Wynik wyszukiwania
Zapytanie: BIAS POTENTIAL
Liczba odnalezionych rekordów: 1



Przejście do opcji zmiany formatu | Wyświetlenie wyników w wersji do druku | Pobranie pliku do edytora | Przesłanie wyników do modułu analizy | excel | Nowe wyszukiwanie
1/1
Nr opisu: 0000014556   
Structure and properties of the Ti+Ti(C,N) coatings obtained in the PVD process on sintered high speed steel.
[Aut.]: Leszek** Dobrzański, Waldemar Kwaśny, Zbigniew Brytan, R. Shishkov, Boris* Tomov.
-J. Mater. Process. Technol. 2004 vol. 157/158, s. 312-316, bibliogr. 9 poz.. Impact Factor 0.578

rozpylanie magnetronowe ; powłoka PVD

magnetron sputtering ; PVD coating ; bias potential

stosując format:
Nowe wyszukiwanie