Wynik wyszukiwania
Zapytanie: DITLENEK KRZEMU
Liczba odnalezionych rekordów: 6



Przejście do opcji zmiany formatu | Wyświetlenie wyników w wersji do druku | Pobranie pliku do edytora | Przesłanie wyników do modułu analizy | excel | Nowe wyszukiwanie
1/6
Nr opisu: 0000129388   
Analysis of the morphology, structure and optical properties of SiO2 nanowires obtained by the electrospinning method.
[Aut.]: Wiktor Matysiak, Tomasz Tański.
W: 1st International Conference on Materials, Mimicking, Manufacturing from and for Bio Application. (BioM&M), Milan, Italy, 27-29 June 2018. Ed. by: Laura Vergani, Mario Guagliano. Amsterdam : Elsevier, 2019, s. 382-388, bibliogr. 24 poz. (Materials Today: Proceedings ; vol. 7, pt. 1 2214-7853)

elektroprzędzenie ; nanowłókno ; właściwości optyczne ; ditlenek krzemu

electrospinning ; nanowires ; optical properties ; silica

2/6
Nr opisu: 0000130054
Warstwy dielektryczne wytwarzane metodą zol-żel i techniką dip-coating do zastosowań w optoelektronice.
[Aut.]: Paweł Karasiński.
W: XVIII Krajowa Konferencja Elektroniki, Darłówko Wschodnie, 02-06.06.2019. Program konferencji. [Dokument elektroniczny]. [B.m.] : [b.w.], 2019, pamięć USB (PenDrive) s. 285-290, bibliogr. 13 poz.

zol-żel ; warstwa dielektryczna ; optyka zintegrowana ; światłowód planarny ; czujnik światłowodowy ; spektroskopia pola zanikającego ; ditlenek krzemu ; ditlenek tytanu ; pokrycie antyrefleksyjne ; zwierciadło dielektryczne

sol-gel ; dielectric layer ; integrated optics ; planar waveguide ; evanescent field spectroscopy ; silicon dioxide ; titanium dioxide ; antireflective coating ; dielectric mirror

3/6
Nr opisu: 0000122972
Effect of thin SiO2 layers deposited by means of atomic layer deposition method on the mechanical and physical properties of stainless steel.
[Aut.]: Marcin Basiaga, Witold Walke, Magdalena Antonowicz, Agata Sambok-Kiełbowicz, Damian Nakonieczny, M. Gawlikowski, B. Zawidlak-Węgrzyńska, C. Krawczyk.
-Materialwissensch. Werkstofftech. 2018 vol. 49 iss. 5, s. 562-567, bibliogr. 22 poz.. Impact Factor 0.556. Punktacja MNiSW 15.000

316 LVM ; ditlenek krzemu ; osadzanie warstw atomowych ; właściwości mechaniczne ; właściwości fizyczne

316 LVM ; silicon dioxide ; atomic layer deposition ; mechanical properties ; physical properties

4/6
Nr opisu: 0000125133   
Struktury antyrefleksyjne wytwarzane metodą zol-żel na podłożach krzemowych.
[Aut.]: Marcin Skolik, E. Gondek, Paweł Karasiński.
W: XXI Kryształy Molekularne 2018, Łódź-Kolumna, 03-07.09.2018. Red. Hanna Makowska, Jarosław Jung, Wojciech Pisula. Łódź : Wydaw. Politechniki Łódzkiej, 2018, s. 110-111, bibliogr. 4 poz.

fotoogniwo krzemowe ; struktura antyrefleksyjna ; zol-żel ; ditlenek krzemu ; ditlenek tytanu

silicon photovoltaic cell ; antireflective structure ; sol-gel ; silica ; titania

5/6
Nr opisu: 0000116919
Jedno- i dwuwarstwowe struktury antyrefleksyjne wytwarzane metodą zol-żel do zastosowań w fotoogniwach krzemowych.
[Aut.]: Marcin Skolik, Paweł Karasiński.
W: Szesnasta Krajowa Konferencja Elektroniki, Darłowo, 05-09.06.2017. Materiały konferencji. [Dokument elektroniczny]. [B.m.] : [b.w.], 2017, pamięć USB (PenDrive) s. 158-163, bibliogr. 13 poz.

struktura antyrefleksyjna ; fotoogniwo krzemowe ; zol-żel ; ditlenek krzemu ; ditlenek tytanu ; dip-coating ; formalizm macierzy 2x2

antireflective structure ; silicon photovoltaic cell ; sol-gel ; silicon dioxide ; titanium dioxide ; dip coating

6/6
Nr opisu: 0000117801   
Jedno- i dwuwarstwowe struktury antyrefleksyjne wytwarzane metodą zol-żel do zastosowań w fotoogniwach krzemowych.
[Aut.]: Marcin Skolik, Paweł Karasiński.
-Prz. Elektrot. 2017 R. 93 nr 8, s. 73-76, bibliogr. 13 poz.. Punktacja MNiSW 14.000

struktura antyrefleksyjna ; fotoogniwo krzemowe ; zol-żel ; ditlenek krzemu ; ditlenek tytanu ; dip-coating ; formalizm macierzy 2x2

antireflective structure ; silica photovoltaic cell ; sol-gel ; silica ; titania ; dip-coating ; matrix formalism 2x2

stosując format:
Nowe wyszukiwanie