Wynik wyszukiwania
Zapytanie: NAKŁADANIE L-CVD
Liczba odnalezionych rekordów: 1



Przejście do opcji zmiany formatu | Wyświetlenie wyników w wersji do druku | Pobranie pliku do edytora | Przesłanie wyników do modułu analizy | excel | Nowe wyszukiwanie
1/1
Nr opisu: 0000025450   
Comparative photoemission study of the electronic properties of L-CVD SnO2 thin films.
[Aut.]: Monika Kwoka, L. Ottaviano, M. Passacantando, G. Czempik, S. Santucci, Jacek Szuber.
-Appl. Surf. Sci. 2006 vol. 252 iss. 21, s. 7734-7738, bibliogr. 23 poz.
Zawiera materiały z: Fourth International Workshop on Semiconductor Surface Passivation. SSP'05, Ustroń, Poland, 10-13 September 2005. Impact Factor 1.436

dwutlenek cyny ; powłoka cienka ; nakładanie L-CVD ; właściwości elektroniczne warstwy ładunku przestrzennego ; poziom Fermiego ; elektroniczne pasmo wzbronione

tin dioxide ; thin film ; L-CVD deposition ; electronic properties of space charge layer ; Fermi level ; electronic band gap

stosując format:
Nowe wyszukiwanie