Wynik wyszukiwania
Zapytanie: MATRIX FORMALISM 2X2
Liczba odnalezionych rekordów: 1



Przejście do opcji zmiany formatu | Wyświetlenie wyników w wersji do druku | Pobranie pliku do edytora | Przesłanie wyników do modułu analizy | excel | Nowe wyszukiwanie
1/1
Nr opisu: 0000117801
Tytuł oryginału: Jedno- i dwuwarstwowe struktury antyrefleksyjne wytwarzane metodą zol-żel do zastosowań w fotoogniwach krzemowych
Tytuł w wersji angielskiej: Single- and double-layer antireflective structures fabricated via sol-gel method for applications in silicon solar cells
Autorzy: Marcin Skolik, Paweł Karasiński.
Źródło: -Prz. Elektrot. 2017 R. 93 nr 8, s. 73-76, bibliogr. 13 poz.
Punktacja MNiSW: 14.000
p-ISSN: 0033-2097
e-ISSN: 2449-9544
DOI:
Słowa kluczowe polskie: struktura antyrefleksyjna ; fotoogniwo krzemowe ; zol-żel ; ditlenek krzemu ; ditlenek tytanu ; dip-coating ; formalizm macierzy 2x2
Słowa kluczowe angielskie: antireflective structure ; silica photovoltaic cell ; sol-gel ; silica ; titania ; dip-coating ; matrix formalism 2x2
Typ publikacji: A
Język publikacji: POL
Zasieg terytorialny: K
Afiliacja: praca afiliowana w PŚl.
Lokalizacja Źródła: PŚl. sygn. P.677
Informacje o dostępie open-access: open-access-text-version: FINAL_PUBLISHED open-access-licence: OTHER open-access-release-time: AT_PUBLICATION open-access-article-mode: OPEN_JOURNAL
Dostęp on-line:


stosując format:
Nowe wyszukiwanie