Wynik wyszukiwania
Zapytanie: SILICON DIOXIDE
Liczba odnalezionych rekordów: 4



Przejście do opcji zmiany formatu | Wyświetlenie wyników w wersji do druku | Pobranie pliku do edytora | Przesłanie wyników do modułu analizy | excel | Nowe wyszukiwanie
1/4
Nr opisu: 0000130054
Tytuł oryginału: Warstwy dielektryczne wytwarzane metodą zol-żel i techniką dip-coating do zastosowań w optoelektronice.
Autorzy: Paweł Karasiński.
Źródło: W: XVIII Krajowa Konferencja Elektroniki, Darłówko Wschodnie, 02-06.06.2019. Program konferencji. [Dokument elektroniczny]. [B.m.] : [b.w.], 2019, pamięć USB (PenDrive) s. 285-290, bibliogr. 13 poz.
Organizator: Uniwersytet Morski w Gdyni
Słowa kluczowe polskie: zol-żel ; warstwa dielektryczna ; optyka zintegrowana ; światłowód planarny ; czujnik światłowodowy ; spektroskopia pola zanikającego ; ditlenek krzemu ; ditlenek tytanu ; pokrycie antyrefleksyjne ; zwierciadło dielektryczne
Słowa kluczowe angielskie: sol-gel ; dielectric layer ; integrated optics ; planar waveguide ; evanescent field spectroscopy ; silicon dioxide ; titanium dioxide ; antireflective coating ; dielectric mirror
Typ publikacji: RK
Język publikacji: POL
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w PŚl.


2/4
Nr opisu: 0000122972
Tytuł oryginału: Effect of thin SiO2 layers deposited by means of atomic layer deposition method on the mechanical and physical properties of stainless steel
Autorzy: Marcin Basiaga, Witold Walke, Magdalena* Antonowicz, Agata Sambok-Kiełbowicz, Damian Nakonieczny, M. Gawlikowski, B. Zawidlak-Węgrzyńska, C. Krawczyk.
Źródło: -Materialwissensch. Werkstofftech. 2018 vol. 49 iss. 5, s. 562-567, bibliogr. 22 poz.
Impact Factor: 0.556
Punktacja MNiSW: 15.000
p-ISSN: 0933-5137
e-ISSN: 1521-4052
DOI:
Słowa kluczowe polskie: 316 LVM ; ditlenek krzemu ; osadzanie warstw atomowych ; właściwości mechaniczne ; właściwości fizyczne
Słowa kluczowe angielskie: 316 LVM ; silicon dioxide ; atomic layer deposition ; mechanical properties ; physical properties
Typ publikacji: A
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: Z
Afiliacja: praca afiliowana w PŚl.


3/4
Nr opisu: 0000116919
Tytuł oryginału: Jedno- i dwuwarstwowe struktury antyrefleksyjne wytwarzane metodą zol-żel do zastosowań w fotoogniwach krzemowych.
Autorzy: Marcin Skolik, Paweł Karasiński.
Źródło: W: Szesnasta Krajowa Konferencja Elektroniki, Darłowo, 05-09.06.2017. Materiały konferencji. [Dokument elektroniczny]. [B.m.] : [b.w.], 2017, pamięć USB (PenDrive) s. 158-163, bibliogr. 13 poz.
Organizator: Polskie Towarzystwo Elektrotechniki Teoretycznej i Stosowanej - Oddział Gdańsk, Wydział Elektroniki i Informatyki Politechniki Koszalińskiej
Liczba arkuszy wydawniczych: 0,5
Słowa kluczowe polskie: struktura antyrefleksyjna ; fotoogniwo krzemowe ; zol-żel ; ditlenek krzemu ; ditlenek tytanu ; dip-coating ; formalizm macierzy 2x2
Słowa kluczowe angielskie: antireflective structure ; silicon photovoltaic cell ; sol-gel ; silicon dioxide ; titanium dioxide ; dip coating
Typ publikacji: RK
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w PŚl.


4/4
Nr opisu: 0000023334
Tytuł oryginału: Powierzchniowe kompozytowe warstwy żeliwo - cząstki ceramiczne.
Autorzy: A. Pyka, Piotr* Wróbel.
Źródło: W: Dzień Odlewnictwa. Prace Kongresu Studenckich Kół Naukowych "CO-KÓŁ'06", Gliwice-Myślenice-Wisła, 2-5 czerwca 2006 r.. Red.: Jan Szajnar, Jacek Suchoń. Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych. Politechnika Śląska. Gliwice : [Komitet Organizacyjny Międzynarodowych Konferencji Naukowych Instytutu Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych Politechniki Śląskiej], 2006, s. 87-94, bibliogr. 5 poz.
ISBN: 83-89728-25-7
Seria: (Prace Studenckich Kół Naukowych ; Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych. Politechnika Śląska nr 5)
Słowa kluczowe polskie: warstwa kompozytowa ; cząstka ceramiczna ; węglik krzemu ; tlenek glinu ; dwutlenek krzemu ; udar cieplny
Słowa kluczowe angielskie: composite layer ; ceramic particle ; silicon carbide ; aluminium oxide ; silicon dioxide ; thermal shock
Typ publikacji: RK
Język publikacji: POL
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w PŚl.
Lokalizacja Źródła: PŚl. sygn. MgCzO 116560


stosując format:
Nowe wyszukiwanie