Wynik wyszukiwania
Zapytanie: ATOMIC FORCE MICROSCOPE
Liczba odnalezionych rekordów: 16



Przejście do opcji zmiany formatu | Wyświetlenie wyników w wersji do druku | Pobranie pliku do edytora | Przesłanie wyników do modułu analizy | excel | Nowe wyszukiwanie
1/16
Nr opisu: 0000127424   
Zastosowanie mikroskopu sił atomowych w badaniach powierzchni materiałów stomatoloogicznych.
[Aut.]: W. Bil, Anna Woźniak, Bogusław Ziębowicz.
W: Konferencja Studenckich Kół Naukowych. TalentDetector'2018. Red. Mirosław Bonek. Gliwice : Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych. Wydział Mechaniczny Technologiczny. Politechnika Śląska, 2018, s. 18 (Prace Instytutu Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych ; Wydział Mechaniczny Technologiczny. Politechnika Śląska z. 5)

mikroskop sił atomowych ; badanie powierzchni ; materiał stomatologiczny

atomic force microscope ; surface examination ; dental material

2/16
Nr opisu: 0000106780
Analiza UV-VIS cienkich warstw kompozytowych PVP/SiO2.
[Aut.]: Wiktor Matysiak, S. Zieliński, Tomasz Tański, M. Zaborowska, P. Witek, Ewa Rusek, Artur* Skorupa, M. Latusek.
W: Materiały i technologie XXI wieku. XVIII Międzynarodowa studencka sesja naukowa, Katowice, 19 maja 2016. [Dokument elektroniczny]. Red. Marcin Godzierz, Adam Gryc, Marta Biesaga, Aleksandra Miczek, Konrad Brzyski. Katowice : [b.w.], 2016, pamięć USB (PenDrive) s. 240-245, bibliogr. 17 poz.

cienka warstwa kompozytowa ; morfologia kompozytów ; morfologia powierzchni ; mikroskop sił atomowych ; spektroskopia UV-Vis

thin composite layer ; morphology of composites ; surface morphology ; atomic force microscope ; UV-Vis spectroscopy

3/16
Nr opisu: 0000097326   
Morfologia powierzchni cienkich warstw zol-żel.
[Aut.]: Magdalena Szindler, Marek Szindler.
W: Sesja Okolicznościowa Studenckich Kół Naukowych "SO-KÓŁ'15". Red. Mirosław Bonek. Gliwice : Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych Politechniki Śląskiej, 2015, 63-68, bibliogr. 14 poz. (Prace Studenckich Kół Naukowych ; Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych. Politechnika Śląska nr 35)

metoda zol-żel ; tlenek tytanu ; mikroskop sił atomowych

sol-gel method ; titanium oxide ; atomic force microscope

4/16
Nr opisu: 0000103515   
Surface morphology and optical properties of Al2O3 thin films deposited by ALD method.
[Aut.]: Leszek** Dobrzański, Marek Szindler, Magdalena Szindler.
-Arch. Mater. Sci. Eng. 2015 vol. 73 nr 1, s. 18-24, bibliogr. 26 poz.. Punktacja MNiSW 13.000

powłoka cienka ; tlenek glinu ; mikroskop sił atomowych ; elipsometria spektroskopowa

thin film ; aluminium oxide ; atomic force microscope ; spectroscopic ellipsometry

5/16
Nr opisu: 0000096774   
Sol-gel Al2O3 antireflection coatings for silicon solar cells.
[Aut.]: Leszek** Dobrzański, Marek Szindler, Magdalena Szindler, B. Hajduk.
-Arch. Mater. Sci. Eng. 2014 vol. 67 nr 1, s. 24-31, bibliogr. 25 poz.. Punktacja MNiSW 13.000

powłoka cienka ; tlenek glinu ; mikroskop sił atomowych ; elipsometria spektroskopowa ; spektroskopia UV-Vis

thin film ; aluminium oxide ; atomic force microscope ; spectroscopic ellipsometry ; UV-Vis spectroscopy

6/16
Nr opisu: 0000091265
Badanie z wykorzystaniem mikroskopu z sondą skanującą.
[Aut.]: Paweł Jarka, Marcin Staszuk, Tomasz* Gaweł, Tomasz Tański.
W: Ćwiczenia laboratoryjne z inżynierii materiałowej i nanotechnologii. Praca zbiorowa. Pod red. Leszka A. Dobrzańskiego i Tomasza Tańskiego. Gliwice : International OCSCO World Press, 2013, s. 88-91 (Open Access Library ; vol. 10 (28) 2083-5191)

mikroskopia ze skanującą sondą ; mikroskop sił atomowych ; badanie makroskopowe ; ćwiczenia laboratoryjne

scanning probe microscopy ; atomic force microscope ; microscopic examination ; laboratory exercises

7/16
Nr opisu: 0000090820   
Influence of solvent on the surface morphology and optoelectronic properties of a spin coated polymer thin films.
[Aut.]: Jan** Weszka, Magdalena Szindler, Magdalena* Szczęsna, Marek Szindler.
-J. Achiev. Mater. Manuf. Eng. 2013 vol. 61 iss. 2, s. 302-307, bibliogr. 18 poz.. Punktacja MNiSW 12.000

MEH-PPV ; spin-powłoka ; spektrometr UV/VIS ; mikroskopowa siła atomowa

MEH-PPV ; spin-coating ; spectrometer UV/VIS ; atomic force microscope

8/16
Nr opisu: 0000082869   
Sol gel TiO2 antireflection coatings for silicon solar cells.
[Aut.]: Leszek** Dobrzański, Marek Szindler.
-J. Achiev. Mater. Manuf. Eng. 2012 vol. 52 iss. 1, s. 7-14, bibliogr. 18 poz.. Punktacja MNiSW 8.000

dwutlenek tytanu ; warstwa antyrefleksyjna ; mikroskopowa siła atomowa ; mikroskop elektronowy skaningowy ; spektroskopia UV-Vis

titanium dioxide ; antireflective coating ; atomic force microscope ; scanning electron microscope ; UV-Vis spectroscopy ; silicon solar cell

9/16
Nr opisu: 0000083538
Wykorzystanie mikroskopii sił atomowych w badaniach cienkich warstw.
[Aut.]: Leszek** Dobrzański, Marek Szindler, Dariusz Łukowiec.
W: Proceedings of the Eighteenth International Scientific Conference on Contemporary Achievements in Mechanics, Manufacturing and Materials Science. CAM3S'2012, Gliwice - Ustroń, 27th - 29th February 2012. Ed. by L. A. Dobrzański. Gliwice : International Organising Committee of the Scientific Conferences World Press, 2012, s. 43, bibliogr. 3 poz.

mikroskopia sił atomowych ; warstwa cienka ; morfologia powierzchni

atomic force microscope ; thin film ; surface morphology

10/16
Nr opisu: 0000067005   
Reconstruction of thin films polyazomethine based on microscopic images.
[Aut.]: Jan** Weszka, Marek Szindler, Agata Śliwa, Barbara* Hajduk, J. Jurusik.
-Arch. Mater. Sci. Eng. 2011 vol. 48 nr 1, s. 40-48, bibliogr. 20 poz.. Punktacja MNiSW 9.000

chemiczne osadzanie z fazy gazowej ; mikroskopowa siła atomowa ; mikroskop elektronowy skaningowy ; oprogramowanie WSxM

chemical vapour deposition ; atomic force microscope ; scanning electron microscope ; WSxM software

11/16
Nr opisu: 0000057448   
Badania struktury, morfologii powierzchni oraz właściwości sensorowych cienkich warstw SnO2.
[Aut.]: Weronika Izydorczyk, M. Pisarek, Jerzy** Żak.
-Elektronika 2010 R. 51 nr 6, s. 50-53, bibliogr. 13 poz.

morfologia powierzchni ; dyfraktometria rentgenowska ; mikroskopowa siła atomowa ; mikroskopia AFM ; spektroskopia elektronów Augera ; adsorpcja tlenu

surface morphology ; X-ray diffraction ; atomic force microscope ; AFM microscopy ; Auger electron spectroscopy ; oxygen adsorption

12/16
Nr opisu: 0000069147   
Komputerowa analiza i przetwarzanie obrazów otrzymywanych mikroskopem sił atomowych.
[Aut.]: Marek Szindler, Agata Śliwa.
W: Sesja Okolicznościowa Studenckich Kół Naukowych "SO-KÓŁ'10". Impreza towarzysząca międzynarodowej konferencji naukowej AMME 2010. Red. Bogusław Ziębowicz. Gliwice : International Organising Committee of the Scientific Conferences World Press, 2010, s. 73-82, bibliogr. 6 poz. (Prace Studenckich Kół Naukowych ; Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych. Politechnika Śląska nr 26)

analiza obrazu ; mikroskop sił atomowych ; program WSxM

image analysis ; atomic force microscope ; WSxM program

13/16
Nr opisu: 0000036430   
Wykorzystanie mikroskopii sił atomowych w badaniach nad formowaniem powierzchni krzemowych ogniw słonecznych.
[Aut.]: Krzysztof Waczyński, Wojciech Filipowski, P. Panek, K. Drabczyk, A. Olechowska.
-Elektronika 2008 R. 49 nr 1, s. 83-86, bibliogr. 8 poz.

krzemowe ogniwo słoneczne ; mikroskop sił atomowych ; krzem monokrystaliczny ; krzem multikrystaliczny ; warstwa porowata ; trawienie

silicon solar cell ; atomic force microscope ; monocrystalline silicon ; multicrystalline silicon ; porous layer ; etching

14/16
Nr opisu: 0000022972   
Fractal and multifractal characteristics of CVD coatings deposited onto the nitride tool ceramics.
[Aut.]: Waldemar Kwaśny, Daniel Pakuła, Mariola Woźniak, Leszek** Dobrzański.
-J. Achiev. Mater. Manuf. Eng. 2007 vol. 20 iss. 1/2, s. 371-374, bibliogr. 15 poz.

komputerowa nauka o materiałach ; powłoka CVD ; geometria multifraktalna ; mikroskop sił atomowych ; AFM

computational materials science ; CVD coating ; multifractal geometry ; atomic force microscope ; AFM

15/16
Nr opisu: 0000123726   
On the correlation between morphology and electronic properties of copper phthalocyanine (CuPc) thin films.
[Aut.]: Lucyna Grządziel, Jerzy** Żak, Jacek Szuber.
-Thin Solid Films 2003 vol. 436 iss. 1, s. 70-75, bibliogr. 23 poz.
Referat wygłoszony na: 3rd International Seminar on Semiconductor Gas Sensors. SGS'2002, Ustroń, Poland, 19-22 September 2002. Impact Factor 1.598

ftalocyjanina miedzi ; cienka powłoka ; fotoemisja ; mikroskop sił atomowych

copper phthalocyanine ; thin film ; photoemission ; atomic force microscope

16/16
Nr opisu: 0000011696   
On the correlation between the morphology and the electronic properties of copper phthalocyanine (CuPc) thin films.
[Aut.]: Lucyna Grządziel, Jerzy** Żak, Jacek Szuber.
-Thin Solid Films 2003 vol. 436 iss. 1, s. 70-75, bibliogr. 23 poz.. Impact Factor 1.598

ftalocyjanina miedzi ; warstwa cienka ; fotoemisja ; mikroskop sił atomowych

copper phthalocyanine ; thin film ; photoemission ; atomic force microscope

stosując format:
Nowe wyszukiwanie