Wynik wyszukiwania
Zapytanie: TWR
Liczba odnalezionych rekordów: 6



Przejście do opcji zmiany formatu | Wyświetlenie wyników w wersji do druku | Pobranie pliku do edytora | Przesłanie wyników do modułu analizy | excel | Nowe wyszukiwanie
1/6
Nr opisu: 0000118479   
Relationship between resistance, TCR and stabilization temperature of amorphous Ni-P alloy.
[Aut.]: Wojciech Filipowski, Zbigniew** Pruszowski, Krzysztof Waczyński, Piotr Kowalik, J. Kulawik.
-Microelectron. Int. 2017 vol. 34 iss. 3, s. 154-159, bibliogr. 20 poz.. Impact Factor 0.608. Punktacja MNiSW 20.000

TWR ; metalizacja chemiczna ; stop Ni-P ; warstwa rezystywna ; stabilizacja termiczna ; zależności matematyczne

TCR ; chemical metallization ; Ni-P alloy ; resistive layer ; thermal stabilization ; mathematical relationships

2/6
Nr opisu: 0000093172   
Changes in TCR of amorphous Ni-P resistive films as a function of thermal stabilization parameters.
[Aut.]: Piotr Kowalik, Zbigniew** Pruszowski, J. Kulawik, A. Czerwiński, M. Pluska.
-Microelectron. Int. 2014 vol. 31 iss. 3, s. 149-153, bibliogr. 14 poz.. Impact Factor 0.659. Punktacja MNiSW 20.000

TWR ; struktura amorficzna ; warstwa rezystywna ; stabilizacja termiczna

TCR ; amorphous structure ; resistive layer ; thermal stabilization

3/6
Nr opisu: 0000093513   
Wpływ podstawowych parametrów wytwarzania stopów Ni-Co-P oraz Co-P na rezystancję i temperaturowy współczynnik rezystancji.
[Aut.]: Piotr Kowalik, Zbigniew** Pruszowski, Wojciech Filipowski.
-Elektronika 2014 R. 55 nr 9, s. 64-66, bibliogr. 9 poz.. Punktacja MNiSW 8.000

Ni-Co-P ; rezystor ; metalizacja chemiczna ; TWR ; Co-P

Ni-Co-P ; resistor ; chemical metallization ; TCR ; Co-P

4/6
Nr opisu: 0000093747
Wpływ podstawowych parametrów wytwarzania stopów Ni-Co-P oraz Co-P na rezystancję i temperaturowy współczynnik rezystancji.
[Aut.]: Piotr Kowalik, Zbigniew** Pruszowski, Wojciech Filipowski.
W: Trzynasta Krajowa Konferencja Elektroniki, [Darłowo, 09-13.06.2014]. Materiały konferencji. [Gdańsk] : [Polskie Towarzystwo Elektrotechniki Teoretycznej i Stosowanej. Oddział Gdańsk], 2014, s. 20 + tekst na CD-ROM
Pełny tekst na CD-ROM

Ni-Co-P ; rezystor ; metalizacja chemiczna ; TWR ; Co-P

Ni-Co-P ; resistor ; chemical metallization ; TWR ; Co-P

5/6
Nr opisu: 0000067056   
Wpływ podstawowych parametrów procesu technologicznego wytwarzania stopu rezystywnego Ni-P na rezystancję i TWR warstwy rezystywnej osadzonej na podłożu glinokrzemianowym.
[Aut.]: Zbigniew** Pruszowski, Piotr Kowalik, Wojciech Filipowski.
-Prz. Elektrot. 2011 R. 87 nr 7, s. 136-139, bibliogr. 9 poz.. Impact Factor 0.244. Punktacja MNiSW 15.000

warstwa rezystywna ; TWR ; model matematyczny

resistive layer ; TCR ; mathematical model

6/6
Nr opisu: 0000057270   
Wytwarzanie stabilnych warstw rezystywnych metodą bezprądowej metalizacji.
[Aut.]: Zbigniew** Pruszowski, Piotr Kowalik.
-Prz. Elektrot. 2010 R. 86 nr 6, s. 276-278, bibliogr. 13 poz.. Impact Factor 0.242

TWR ; metalizacja chemiczna ; warstwa rezystywna ; trwałość elektryczna

TCR ; chemical metallization ; resistive layer ; electrical durability

stosując format:
Nowe wyszukiwanie