Wynik wyszukiwania
Zapytanie: BIAS POTENTIAL
Liczba odnalezionych rekordów: 1



Przejście do opcji zmiany formatu | Wyświetlenie wyników w wersji do druku | Pobranie pliku do edytora | Przesłanie wyników do modułu analizy | excel | Nowe wyszukiwanie
1/1
Nr opisu: 0000014556
Tytuł oryginału: Structure and properties of the Ti+Ti(C,N) coatings obtained in the PVD process on sintered high speed steel
Autorzy: Leszek** Dobrzański, Waldemar Kwaśny, Zbigniew Brytan, R. Shishkov, Boris* Tomov.
Źródło: -J. Mater. Process. Technol. 2004 vol. 157/158, s. 312-316, bibliogr. 9 poz.
Impact Factor: 0.578
p-ISSN: 0924-0136
e-ISSN: 1873-4774
DOI:
Słowa kluczowe polskie: rozpylanie magnetronowe ; powłoka PVD
Słowa kluczowe angielskie: magnetron sputtering ; PVD coating ; bias potential
Typ publikacji: A
Język publikacji: ENG
Zasieg terytorialny: Z
Afiliacja: praca afiliowana w PŚl.
Dostęp on-line:


stosując format:
Nowe wyszukiwanie