Wynik wyszukiwania
Zapytanie: ATOMIC LAYER DEPOSITION
Liczba odnalezionych rekordów: 27



Przejście do opcji zmiany formatu | Wyświetlenie wyników w wersji do druku | Pobranie pliku do edytora | Przesłanie wyników do modułu analizy | excel | Nowe wyszukiwanie
1/27
Nr opisu: 0000131365
Atomic layer deposition of TiO2 blocking layers for dye-sensitized solar cells.
[Aut.]: Aleksandra Drygała, Marek Szindler, Magdalena Szindler, Ewa Jonda.
W: 13th Conference "Electron Technology" ELTE. 43rd International Microelectronics and Packaging IMAPS Poland Conference, 4-6 September 2019, Wrocław, Poland. Technical digest. [Dokument elektroniczny]. Eds. Rafał Walczak, Karol Malecha. Kraków : International Microelectronics and Packaging Society Poland Chapter, 2019, pamięć USB (PenDrive) s. 164-165

barwnikowe ogniwo słoneczne ; osadzanie warstw atomowych ; dwutlenek tytanu ; warstwa zaporowa

dye sensitized solar cell ; atomic layer deposition ; titanium dioxide ; blocking layer

2/27
Nr opisu: 0000131786
Nanometryczne warstwy tlenku cynku wytwarzane metodami próżniowymi.
[Aut.]: Paulina Boryło, Krzysztof Lukaszkowicz.
-Elektronika 2019 R. 60 nr 9, s. 6-10, bibliogr. 8 poz.. Punktacja MNiSW 5.000

transparentne tlenki przewodzące ; tlenek cynku ; osadzanie warstw atomowych ; ALD ; rozpylanie magnetronowe ; PVD

transparent conductive oxide ; zinc oxide ; atomic layer deposition ; ALD ; magnetron sputtering ; PVD

3/27
Nr opisu: 0000130050
Nanometryczne warstwy tlenku cynku wytwarzane metodami próżniowymi.
[Aut.]: Paulina Boryło, Krzysztof Lukaszkowicz.
W: XVIII Krajowa Konferencja Elektroniki, Darłówko Wschodnie, 02-06.06.2019. Program konferencji. [Dokument elektroniczny]. [B.m.] : [b.w.], 2019, pamięć USB (PenDrive) s. 188-193, bibliogr. 9 poz.

transparentne tlenki przewodzące ; tlenek cynku ; osadzanie warstw atomowych ; ALD ; rozpylanie magnetronowe ; PVD

transparent conductive oxide ; zinc oxide ; atomic layer deposition ; ALD ; magnetron sputtering

4/27
Nr opisu: 0000131377
Optical Al2O3 thin film for applications in silicon solar cells.
[Aut.]: Marek Szindler, Magdalena Szindler, Aleksandra Drygała, Paulina Boryło.
W: 13th Conference "Electron Technology" ELTE. 43rd International Microelectronics and Packaging IMAPS Poland Conference, 4-6 September 2019, Wrocław, Poland. Technical digest. [Dokument elektroniczny]. Eds. Rafał Walczak, Karol Malecha. Kraków : International Microelectronics and Packaging Society Poland Chapter, 2019, pamięć USB (PenDrive) s. 194-195, bibliogr. 2 poz.

krzemowe ogniwa słoneczne ; osadzanie warstw atomowych ; tritlenek aluminium

silicon solar cell ; atomic layer deposition ; aluminium trioxide

5/27
Nr opisu: 0000128364   
Preparation and characterization of microsphere ZnO ALD coating dedicated for the fiber-optic refractive index sensor.
[Aut.]: P. Listewnik, M. Hirsch, Przemysław Struk, M. Weber, M. Bechelany, M. Jędrzejewska-Szczerska.
-Nanomaterials 2019 vol. 9 iss. 2, art. no. 306 s. 1-11, bibliogr. 48 poz.. Impact Factor 4.034. Punktacja MNiSW 70.000

ZnO ; osadzanie warstw atomowych ; powłoka ; mikrosfera ; czujnik światłowodowy ; współczynnik załamania

ZnO ; atomic layer deposition ; coating ; microsphere ; fiber-optic sensor ; refractive index

6/27
Nr opisu: 0000131507   
ZnO coated fiber optic microsphere sensor for the enhanced refractive index sensing.
[Aut.]: M. Hirsch, P. Listewnik, Przemysław Struk, M. Weber, M. Bechelany, M. Szczerska.
-Sens. Actuators, A Phys. 2019 vol. 298, art. no. 111594 s. 1-8, bibliogr. 58 poz.. Impact Factor 2.739. Punktacja MNiSW 100.000

ZnO ; osadzanie warstw atomowych ; powłoka ; mikrosfera ; sensor ; współczynnik załamania ; światłowód

ZnO ; atomic layer deposition ; coating ; microsphere ; sensor ; refractive index ; fiber-optic

7/27
Nr opisu: 0000122968
Analysis of the corrosion protective ability of atomic layer deposition silica-based coatings deposited on 316LVM steel.
[Aut.]: Marcin Basiaga, Witold Walke, Wojciech Kajzer, Agnieszka* Hyla, Alina Domanowska, Anna Michalewicz, C. Krawczyk.
-Materialwissensch. Werkstofftech. 2018 vol. 49 iss. 5, s. 551-561, bibliogr. 53 poz.. Impact Factor 0.556. Punktacja MNiSW 15.000

316 LVM ; SiO2 ; osadzanie warstw atomowych ; spektroskopia elektronów Augera ; skaningowy mikroskop elektronowy ; test potencjodynamiczny ; wykres impedancji elektrochemicznej

316 LVM ; SiO2 ; atomic layer deposition ; Auger electron spectroscopy ; scanning electron microscopy ; potentiodynamic test ; electrochemical impedance plot

8/27
Nr opisu: 0000122972
Effect of thin SiO2 layers deposited by means of atomic layer deposition method on the mechanical and physical properties of stainless steel.
[Aut.]: Marcin Basiaga, Witold Walke, Magdalena Antonowicz, Agata Sambok-Kiełbowicz, Damian Nakonieczny, M. Gawlikowski, B. Zawidlak-Węgrzyńska, C. Krawczyk.
-Materialwissensch. Werkstofftech. 2018 vol. 49 iss. 5, s. 562-567, bibliogr. 22 poz.. Impact Factor 0.556. Punktacja MNiSW 15.000

316 LVM ; ditlenek krzemu ; osadzanie warstw atomowych ; właściwości mechaniczne ; właściwości fizyczne

316 LVM ; silicon dioxide ; atomic layer deposition ; mechanical properties ; physical properties

9/27
Nr opisu: 0000126830   
Metallic skeletons as reinforcement of new composite materials applied in orthopaedics and dentistry.
[Aut.]: L. A. Dobrzański, A. Dobrzańska-Danikiewicz, Z. Czuba, L. B. Dobrzański, A. Achtelik-Franczak, P. Malara, Marek Szindler, L. Kroll.
-Arch. Mater. Sci. Eng. 2018 vol. 92 nr 2, s. 53-85, bibliogr. 90 poz.. Punktacja MNiSW 13.000

biologiczny materiał kompozytowy ; implanto-skafold ; rusztowanie ; stop tytanu ; selektywne spiekanie laserowe ; osadzanie warstw atomowych ; medycyna regeneracyjna ; stomatologia regeneracyjna ; hodowla żywych komórek

biological-engineering composite material ; implant-scaffold ; scaffold ; titanium alloy ; selective laser sintering ; atomic layer deposition ; regenerative medicine ; regenerative dentistry ; living cells culture

10/27
Nr opisu: 0000124104
Nanolayers in fiber-optic biosensing.
[Aut.]: M. Jędrzejewska-Szczerska, D. Majchrowicz, M. Hirsch, Przemysław Struk, R. Bogdanowicz, M. Bechelany, V. Tuchin.
W: Nanotechnology and biosensors. Ed. by Dimitrios P. Nikolelis, Georgia-Paraskevi Nikoleli. Amsterdam : Elsevier, 2018, s. 395-426

czujnik światłowodowy ; biosensor ; cienka powłoka ; osadzanie warstw atomowych ; ALD ; nanodiament ; NCD ; nanodiament domieszkowany borem ; B-NCD ; tlenek cynku ; ZnO ; dwutlenek tytanu ; TiO2 ; tlenek glinu ; Al2O3

fiber-optic sensor ; biosensor ; thin film ; atomic layer deposition ; ALD ; nanodiamond ; NCD ; boron-doped nanodiamond ; B-NCD ; zinc oxide ; ZnO ; titanium dioxide ; TiO2 ; aluminium oxide ; Al2O3

11/27
Nr opisu: 0000125675   
Struktura i własności warstw Al2O3 osadzonych metodą ALD na krzemowych ogniwach fotowoltaicznych.
[Aut.]: Marek Szindler, Magdalena Szindler.
-Elektronika 2018 R. 59 nr 9, s. 9-11, bibliogr. 11 poz.. Punktacja MNiSW 8.000

atomowe osadzanie warstw ; warstwa antyrefleksyjna ; krzemowe ogniwo fotowoltaiczne ; własności optyczne ; charakterystyka prądowo-napięciowa

atomic layer deposition ; antireflection coating ; silicon solar cell ; optical properties ; current-voltage characteristic

12/27
Nr opisu: 0000126016
Struktura i własności warstw Al2O3 osadzonych metodą ALD na krzemowych ogniwach fotowoltaicznych.
[Aut.]: Marek Szindler, Magdalena Szindler.
W: XVII Krajowa Konferencja Elektroniki, Darłówko Wschodnie, 03-07.06.2018. Program konferencji. [Dokument elektroniczny]. [B.m.] : [b.w.], 2018, s. 1-6, bibliogr. 11 poz.

atomowe osadzanie warstw ; warstwa antyrefleksyjna ; krzemowe ogniwo fotowoltaiczne ; własności optyczne ; charakterystyka prądowo-napięciowa

atomic layer deposition ; antireflection layer ; silicon solar cell ; optical properties ; current-voltage characteristic

13/27
Nr opisu: 0000125590   
The new generation of the biological-engineering materials for applications in medical and dental implant-scaffolds.
[Aut.]: L. A. Dobrzański, A. Dobrzańska-Danikiewicz, Z. Czuba, L. B. Dobrzański, A. Achtelik-Franczak, P. Malara, Marek Szindler, L. Kroll.
-Arch. Mater. Sci. Eng. 2018 vol. 91 nr 2, s. 56-85, bibliogr. 207 poz.. Punktacja MNiSW 13.000

medycyna regeneracyjna ; inżynieria tkankowa ; inżynieria materiałowa ; inżynieria powierzchni ; implanto-skafold ; selektywne spiekanie laserowe ; stop tytanu ; osadzanie warstw atomowych ; materiał biologiczno-inżynierski ; warstwy płaskie żywych komórek

regenerative medicine ; tissue engineering ; materials engineering ; surface engineering ; implant-scaffold ; selective laser sintering ; titanium alloy ; atomic layer deposition ; biological-engineering material ; flat layers of living cells

14/27
Nr opisu: 0000116920
Cienkie warstwy ALD stosowane w fotowoltaice i optoelektronice.
[Aut.]: Paulina Boryło, Marek Szindler, Krzysztof Lukaszkowicz, Magdalena Szindler.
W: Szesnasta Krajowa Konferencja Elektroniki, Darłowo, 05-09.06.2017. Materiały konferencji. [Dokument elektroniczny]. [B.m.] : [b.w.], 2017, pamięć USB (PenDrive) s. 364-365, bibliogr. 16 poz.

fotowoltaika ; optoelektronika ; warstwa antyrefleksyjna ; transparentna warstwa przewodząca ; osadzanie warstw atomowych

photovoltaics ; optoelectronics ; antireflection layer ; transparent conducting film ; atomic layer deposition

15/27
Nr opisu: 0000118917   
Comparison of surface morphology and structure of Al2O3 thin films deposited by sol-gel and ALD methods.
[Aut.]: Marek Szindler, L. A. Dobrzański, Magdalena Szindler, Mirosława Pawlyta, Tymoteusz* Jung.
-J. Achiev. Mater. Manuf. Eng. 2017 vol. 82 iss. 2, s. 49-57, bibliogr. 31 poz.. Punktacja MNiSW 12.000

zol-żel ; osadzanie warstw atomowych ; tlenek glinu ; powłoka cienka ; powłoka antyrefleksyjna

sol-gel ; atomic layer deposition ; aluminium oxide ; thin film ; antireflection coating

16/27
Nr opisu: 0000122732
Structure and optical properties of TiO2 thin films deposited by ALD method.
[Aut.]: Marek Szindler, Magdalena Szindler, Paulina Boryło, Tymoteusz* Jung.
-Open Phys. 2017 vol 15 iss. 1, s. 1067-1071, bibliogr. 15 poz.. Impact Factor 0.755. Punktacja MNiSW 15.000

fotowoltaika ; krzemowe ogniwo słoneczne ; osadzanie warstw atomowych ; powłoka antyrefleksyjna

photovoltaic ; silicon solar cell ; atomic layer deposition ; antireflection coating

17/27
Nr opisu: 0000105080   
Influence of laser texturization surface and atomic layer deposition on optical properties of polycrystalline silicon.
[Aut.]: Aleksandra Drygała, Leszek** Dobrzański, Marek Szindler, Magdalena Szindler, Marzena* Prokopiuk vel Prokopowicz, Ewa Jonda.
-Int. J. Hydrog. Energy 2016 vol. 41 iss. 18, s. 7563-7567, bibliogr. 30 poz.. Impact Factor 3.582. Punktacja MNiSW 35.000

ogniwo słoneczne ; teksturyzacja laserowa ; atomowe osadzanie warstw

solar cell ; laser texturization ; atomic layer deposition

18/27
Nr opisu: 0000106201   
Mechanical properties of atomic layer deposition (ALD) TiO2 layers on stainless steel substrates.
[Aut.]: Marcin Basiaga, Marcin Staszuk, Witold Walke, Zbigniew Opilski.
-Materialwissensch. Werkstofftech. 2016 vol. 47 iss. 5/6, s. 512-520, bibliogr. 29 poz.. Impact Factor 0.524. Punktacja MNiSW 15.000

316 LVM ; TiO2 ; osadzanie warstw atomowych ; próba zarysowania ; nanotwardość ; elipsometria ; mikroskopia sił atomowych ; AFM

316 LVM ; TiO2 ; atomic layer deposition ; scratch test ; nanohardness ; ellipsometry ; atomic force microscopy ; AFM

19/27
Nr opisu: 0000103491   
Atomic layer deposition of TiO2 onto porous biomaterials.
[Aut.]: Leszek** Dobrzański, Anna* Dobrzańska-Danikiewicz, Marek Szindler, Anna* Achtelik-Franczak, Wojciech Pakieła.
-Arch. Mater. Sci. Eng. 2015 vol. 75 nr 1, s. 5-11, bibliogr. 19 poz. Punktacja MNiSW 13.000

materiał porowaty ; powłoka cienka ; tlenek tytanu ; atomowe osadzanie warstw

porous material ; thin film ; titanium oxide ; atomic layer deposition

20/27
Nr opisu: 0000104739   
Characteristics of ZnO thin films deposited by atomic layer deposition.
[Aut.]: Paulina Boryło, Krzysztof Lukaszkowicz, Marek Szindler, Marcin Basiaga.
-J. Achiev. Mater. Manuf. Eng. 2015 vol. 73 iss. 2, s. 86-91, bibliogr. 16 poz.. Punktacja MNiSW 12.000

tlenek cynku ; atomowe osadzanie warstw ; skaningowa mikroskopia elektronowa ; dyfraktometr rentgenowski ; próba zarysowania

zinc oxide ; atomic layer deposition ; scanning electron microscopy ; X-ray diffractometer ; scratch test

21/27
Nr opisu: 0000104661   
The impact of atomic layer deposition technological parameters on optical properties and morphology of Al2O3 thin films.
[Aut.]: Leszek** Dobrzański, Marek Szindler, Magdalena Szindler, B. Hajduk, S. Kotowicz.
-Opt. Appl. 2015 vol. 45 no. 4, s. 573-583, bibliogr. 12 poz.. Impact Factor 0.637. Punktacja MNiSW 15.000

tlenek glinu ; atomowe osadzanie warstw ; powłoka cienka

aluminium oxide ; atomic layer deposition ; thin film

22/27
Nr opisu: 0000093679   
Metoda atomowego osadzania cienkich warstw optycznych.
[Aut.]: Paulina Boryło, Marek Szindler, Magdalena Szindler.
W: Sesja Okolicznościowa Studenckich Kół Naukowych "SO-KÓŁ'14". Red. Mirosław Bonek. Gliwice : Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych Politechniki Śląskiej, 2014, s. 3-8, bibliogr. 12 poz. (Prace Studenckich Kół Naukowych ; Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych. Politechnika Śląska nr 30)

atomowe osadzanie warstw ; mikroskopia sił atomowych ; elipsometria

atomic layer deposition ; atomic force microscopy ; ellipsometry

23/27
Nr opisu: 0000096019   
Silicon solar cells with Al2O3 antireflection coating.
[Aut.]: Leszek** Dobrzański, Marek Szindler, Aleksandra Drygała, Magdalena Szindler.
-Central Eur. J. Phys. 2014 vol. 12 nr 9, s. 666-670, bibliogr. 18 poz.. Impact Factor 1.085. Punktacja MNiSW 25.000

fotowoltaika ; krzemowe ogniwo słoneczne ; atomowe osadzanie warstw ; powłoka antyrefleksyjna

photovoltaics ; silicon solar cell ; atomic layer deposition ; antireflection coating

24/27
Nr opisu: 0000092800
Struktura i własności nanostrukturalnych warstw antyrefleksyjnych otrzymanych metodą ALD oraz zol-żel na krzemowych ogniwach fotowoltaicznych. Rozprawa doktorska.
[Aut.]: Marek Szindler.
Gliwice, 2014, 100 k., bibliogr. 188 poz. + zał.: 101 k.
Politechnika Śląska. Wydział Mechaniczny Technologiczny. Promotor: prof. zw. dr hab. inż. Leszek** Dobrzański

ogniwo fotowoltaiczne ; warstwa antyrefleksyjna ; atomowe osadzanie warstw ; zol-żel

photovoltaic cell ; antireflective coating ; atomic layer deposition ; sol-gel

25/27
Nr opisu: 0000087576   
Al2O3 antireflection coatings for silicon solar cells.
[Aut.]: Leszek** Dobrzański, Marek Szindler.
-J. Achiev. Mater. Manuf. Eng. 2013 vol. 59 iss. 1, s. 13-19, bibliogr. 18 poz.. Punktacja MNiSW 12.000

warstwa antyrefleksyjna ; krzemowe ogniwo słoneczne ; atomowe osadzanie warstw ; warstwa cienka

antireflective coating ; silicon solar cell ; atomic layer deposition ; thin film

26/27
Nr opisu: 0000091570
Warstwy osadzane techniką ALD.
[Aut.]: Marcin Staszuk, Marcin Adamiak, Andrzej* Hudecki.
W: Ćwiczenia laboratoryjne z inżynierii materiałowej i nanotechnologii. Praca zbiorowa. Pod red. Leszka A. Dobrzańskiego i Tomasza Tańskiego. Gliwice : International OCSCO World Press, 2013, s. 548-551 (Open Access Library ; vol. 10 (28) 2083-5191)

warstwa cienka ; atomowe osadzanie warstw ; ALD ; korozja elektrochemiczna ; odporność na korozję ; ćwiczenia laboratoryjne

thin coating ; atomic layer deposition ; ALD ; electrochemical corrosion ; corrosion resistance ; laboratory exercises

27/27
Nr opisu: 0000072945   
Sol-gel and ALD antireflaction coatings or silicon solar cells.
[Aut.]: Leszek** Dobrzański, Marek Szindler.
-Elektronika 2012 R. 53 nr 8, s. 125-127, bibliogr. 10 poz.. Punktacja MNiSW 6.000

zol-żel ; warstwa antyrefleksyjna ; ogniwo słoneczne ; atomowe osadzanie warstw

sol-gel ; antireflective coating ; solar cell ; atomic layer deposition

stosując format:
Nowe wyszukiwanie