. 2015 vol. 32 iss. 1, s. 1-7, bibliogr. 9 poz.. Impact Factor 0.519. Punktacja MNiSW 20.000

metalizacja chemiczna ; metalizacja selektywna ; ogniwo słoneczne

chemical metallization ; selective metallization ; solar cell

7/8
Nr opisu: 0000093172   
Changes in TCR of amorphous Ni-P resistive films as a function of thermal stabilization parameters.
[Aut.]: Piotr Kowalik, Zbigniew** Pruszowski, J. Kulawik, A. Czerwiński, M. Pluska.
-Microelectron. Int. 2014 vol. 31 iss. 3, s. 149-153, bibliogr. 14 poz.. Impact Factor 0.659. Punktacja MNiSW 20.000

TWR ; struktura amorficzna ; warstwa rezystywna ; stabilizacja termiczna

TCR ; amorphous structure ; resistive layer ; thermal stabilization

8/8
Nr opisu: 0000056944   
Influence of solution acidity on composition, structure and electrical parameters of Ni-P alloys.
[Aut.]: Zbigniew** Pruszowski, Piotr Kowalik, M. Cież, J. Kulawik.
-Microelectron. Int. 2009 vol. 26 iss. 2, s. 24-27, bibliogr. 10 poz.. Impact Factor 0.588

stop ; metalizacja ; rezystywność ; warstwa cienka ; rezystor

alloy ; metallization ; electrical resistivity ; thin film ; resistor

stosując format:
Nowe wyszukiwanie