Wynik wyszukiwania
Zapytanie: WARSTWA ANTYREFLEKSYJNA
Liczba odnalezionych rekordów: 9



Przejście do opcji zmiany formatu | Wyświetlenie wyników w wersji do druku | Pobranie pliku do edytora | Przesłanie wyników do modułu analizy | excel | Nowe wyszukiwanie
1/9
Nr opisu: 0000125675   
Struktura i własności warstw Al2O3 osadzonych metodą ALD na krzemowych ogniwach fotowoltaicznych.
[Aut.]: Marek Szindler, Magdalena Szindler.
-Elektronika 2018 R. 59 nr 9, s. 9-11, bibliogr. 11 poz.. Punktacja MNiSW 8.000

atomowe osadzanie warstw ; warstwa antyrefleksyjna ; krzemowe ogniwo fotowoltaiczne ; własności optyczne ; charakterystyka prądowo-napięciowa

atomic layer deposition ; antireflection coating ; silicon solar cell ; optical properties ; current-voltage characteristic

2/9
Nr opisu: 0000126016
Struktura i własności warstw Al2O3 osadzonych metodą ALD na krzemowych ogniwach fotowoltaicznych.
[Aut.]: Marek Szindler, Magdalena Szindler.
W: XVII Krajowa Konferencja Elektroniki, Darłówko Wschodnie, 03-07.06.2018. Program konferencji. [Dokument elektroniczny]. [B.m.] : [b.w.], 2018, s. 1-6, bibliogr. 11 poz.

atomowe osadzanie warstw ; warstwa antyrefleksyjna ; krzemowe ogniwo fotowoltaiczne ; własności optyczne ; charakterystyka prądowo-napięciowa

atomic layer deposition ; antireflection layer ; silicon solar cell ; optical properties ; current-voltage characteristic

3/9
Nr opisu: 0000116920
Cienkie warstwy ALD stosowane w fotowoltaice i optoelektronice.
[Aut.]: Paulina Boryło, Marek Szindler, Krzysztof Lukaszkowicz, Magdalena Szindler.
W: Szesnasta Krajowa Konferencja Elektroniki, Darłowo, 05-09.06.2017. Materiały konferencji. [Dokument elektroniczny]. [B.m.] : [b.w.], 2017, pamięć USB (PenDrive) s. 364-365, bibliogr. 16 poz.

fotowoltaika ; optoelektronika ; warstwa antyrefleksyjna ; transparentna warstwa przewodząca ; osadzanie warstw atomowych

photovoltaics ; optoelectronics ; antireflection layer ; transparent conducting film ; atomic layer deposition

4/9
Nr opisu: 0000092800
Struktura i własności nanostrukturalnych warstw antyrefleksyjnych otrzymanych metodą ALD oraz zol-żel na krzemowych ogniwach fotowoltaicznych. Rozprawa doktorska.
[Aut.]: Marek Szindler.
Gliwice, 2014, 100 k., bibliogr. 188 poz. + zał.: 101 k.
Politechnika Śląska. Wydział Mechaniczny Technologiczny. Promotor: prof. zw. dr hab. inż. Leszek** Dobrzański

ogniwo fotowoltaiczne ; warstwa antyrefleksyjna ; atomowe osadzanie warstw ; zol-żel

photovoltaic cell ; antireflective coating ; atomic layer deposition ; sol-gel

5/9
Nr opisu: 0000093676   
Własności optyczne materiałów fotowoltaicznych.
[Aut.]: Marek Szindler, Leszek** Dobrzański, Aleksandra Drygała.
W: Sesja Okolicznościowa Studenckich Kół Naukowych "SO-KÓŁ'14". Red. Mirosław Bonek. Gliwice : Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych Politechniki Śląskiej, 2014, s. 87-92, bibliogr. 9 poz. (Prace Studenckich Kół Naukowych ; Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych. Politechnika Śląska nr 29)

materiały optyczne ; warstwa antyrefleksyjna ; spektrofotometria

optical materials ; antireflective coating ; spectrophotometry

6/9
Nr opisu: 0000087576   
Al2O3 antireflection coatings for silicon solar cells.
[Aut.]: Leszek** Dobrzański, Marek Szindler.
-J. Achiev. Mater. Manuf. Eng. 2013 vol. 59 iss. 1, s. 13-19, bibliogr. 18 poz.. Punktacja MNiSW 12.000

warstwa antyrefleksyjna ; krzemowe ogniwo słoneczne ; atomowe osadzanie warstw ; warstwa cienka

antireflective coating ; silicon solar cell ; atomic layer deposition ; thin film

7/9
Nr opisu: 0000082869   
Sol gel TiO2 antireflection coatings for silicon solar cells.
[Aut.]: Leszek** Dobrzański, Marek Szindler.
-J. Achiev. Mater. Manuf. Eng. 2012 vol. 52 iss. 1, s. 7-14, bibliogr. 18 poz.. Punktacja MNiSW 8.000

dwutlenek tytanu ; warstwa antyrefleksyjna ; mikroskopowa siła atomowa ; mikroskop elektronowy skaningowy ; spektroskopia UV-Vis

titanium dioxide ; antireflective coating ; atomic force microscope ; scanning electron microscope ; UV-Vis spectroscopy ; silicon solar cell

8/9
Nr opisu: 0000072945   
Sol-gel and ALD antireflaction coatings or silicon solar cells.
[Aut.]: Leszek** Dobrzański, Marek Szindler.
-Elektronika 2012 R. 53 nr 8, s. 125-127, bibliogr. 10 poz.. Punktacja MNiSW 6.000

zol-żel ; warstwa antyrefleksyjna ; ogniwo słoneczne ; atomowe osadzanie warstw

sol-gel ; antireflective coating ; solar cell ; atomic layer deposition

9/9
Nr opisu: 0000065604   
Badanie właściwości cienkich warstw antyrefleksyjnych z dwutlenku tytanu w strukturze ogniwa fotowoltaicznego.
[Aut.]: Krzysztof Waczyński, Wojciech Filipowski, K. Drabczyk.
-Elektronika 2011 R. 52 nr 4, s. 77-79, bibliogr. 4 poz.. Punktacja MNiSW 6.000

warstwa antyrefleksyjna ; dwutlenek tytanu ; ogniwo fotowoltaiczne

antireflection layer ; titanium dioxide ; photovoltaic cell

stosując format:
Nowe wyszukiwanie