Wynik wyszukiwania
Zapytanie: WYDAJNOŚĆ KWANTOWA
Liczba odnalezionych rekordów: 8



Przejście do opcji zmiany formatu | Wyświetlenie wyników w wersji do druku | Pobranie pliku do edytora | Przesłanie wyników do modułu analizy | excel | Nowe wyszukiwanie
1/8
Nr opisu: 0000127857
Fast photometry of stars.
[Aut.]: F. Angeles, V. Orlov, Adam Popowicz.
W: Observatory Operations: Strategies, Processes, and Systems VII. SPIE astronomical telescopes + instrumentation, 10-15 June 2018 Austin, Texas, United States. Eds.: Alison B. Peck, Robert L. Seaman, Chris R. Benn. Bellingham : SPIE, 2018, art. no. 107042I s. 1-7, bibliogr. 16 poz. (Proceedings of SPIE ; vol. 10704 0277-786X)

urządzenia sprzężone z ładunkiem elektronowym ; fotometria ; gwiazdy ; teleskop ; czujnik ; pulsar ; aparat fotograficzny ; promieniowanie rentgenowskie ; jonizacja ; wydajność kwantowa

electron multiplying charge coupled devices ; photometry ; stars ; telescope ; sensor ; pulsar ; camera ; X-ray ; ionization ; quantum efficiency

2/8
Nr opisu: 0000107595   
Oxidation of benzotriazole and benzothiazole in photochemical processes: kinetics and formation of transformation products.
[Aut.]: Ewa* Borowska, Ewa Felis, Joanna Kalka.
-Chem. Eng. J. 2016 vol. 304, s. 852-863, bibliogr. 53 poz.. Impact Factor 6.216. Punktacja MNiSW 45.000

benzotiazol ; benzotriazol ; spektrometria masowa wysokiej rozdzielczości ; fototransformacja ; wydajność kwantowa ; produkty przemiany

benzothiazole ; benzotriazole ; high-resolution mass spectrometry ; phototransformation ; quantum yield ; transformation products

3/8
Nr opisu: 0000098830
Degradation of sulfamethoxazole using UV and UV/H2O2 processes.
[Aut.]: Ewa* Borowska, Ewa Felis, Korneliusz** Miksch.
-J. Adv. Oxid. Technol. 2015 vol. 18 no. 1, s. 69-77, bibliogr. 40 poz.. Impact Factor 0.738. Punktacja MNiSW 15.000

sulfmetoksazol ; promieniowanie UV ; wydajność kwantowa ; rodnik hydroksylowy

sulfamethoxazole ; UV radiation ; quantum yield ; hydroxyl radical

4/8
Nr opisu: 0000098579   
Nonylphenols degradation in the UV, UV/H2O2, O3 and UV/O3 processes - comparison of the methods and kinetic study.
[Aut.]: Ewa Felis, Korneliusz** Miksch.
-Water Sci. Technol. 2015 vol. 71 iss. 3, s. 446-453, bibliogr. 25 poz.. Impact Factor 1.064. Punktacja MNiSW 20.000

degradacja ; stała kinetyczna ; nonylofenol ; ozon ; wydajność kwantowa

degradation ; kinetic constant ; nonylphenol ; ozone ; quantum yield

5/8
Nr opisu: 0000087248   
Optical properties of semiconductors.
[Aut.]: Marian** Nowak.
W: Silicon based thin film solar cells. Ed. R. Murri. [B.m.] : Bentham Science Publishers, 2013, s. 177-242, bibliogr. 87 poz.

półprzewodnik ; transmitancja ; współczynnik odbicia ; wydajność kwantowa ; fotogeneracja ; własności optyczne ; struktura wielowarstwowa ; krzem amorficzny ; współczynnik załamania światła ; współczynnik absorpcji ; rozkład przestrzenny ; natężenie promieniowania ; rekombinacja ; fotoprzewodnictwo ; niejednorodność optyczna

semiconductor ; transmittance ; reflectance ; quantum efficiency ; photogeneration ; optical properties ; multilayer structure ; amorphous silicon ; refractive index ; absorption coefficient ; spatial distribution ; radiation intensity ; recombination ; photoconductivity ; optical inhomogeneity

6/8
Nr opisu: 0000085151
Nonylphenols degradation in the UV, UV/H2O2, O3, and UVO3 processes - comparison of the methods and kinetic study.
[Aut.]: Ewa Felis, Korneliusz** Miksch.
W: Oxidation technologies for water and wastewater treatment. 6th IWA Specialist conference, Goslar, May 7 - May 9, 2012. Programme and executive summaries. Eds.: M. Sievers [et al.]. Clausthal-Zellerfeld : Papierflieger, 2012, s. 30

degradacja ; stała kinetyczna ; nonylofenol ; ozon ; wydajność kwantowa

degradation ; kinetic constant ; nonylphenol ; ozone ; quantum yield

7/8
Nr opisu: 0000071342
Degradation of bisphenol a using UV and UV/H2O2 processes.
[Aut.]: Ewa Felis, S. Ledakowicz, J. Miller.
-Water Environ. Res. 2011 vol. 83 iss. 12, s. 2154-2158, bibliogr. 20 poz.. Impact Factor 0.883

bisfenol A ; promieniowanie UV ; proces UV/H2O2 ; wydajność kwantowa ; rodnik wodorotlenowy

bisphenol A ; UV radiation ; UV/H2O2 process ; quantum yield ; hydroxyl radical

8/8
Nr opisu: 0000057413   
Degradation of bisphenol A using UV- and UV/H2O2 - processes.
[Aut.]: Ewa Felis, S. Ledakowicz, J. Miller.
W: 5th International conference, 10th IOA-EA3G Berlin Conference on Oxidation Technologies for Water and Wastewater Treatment, Berlin, Germany, March 30 -April 2, 2009. Executive summaries. Ed. M. Sievers [et al.]. Clausthal-Zellerfeld : Papierflieger Verlag, 2009, s. 82-83

bisfenol ; promieniowanie UV ; proces UV/H2O2 ; kinetyka pierwszego rzędu ; wydajność kwantowa

bisphenol ; UV radiation ; UV/H2O2 process ; first order kinetic ; quantum yield

stosując format:
Nowe wyszukiwanie