Wynik wyszukiwania
Zapytanie: NI-P
Liczba odnalezionych rekordów: 8



Przejście do opcji zmiany formatu | Wyświetlenie wyników w wersji do druku | Pobranie pliku do edytora | Przesłanie wyników do modułu analizy | excel | Nowe wyszukiwanie
1/8
Nr opisu: 0000123059   
Mathematical model of the process of creating film resistors with a Ni-P resistive layer.
[Aut.]: Piotr Kowalik, Zbigniew** Pruszowski.
W: Proceedings of the 21st European Microelectronics Packaging Conference (EMPC 2017). Eds. Andrzej Dziedzic, Piotr Jasiński. Piscataway : Institute of Electrical and Electronics Engineers, 2017, s. 1-5, bibliogr. 13 poz.

Ni-P ; warstwa rezystywna ; model matematyczny

Ni-P ; resistive layer ; mathematical model

2/8
Nr opisu: 0000112313
Zastosowanie warstw opartych na stopie Ni-P w technologii rezystorów warstwowych i fotowoltaice.
[Aut.]: Piotr Kowalik.
Gliwice : Wydaw. Politechniki Śląskiej, 2017, 143 s., bibliogr.
(Monografia ; [Politechnika Śląska] nr 635). Punktacja MNiSW 80.000

warstwa rezystywna ; Ni-P ; metalizacja chemiczna ; rezystor precyzyjny

resistive layer ; Ni-P ; chemical metallization ; precision resistor

3/8
Nr opisu: 0000100166
Resistive Ni-W-P layers obtained by chemical metallization method.
[Aut.]: Piotr Kowalik, Zbigniew** Pruszowski.
W: Czternasta Krajowa Konferencja Elektroniki, [Darłowo, 08-12.06.2015]. Materiały konferencji. [Dokument elektroniczny]. [B.m.] : [b.w.], 2015, pamięć USB (PenDrive) s. 36-39, bibliogr. 7 poz.

warstwa rezystywna ; Ni-P ; Ni-W-P ; metalizacja chemiczna ; rezystor precyzyjny

resistive layer ; Ni-P ; Ni-W-P ; chemical metallization ; precision resistor

4/8
Nr opisu: 0000101650   
Resistive Ni-W-P layers obtained by chemical metallization method.
[Aut.]: Piotr Kowalik, Zbigniew** Pruszowski.
-Prz. Elektrot. 2015 R. 91 nr 9, s. 105-106, bibliogr. 7 poz.. Punktacja MNiSW 14.000

warstwa rezystywna ; Ni-P ; Ni-W-P ; rezystor precyzyjny ; metalizacja chemiczna

resistive layer ; Ni-P ; Ni-W-P ; precision resistor ; chemical metallization

5/8
Nr opisu: 0000073884   
Influence of kinetics parameter of electroless nickel plating in order to optimalisation electrical parameters of Ni-P resistive layers.
[Aut.]: Zbigniew** Pruszowski, Piotr Kowalik.
-Elektronika 2012 R. 53 nr 9, s. 77-79, bibliogr. 14 poz.. Punktacja MNiSW 6.000

warstwa rezystywna ; metalizacja chemiczna ; rezystor precyzyjny ; Ni-P

resistive layer ; chemical metallization ; precision resistor ; Ni-P

6/8
Nr opisu: 0000082687
Influence of kinetics parameter of electroless nickel plating in order to optimalisation electrical parameters of Ni-P resistive layers.
[Aut.]: Zbigniew** Pruszowski, Piotr Kowalik.
W: Jedenasta Krajowa Konferencja Elektroniki, [Darłówko Wschodnie, 11-14.06.2012]. Materiały konferencji. [Gdańsk] : [Polskie Towarzystwo Elektrotechniki Teoretycznej i Stosowanej. Oddział Gdańsk], 2012, s. 41
Pełny tekst na CD-ROM

warstwa rezystywna ; metalizacja chemiczna ; rezystor precyzyjny ; Ni-P

resistive layer ; chemical metallization ; precision resistor ; Ni-P

7/8
Nr opisu: 0000082619
One-stage substrate activation using in resistive layer formation.
[Aut.]: Piotr Kowalik, Zbigniew** Pruszowski, D. Rymaszewska.
W: Dziewiąta Krajowa Konferencja Elektroniki, [Darłówko Wschodnie, 30.05-02.06.2010]. Materiały konferencji. [Gdańsk] : [Polskie Towarzystwo Elektrotechniki Teoretycznej i Stosowanej. Oddział Gdańsk], 2010, s. 21
Pełny tekst na CD-ROM

Ni-P ; warstwa rezystywna ; redukcja chemiczna

Ni-P ; resistive layer ; chemical reduction

8/8
Nr opisu: 0000082618
Wpływ intensyfikacji procesu metalizacji bezprądowej na podstawowe parametry elektryczne rezystywnego stopu Ni-P.
[Aut.]: Piotr Kowalik, Zbigniew** Pruszowski.
W: Dziewiąta Krajowa Konferencja Elektroniki, [Darłówko Wschodnie, 30.05-02.06.2010]. Materiały konferencji. [Gdańsk] : [Polskie Towarzystwo Elektrotechniki Teoretycznej i Stosowanej. Oddział Gdańsk], 2010, s. 20
Pełny tekst na CD-ROM

Ni-P ; warstwa rezystywna ; metalizacja chemiczna

Ni-P ; resistive layer ; chemical metallization

stosując format:
Nowe wyszukiwanie