Wynik wyszukiwania
Zapytanie: DITLENEK KRZEMU
Liczba odnalezionych rekordów: 4



Przejście do opcji zmiany formatu | Wyświetlenie wyników w wersji do druku | Pobranie pliku do edytora | Przesłanie wyników do modułu analizy | excel | Nowe wyszukiwanie
1/4
Nr opisu: 0000122972
Effect of thin SiO2 layers deposited by means of atomic layer deposition method on the mechanical and physical properties of stainless steel.
[Aut.]: Marcin Basiaga, Witold Walke, Magdalena Antonowicz, Agata Sambok-Kiełbowicz, Damian Nakonieczny, M. Gawlikowski, B. Zawidlak-Węgrzyńska, C. Krawczyk.
-Materialwissensch. Werkstofftech. 2018 vol. 49 iss. 5, s. 562-567, bibliogr. 22 poz.. Impact Factor 0.625. Punktacja MNiSW 15.000

316 LVM ; ditlenek krzemu ; osadzanie warstw atomowych ; właściwości mechaniczne ; właściwości fizyczne

316 LVM ; silicon dioxide ; atomic layer deposition ; mechanical properties ; physical properties

2/4
Nr opisu: 0000125133   
Struktury antyrefleksyjne wytwarzane metodą zol-żel na podłożach krzemowych.
[Aut.]: Marcin Skolik, E. Gondek, Paweł Karasiński.
W: XXI Kryształy Molekularne 2018, Łódź-Kolumna, 03-07.09.2018. Red. Hanna Makowska, Jarosław Jung, Wojciech Pisula. Łódź : Wydaw. Politechniki Łódzkiej, 2018, s. 110-111, bibliogr. 4 poz.

fotoogniwo krzemowe ; struktura antyrefleksyjna ; zol-żel ; ditlenek krzemu ; ditlenek tytanu

silicon photovoltaic cell ; antireflective structure ; sol-gel ; silica ; titania

3/4
Nr opisu: 0000116919
Jedno- i dwuwarstwowe struktury antyrefleksyjne wytwarzane metodą zol-żel do zastosowań w fotoogniwach krzemowych.
[Aut.]: Marcin Skolik, Paweł Karasiński.
W: Szesnasta Krajowa Konferencja Elektroniki, Darłowo, 05-09.06.2017. Materiały konferencji. [Dokument elektroniczny]. [B.m.] : [b.w.], 2017, pamięć USB (PenDrive) s. 158-163, bibliogr. 13 poz.

struktura antyrefleksyjna ; fotoogniwo krzemowe ; zol-żel ; ditlenek krzemu ; ditlenek tytanu ; dip-coating ; formalizm macierzy 2x2

antireflective structure ; silicon photovoltaic cell ; sol-gel ; silicon dioxide ; titanium dioxide ; dip coating

4/4
Nr opisu: 0000117801   
Jedno- i dwuwarstwowe struktury antyrefleksyjne wytwarzane metodą zol-żel do zastosowań w fotoogniwach krzemowych.
[Aut.]: Marcin Skolik, Paweł Karasiński.
-Prz. Elektrot. 2017 R. 93 nr 8, s. 73-76, bibliogr. 13 poz.. Punktacja MNiSW 14.000

struktura antyrefleksyjna ; fotoogniwo krzemowe ; zol-żel ; ditlenek krzemu ; ditlenek tytanu ; dip-coating ; formalizm macierzy 2x2

antireflective structure ; silica photovoltaic cell ; sol-gel ; silica ; titania ; dip-coating ; matrix formalism 2x2

stosując format:
Nowe wyszukiwanie