Wynik wyszukiwania
Zapytanie: LITOGRAFIA
Liczba odnalezionych rekordów: 5



Przejście do opcji zmiany formatu | Wyświetlenie wyników w wersji do druku | Pobranie pliku do edytora | Przesłanie wyników do modułu analizy | excel | Nowe wyszukiwanie
1/5
Nr opisu: 0000131240
Litografia, stratygrafia i geochemia osadów eemsko-vistuliańskich z Gorzowa Wielkopolskiego.
[Aut.]: R. K. Borówka, J. Badura, K. Stefaniak, A. Kotowski, R. Stachowicz-Rybka, J. Tomkowiak, A. Sobczyk, K. Stachowicz, B. Bieniek, J. Sławińska, A. Hrynowiecka, M. Niska, B. Przybylski, U. Ratajczak, M. Krąpiec, Piotr Moska.
W: XXVI Konferencja Stratygrafia Plejstocenu Polski. Plejstocen i paleolit przedpola Sudetów, Pokrzywna, 2-6 września 2019 r.. Red. Zdzisław Jary. Wrocław : Instytut Geografii i Rozwoju Regionalnego Uniwersytetu Wrocławskiego, 2019, s. 10-13, bibliogr. 3 poz.. Punktacja MNiSW 20.000

osady eemsko-vistuliańskie ; litografia ; stratygrafia ; geochemia ; Równina Gorzowska

eem-vistulian settlements ; lithography ; stratigraphy ; geochemistry ; Gorzów Plain

2/5
Nr opisu: 0000130896   
Varying steps in hysteresis loops of Co square nano-frames.
[Aut.]: Tomasz Błachowicz, Dorota Kosmalska, Ch. Dopke, H. Leiste, L. Hahn, A. Ehrmann.
-J. Magn. Magn. Mater. 2019 vol. 491, art. no. 165619 s. 1-5, bibliogr. 31 poz.. Impact Factor 2.683. Punktacja MNiSW 100.000

nanostruktura magnetyczna ; magnetooptyczny efekt Kerra ; MOKE ; symulacja mikromagnetyczna ; przemagnesowanie ; kobalt ; litografia

magnetic nanostructure ; magneto-optical Kerr effect ; MOKE ; micromagnetic simulation ; magnetization reversal ; cobalt ; lithography

3/5
Nr opisu: 0000129449   
Interaction between magnetic nanoparticles in clusters.
[Aut.]: A. Ehrmann, Tomasz Błachowicz.
-AIMS Mater. Sci. 2017 vol. 4 iss. 2, s. 383-390, bibliogr. 29 poz.. Punktacja MNiSW 15.000

symulacja mikromagnetyczna ; nanocząstka magnetyczna ; klaster nanocząstek ; OOMMF ; stabilny stan pośredni ; litografia

micromagnetic simulation ; magnetic nanoparticle ; nanoparticle cluster ; OOMMF ; stable intermediate state ; lithography

4/5
Nr opisu: 0000105963   
Pseudo exchange bias due to rotational anisotropy.
[Aut.]: A. Ehrmann, S. Komraus, Tomasz Błachowicz, Krzysztof* Domino, M. K. Nees, P. J. Jakobs, M. Mathes, M. Schaarschmidt.
-J. Magn. Magn. Mater. 2016 vol. 412, s. 7-10, bibliogr. 22 poz.. Impact Factor 2.630. Punktacja MNiSW 30.000

regulacja bias ; nanostruktura ; symulacja ; przemagnesowanie ; element strukturyzowany ; MOKE ; litografia ; anizotropia rotacyjna

exchange bias ; nanostructure ; simulation ; magnetization reversal ; patterned structure ; MOKE ; lithography ; rotational anisotropy

5/5
Nr opisu: 0000078333   
Obróbka powierzchni materiałów inżynierskich.
[Aut.]: Leszek** Dobrzański, Anna* Dobrzańska-Danikiewicz.
Gliwice : International OCSCO World Press, 2011, 480 s., bibliogr. 1003 poz.
(Open Access Library ; vol. 5 (2011) 2083-5191)

materiałoznawstwo ; inżynieria powierzchni ; warstwa powierzchniowa ; powłoka ; obróbka termochemiczna ; fizyczne osadzanie z fazy gazowej ; PVD ; nakładanie powłok ; laserowa obróbka powierzchni ; metalurgia proszków ; warstwa ceramiczna ; litografia ; nanolitografia ; materiały fotowoltaiczne ; implant ; biomateriały ; materiał dentystyczny ; powłoka polimerowa ; zużycie tribologiczne ; korozja ; e-foresight ; e-transfer

materials science ; surface engineering ; surface layer ; coating ; thermochemical treatment ; physical vapour deposition ; PVD ; coatings deposition ; laser surface treatment ; powder metallurgy ; ceramic layer ; lithography ; nanolithography ; photovoltaic materials ; implant ; biomaterials ; dental material ; polymer coating ; tribological wear ; corrosion ; e-foresight ; e-transfer

stosując format:
Nowe wyszukiwanie