Wynik wyszukiwania
Zapytanie: WARSTWA ANTYREFLEKSYJNA
Liczba odnalezionych rekordów: 9



Przej¶cie do opcji zmiany formatu | Wy¶wietlenie wyników w wersji do druku | Pobranie pliku do edytora | Przesłanie wyników do modułu analizy | excel | Nowe wyszukiwanie
1/9
Nr opisu: 0000125675
Tytuł oryginału: Struktura i własno¶ci warstw Al2O3 osadzonych metod± ALD na krzemowych ogniwach fotowoltaicznych
Tytuł w wersji angielskiej: Structure and properties of Al2O3 layers deposited by the ALD method on silicon solar cells
Autorzy: Marek Szindler, Magdalena Szindler.
¬ródło: -Elektronika 2018 R. 59 nr 9, s. 9-11, bibliogr. 11 poz.
Punktacja MNiSW: 8.000
p-ISSN: 0033-2089
e-ISSN: 2449-9528
DOI:
Słowa kluczowe polskie: atomowe osadzanie warstw ; warstwa antyrefleksyjna ; krzemowe ogniwo fotowoltaiczne ; własno¶ci optyczne ; charakterystyka pr±dowo-napięciowa
Słowa kluczowe angielskie: atomic layer deposition ; antireflection coating ; silicon solar cell ; optical properties ; current-voltage characteristic
Typ publikacji: A
Język publikacji: POL
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.
Lokalizacja ¬ródła: P¦l. sygn. P.2411
Dostęp on-line:


2/9
Nr opisu: 0000126016
Tytuł oryginału: Struktura i własno¶ci warstw Al2O3 osadzonych metod± ALD na krzemowych ogniwach fotowoltaicznych.
Autorzy: Marek Szindler, Magdalena Szindler.
¬ródło: W: XVII Krajowa Konferencja Elektroniki, Darłówko Wschodnie, 03-07.06.2018. Program konferencji. [Dokument elektroniczny]. [B.m.] : [b.w.], 2018, s. 1-6, bibliogr. 11 poz.
Organizator: Akademia Morska w Gdyni
Liczba arkuszy wydawniczych: 0,5
Słowa kluczowe polskie: atomowe osadzanie warstw ; warstwa antyrefleksyjna ; krzemowe ogniwo fotowoltaiczne ; własno¶ci optyczne ; charakterystyka pr±dowo-napięciowa
Słowa kluczowe angielskie: atomic layer deposition ; antireflection layer ; silicon solar cell ; optical properties ; current-voltage characteristic
Typ publikacji: RK
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.


3/9
Nr opisu: 0000116920
Tytuł oryginału: Cienkie warstwy ALD stosowane w fotowoltaice i optoelektronice.
Autorzy: Paulina Boryło, Marek Szindler, Krzysztof Lukaszkowicz, Magdalena Szindler.
¬ródło: W: Szesnasta Krajowa Konferencja Elektroniki, Darłowo, 05-09.06.2017. Materiały konferencji. [Dokument elektroniczny]. [B.m.] : [b.w.], 2017, pamięć USB (PenDrive) s. 364-365, bibliogr. 16 poz.
Organizator: Polskie Towarzystwo Elektrotechniki Teoretycznej i Stosowanej - Oddział Gdańsk, Wydział Elektroniki i Informatyki Politechniki Koszalińskiej
Liczba arkuszy wydawniczych: 0,3
Słowa kluczowe polskie: fotowoltaika ; optoelektronika ; warstwa antyrefleksyjna ; transparentna warstwa przewodz±ca ; osadzanie warstw atomowych
Słowa kluczowe angielskie: photovoltaics ; optoelectronics ; antireflection layer ; transparent conducting film ; atomic layer deposition
Typ publikacji: RK
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.


4/9
Nr opisu: 0000092800
Tytuł oryginału: Struktura i własno¶ci nanostrukturalnych warstw antyrefleksyjnych otrzymanych metod± ALD oraz zol-żel na krzemowych ogniwach fotowoltaicznych. Rozprawa doktorska.
Autorzy: Marek Szindler.
Miejsce i rok obrony: Gliwice, 2014
Opis fizyczny: , 100 k., bibliogr. 188 poz. + zał.: 101 k.
Uczelnia i wydział: Politechnika ¦l±ska. Wydział Mechaniczny Technologiczny.
Promotor: prof. zw. dr hab. inż. Leszek** Dobrzański
Słowa kluczowe polskie: ogniwo fotowoltaiczne ; warstwa antyrefleksyjna ; atomowe osadzanie warstw ; zol-żel
Słowa kluczowe angielskie: photovoltaic cell ; antireflective coating ; atomic layer deposition ; sol-gel
Typ publikacji: D
Język publikacji: POL
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.
Lokalizacja ¬ródła: P¦l. sygn. Cz.Ab. R-5083 + CD


5/9
Nr opisu: 0000093676
Tytuł oryginału: Własno¶ci optyczne materiałów fotowoltaicznych.
Autorzy: Marek Szindler, Leszek** Dobrzański, Aleksandra Drygała.
¬ródło: W: Sesja Okoliczno¶ciowa Studenckich Kół Naukowych "SO-KÓŁ'14". Red. Mirosław Bonek. Gliwice : Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych Politechniki ¦l±skiej, 2014, s. 87-92, bibliogr. 9 poz.
ISBN: 978-83-63553-29-6
Seria: (Prace Studenckich Kół Naukowych ; Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych. Politechnika ¦l±ska nr 29)
Liczba arkuszy wydawniczych: 0,30
Słowa kluczowe polskie: materiały optyczne ; warstwa antyrefleksyjna ; spektrofotometria
Słowa kluczowe angielskie: optical materials ; antireflective coating ; spectrophotometry
Typ publikacji: RK
Język publikacji: POL
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.
Informacje o dostępie open-access: open-access-licence: OTHER
Dostęp on-line:


6/9
Nr opisu: 0000087576
Tytuł oryginału: Al2O3 antireflection coatings for silicon solar cells
Autorzy: Leszek** Dobrzański, Marek Szindler.
¬ródło: -J. Achiev. Mater. Manuf. Eng. 2013 vol. 59 iss. 1, s. 13-19, bibliogr. 18 poz.
Punktacja MNiSW: 12.000
p-ISSN: 1734-8412
Słowa kluczowe polskie: warstwa antyrefleksyjna ; krzemowe ogniwo słoneczne ; atomowe osadzanie warstw ; warstwa cienka
Słowa kluczowe angielskie: antireflective coating ; silicon solar cell ; atomic layer deposition ; thin film
Typ publikacji: A
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.
Lokalizacja ¬ródła: P¦l. sygn. P.4671
Informacje o dostępie open-access: open-access-licence: OTHER
Dostęp on-line:


7/9
Nr opisu: 0000082869
Tytuł oryginału: Sol gel TiO2 antireflection coatings for silicon solar cells
Autorzy: Leszek** Dobrzański, Marek Szindler.
¬ródło: -J. Achiev. Mater. Manuf. Eng. 2012 vol. 52 iss. 1, s. 7-14, bibliogr. 18 poz.
Punktacja MNiSW: 8.000
p-ISSN: 1734-8412
Słowa kluczowe polskie: dwutlenek tytanu ; warstwa antyrefleksyjna ; mikroskopowa siła atomowa ; mikroskop elektronowy skaningowy ; spektroskopia UV-Vis
Słowa kluczowe angielskie: titanium dioxide ; antireflective coating ; atomic force microscope ; scanning electron microscope ; UV-Vis spectroscopy ; silicon solar cell
Typ publikacji: A
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.
Lokalizacja ¬ródła: P¦l. sygn. P.4671
Dostęp on-line:


8/9
Nr opisu: 0000072945
Tytuł oryginału: Sol-gel and ALD antireflaction coatings or silicon solar cells
Tytuł w wersji polskiej: Powłoki antyrefleksyjne otrzymywane metodami zol-żel oraz ALD do zastosowań w krzemowych ogniwach słonecznych
Autorzy: Leszek** Dobrzański, Marek Szindler.
¬ródło: -Elektronika 2012 R. 53 nr 8, s. 125-127, bibliogr. 10 poz.
Punktacja MNiSW: 6.000
p-ISSN: 0033-2089
Słowa kluczowe polskie: zol-żel ; warstwa antyrefleksyjna ; ogniwo słoneczne ; atomowe osadzanie warstw
Słowa kluczowe angielskie: sol-gel ; antireflective coating ; solar cell ; atomic layer deposition
Typ publikacji: A
Język publikacji: POL
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.
Lokalizacja ¬ródła: P¦l. sygn. P.2411
Dostęp on-line:


9/9
Nr opisu: 0000065604
Tytuł oryginału: Badanie wła¶ciwo¶ci cienkich warstw antyrefleksyjnych z dwutlenku tytanu w strukturze ogniwa fotowoltaicznego
Autorzy: Krzysztof Waczyński, Wojciech Filipowski, K. Drabczyk.
¬ródło: -Elektronika 2011 R. 52 nr 4, s. 77-79, bibliogr. 4 poz.
Punktacja MNiSW: 6.000
p-ISSN: 0033-2089
Słowa kluczowe polskie: warstwa antyrefleksyjna ; dwutlenek tytanu ; ogniwo fotowoltaiczne
Słowa kluczowe angielskie: antireflection layer ; titanium dioxide ; photovoltaic cell
Typ publikacji: A
Język publikacji: POL
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w P¦l.
Lokalizacja ¬ródła: P¦l. sygn. P.2411
Dostęp on-line:


stosuj±c format:
Nowe wyszukiwanie